公开(公告)号：CN2738207Y

公开(公告)日：2005-11-02

申请号：CN200420117763.6

申请日：2004-10-22

Applicant: 中国科学院力学研究所

Inventor： 潘文霞 ,  孟显 ,  吴承康

IPC: G01D3/028 ,  G01D11/00 ,  G01D21/02

Abstract: 本实用新型涉及一种减扰焓探针，包括一根探针杆外管，在其内套入探针内管，在探针杆外管与探针内管之间插入一进出水分离管，三根管子同轴安装；其特征在于：所述的探针杆外管头部安装一可拆卸的锥形外壳头罩，锥形外壳头罩中心开有圆孔，锥形外壳头罩与探针内管之间为螺纹配合；所述的进出水分离管的头部呈锥形。采用锥形探针，减小在测量过程中对射流气体的扰动和提高测量准确度；并可在同样测量效果的前提下适当增大探针杆体的冷却水通路，省去高压水泵及相关机构。

公开(公告)号：CN2737806Y

公开(公告)日：2005-11-02

申请号：CN200420117760.2

申请日：2004-10-22

Applicant: 中国科学院力学研究所

Inventor： 潘文霞 ,  马维 ,  林烈 ,  吴承康

IPC: C23C24/00

Abstract: 本实用新型涉及一种用于制备微组织结构致密、孔隙分布均匀和表面粗糙度低的涂层的送粉系统，包括高压气瓶通过气体管道连通在压力容器的上腔壁上，压力容器的顶部安装一程控电机，程控电机的转轴上安装一组搅拌叶片，该转轴和搅拌叶片插入压力容器的底部；压力容器的下腔壁上连通一根供料管道，该供料管道末端安装一送粉喷嘴，在压力容器的上腔壁上还设置一加料口。采用本实用新型的系统不仅可以定量性很好地对纳米颗粒的粉体进行送粉，而且可以很好地对中心粒度为10微米以下的粉体进行定量送粉。该压力容器内壁经过处理，和搅拌叶片采用有机复合物有较好的抵抗硬质颗粒磨损的性能，防止了叶片磨损对粉体以及沉积出的涂层的杂质混入污染。

公开(公告)号：CN201575882U

公开(公告)日：2010-09-08

申请号：CN200920278311.9

申请日：2009-12-22

Applicant: 中国科学院力学研究所

Inventor： 潘文霞 ,  吴承康 ,  黄河激 ,  孟显

IPC: G01L5/00

Abstract: 本实用新型公开了一种基于气动原理的小推力测力器，主要包括平板、配重件、轴承组、轴、支撑件和感应件，所述的平板用于接受小火箭发动机产生的高速喷流的冲击；该平板和所述的配重件通过所述的支撑件固定于所述的轴承组，并分别固定于所述的支撑件的两端，所述的配重件用以调节系统的重心；所述的轴承组可沿轴滑动；当高速喷流冲击平板时，该冲击力最终会通过支撑件、轴承组、轴等作用于感应件，从而得到推力。本实用新型的测力器结构简单、调试方便，适用范围广，不受推力器结构设计的种类、重量、形状的影响。

公开(公告)号：CN2903956Y

公开(公告)日：2007-05-23

申请号：CN200620007625.1

申请日：2006-03-10

Applicant: 中国科学院力学研究所

Inventor： 潘文霞 ,  孟显 ,  吴承康

IPC: G01M15/02 ,  F02K9/44

Abstract: 本实用新型涉及一种用于微小推力测量装置的低扰动供气管，包括直管和螺旋状管，所述直管有两段，第一直管和第二直管，两段直管和推力测量方向垂直；所述螺旋状管的两端分别与第一直管和第二直管密封连通。本实用新型的供气管在充气过程中沿发动机轴线上不会有附加的作用力产生，因此不会影响测量结果，从而提高了推力测量精度。

公开(公告)号：CN2447056Y

公开(公告)日：2001-09-12

申请号：CN00254346.X

申请日：2000-09-25

Applicant: 中国科学院力学研究所

Inventor： 马维 ,  潘文霞 ,  张文宏 ,  吴承康

IPC: B05B7/24 ,  B05B7/18 ,  B05B7/22

Abstract: 热喷涂细粉定量供给装置在粉末料斗的搅拌器上同轴安装了叶片和导流件，使粉末完全松散充分运动，顺利到达送粉轮上；在送粉室内壁粉末出口的上方的拨动件把粉末从运粉槽上拨下并顺利送入送粉管；送粉管中部通过一连杆与振动器相连。适用于低气压或大气压两种工作环境的重力或吹气两种状态下的热等离子体喷涂工艺的定量送粉，特别是平均粒度小于20微米的细粉供给。

公开(公告)号：CN2528538Y

公开(公告)日：2003-01-01

申请号：CN01279072.9

申请日：2001-12-24

Applicant: 中国科学院力学研究所

Inventor： 吴承康 ,  潘文霞 ,  马维

IPC: B05B5/06 ,  B05B7/22

Abstract: 低气压层流等离子体喷涂装置属于金属材料表面处理设备。本装置包括真空室、等离子体射流发生器、供粉器、电源、气源和冷却水源等。其中等离子体发生器是层流等离子体射流发生器，在其阳极和阴极之间有一中间段，通过发生器连接机构安装在真空室上并可以径向或轴向移动；真空室的底面安装有旋转、移动多个自由度、并能对工件水冷的工件台，工件台和射流发生器之间有挡板机构，真空室与机械真空泵之间有水冷过滤器。本实用新型装置功能完善、结构简单、制造费用少、操作便捷，适用于多种构形工件的等离子体喷涂涂层制备、表面改性和处理加工，获得质地致密、孔隙率低、光洁度高的涂层。