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公开(公告)号：CN102744654B
公开(公告)日：2015-01-21
申请号：CN201210265722.0
申请日：2012-07-30
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 一种双真空室离子束抛光系统，包括真空工作室，真空工作室旁设用于装卸工件的辅助真空室，真空工作室与辅助真空室间设用于控制二者通断的插板阀，真空工作室和辅助真空室内设有可在二者之间传送工件的工件传送装置。该系统可提高抛光效率、降低加工成本。一种抛光方法，S1）在真空工作室旁的辅助真空室内将工件安装在工件传送装置上，关闭辅助真空室，将辅助真空室抽气至真空，打开插板阀，通过工件传送装置将工件送到真空工作室并定位装夹，工件传送装置退回辅助真空室，关闭插板阀；S2）离子束抛光加工；S3）打开插板阀，工件传送装置进入真空工作室卸下工件、并带回辅助真空室，关闭插板阀，辅助真空室充气至大气压，打开辅助真空室取出工件。
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公开(公告)号：CN102757186B
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201210267218.4
申请日：2012-07-30
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
IPC: C03C23/00
Abstract: 一种高精度高动态性能的五轴离子束加工装置及其控制方法，该装置包括数控系统、机架组件、X轴直线运动组件、Y轴直线运动组件、Z轴直线运动组件、A轴直驱组件、B轴直驱组件、工件输送组件、离子源，通过五个方向上的驱动实现了离子源的精确运动。该方法为：沿光学镜面法向加工时，在工件坐标系内光学镜面点的位姿经旋转变化转换为机床坐标系内坐标点，并由法向等靶距加工，解算出机床各轴的运动位姿；再采用S型速度加工模式，解算出机床各轴在各个加工点的速度。本发明具有运动平稳、刚性好、精度高、动态性能高等优点。
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公开(公告)号：CN102672550B
公开(公告)日：2014-06-25
申请号：CN201210135948.9
申请日：2012-05-04
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 本发明公开了一种应用于离子束抛光系统的离子束确定性添加装置，包括支撑架、支撑架中装设的离子源和受该离子源发出的离子束轰击的靶材，支撑架包括有固定靶材的靶材固定夹具，支撑架上设置有用于截取靶材溅射原子流的光阑；支撑架底部装设有用于安装至离子束抛光系统的安装法兰。本发明还公开了一种离子束抛光系统，包括真空室以及相互连接的运动系统和离子源系统，离子束抛光系统中设有前述添加装置，正对添加装置的离子束发射方向布置有材料去除工艺用夹具，正对添加装置的溅射原子流方向布置有材料添加工艺用夹具。本发明的装置结构简单、制作安装方便，可有效改善光学元件的表面粗糙度、修正光学镜面中高频误差。
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公开(公告)号：CN103456610A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201310366741.7
申请日：2013-08-21
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
IPC: H01L21/263 , G02B5/08
Abstract: 本发明公开了一种SiC光学材料加工设备，包括电感耦合等离子体发生装置、工作气体供给源（8）和反应气体供给源（9），所述反应气体供给源（9）中装有能通过电感耦合等离子体发生装置激发后与SiC发生化学反应的反应气体，所述电感耦合等离子体发生装置包括等离子体炬管（34）和套设于等离子体炬管（34）外的感应线圈（35），所述工作气体供给源（8）和反应气体供给源（9）与等离子体炬管（34）相连，所述感应线圈（35）的一端与射频电源（4）相连，所述感应线圈（35）的另一端通过可调电阻器R1接地。本发明具有结构简单、成本低廉，加工过程无亚表面损伤、无残余应力层产生，加工效率高等优点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102896558A
公开(公告)日：2013-01-30
申请号：CN201210394410.X
申请日：2012-10-17
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 本发明公开了一种基于化学机械抛光和离子束抛光组合工艺的氟化钙单晶超精密加工方法，包括以下步骤：先采用化学机械抛光方法对氟化钙单晶先进行抛光，去除氟化钙表面的表面损伤和亚表面损伤，露出理想的原子层，获得超光滑的晶体表面；再采用离子束抛光方法对前述步骤获得的超光滑的晶体表面进行面形精度提升，实现纳米级或亚纳米级面形精度和超光滑表面的氟化钙晶体超精密加工。本发明的加工方法能充分利用化学机械抛光和离子束抛光两种技术手段各自的技术优势，且加工效率高、加工精度高、产品质量好。
