导电性粘结剂、导电性薄膜、导电性间隔物及它们的制法

    公开(公告)号:CN111951996A

    公开(公告)日:2020-11-17

    申请号:CN202010810748.3

    申请日:2016-01-18

    Abstract: 本发明提供导电性粘结剂、导电性薄膜、导电性间隔物及它们的制法。导电性粘结剂含有银包覆粒子和绝缘性的粘合剂树脂,银包覆粒子具备:核粒子,由树脂粒子构成;及银包覆层,通过进行化学镀银而形成于该核粒子的表面,银包覆层所含的银的量相对于银包覆粒子100质量份为80~90质量份,向X射线衍射装置所附带的试样支架填充银包覆粒子并在2θ/θ=30~120deg的范围内照射X射线,根据获得的衍射线计算的银的微晶直径在40~80nm范围,银包覆层不留间隙地包覆核粒子的表面,核粒子为由丙烯苯乙烯共聚物树脂、即AS树脂构成的球状粒子,平均粒径为0.5~40μm。

    金属基底基板
    44.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111557126A

    公开(公告)日:2020-08-18

    申请号:CN201980007558.3

    申请日:2019-01-24

    Abstract: 本发明提供一种金属基底基板(1),其依次层叠金属基板(10)、绝缘层(20)及金属箔(40)而成,所述金属基底基板的特征在于,所述绝缘层(20)与所述金属箔(40)之间具有密合层(30),所述密合层(30)将单位以GPa表示的在25℃的杨氏模量设为E,将单位以μm表示的厚度设为T,将单位以W/mK表示的厚度方向的导热率设为λ时,满足下述式(1)~式(3):(1)E≤1;(2)5≤T/E;(3)T/λ<20。

    低折射率膜形成用组合物及其制法、低折射率膜的形成法

    公开(公告)号:CN105273622B

    公开(公告)日:2018-12-04

    申请号:CN201410238537.1

    申请日:2014-05-30

    Abstract: 本发明提供用于形成低折射率且反射防止效果较高而且与基材的密合性或被膜表面的防水性和防污性优异的低折射率膜的低折射率膜形成用组合物及其制造方法以及低折射率膜的形成方法。低折射率膜形成用组合物是在烷氧基硅烷(A)中以预定比例混合水(B)、无机酸或有机酸(C)和有机溶剂(D)而生成上述烷氧基硅烷(A)的水解物,进一步在该水解物中以预定的比例混合在液体介质中分散有气相二氧化硅粒子的硅溶胶(E)来制备。

    ITO导电膜形成用涂料及ITO导电膜的形成方法

    公开(公告)号:CN104017395B

    公开(公告)日:2017-10-10

    申请号:CN201410049623.8

    申请日:2014-02-13

    Abstract: 本发明提供一种ITO导电膜形成用涂料及ITO