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公开(公告)号：CN102744653A
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：CN201210265684.9
申请日：2012-07-30
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
IPC: B24B1/00
Abstract: 本发明公开了一种用于大口径光学零件离子束抛光机的大镜装卸装置，包括承载装置、用于运输完成测量后的工件、并在运输过程中使工件的待加工面保持向下的翻转装置以及用于承接翻转装置所输送的工件、并将工件送至抛光机的离子束抛光真空室内的输送装置，所述承载装置包括导轨以及设于离子束抛光真空室内、并用于承接输送装置所输送的工件的内机架，所述输送装置设于导轨上，并沿所述导轨运动。该装置结构简单、操控方便、可保证离子束抛光机工作环境洁净度、提高离子束抛光机加工精度和加工效率、延长设备使用寿命。本发明还公开了用上述的大镜装卸装置在离子束抛光机上装卸大口径光学零件的方法。
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公开(公告)号：CN101898324B
公开(公告)日：2011-11-16
申请号：CN201010239124.7
申请日：2010-07-28
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
IPC: B24B13/00
CPC classification number: H01J2237/3174
Abstract: 本发明公开了一种高陡度镜面的离子束抛光方法，包括以下步骤：(1)测算镜面各点的入射角θ；(2)根据模型确定各点的补偿系数K；(3)利用干涉法测定工件的初始面形误差E；(4)根据K对E进行补偿得到补偿面形误差E′；(5)通过去除函数实验获得离子束垂直入射镜面时的去除函数R；(6)根据E′和R确定出驻留时间分布T并生成数控代码；(7)利用去除函数的发生装置和生成的数控代码进行加工，加工时离子束沿平行于工件光轴方向入射镜面，通过三轴联动系统对镜面进行修形；(8)重复前述步骤直至修形结果满足面形收敛精度的要求。本发明方法在加工高陡度镜面时具有操作简单、稳定性好、加工精度高、可控性强、对设备要求低等优点。
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公开(公告)号：CN102092929A
公开(公告)日：2011-06-15
申请号：CN201010578602.7
申请日：2010-12-08
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
IPC: C03B33/02
CPC classification number: Y02P40/57
Abstract: 本发明公开了一种用于非球面加工的离子束修形加工方法，包括以下步骤：先通过检测、实验获取面形误差分布数据R和去除函数P；然后建立离子束修形加工路径，并测算该光学曲面各点的入射角φ；利用计算模型和驻留时间迭代算法计算驻留时间密度函数和材料去除量M，再计算各加工点处离子束的驻留时间；再根据已建立的加工路径和驻留时间，对待加工光学元件的光学表面进行线性三轴联动的数控修形加工；再进行面形误差检测，根据加工前、后的面形误差分布数据和M对P进行校正，使用校正后的去除函数重复前述步骤进行迭代加工，直到满足面形收敛精度要求，加工结束。本发明的加工方法稳定性好，加工精度高，可控性强，对设备要求低。
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公开(公告)号：CN101456681B
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN200910042429.6
申请日：2009-01-06
Applicant: 中国人民解放军国防科学技术大学
IPC: C03C23/00
Abstract: 本发明公开了一种能修除光学元件局部误差的离子束极轴加工方法，包括以下步骤：首先通过实验获取去除函数，然后对去除函数进行回转对称处理，再利用波面干涉仪获取元件的面形误差函数，建立成型模型并计算驻留时间的密度分布，在阿基米德路径中求解驻留时间，然后视情况调整螺距，并根据扇形阿基米德螺线离散信息以及各离散扇形区域的合成运动速度生成数控代码，进行第一次数控修形加工，最后视情况重复一次以上的上述加工步骤直至满足工件的精度要求。本发明的加工方法降低了镜面尺寸对加工系统尺寸的要求，节约了加工成本，克服了传统极轴加工方式不能对镜面的非回转对称误差进行误差修正的缺陷，保证了加工效率。
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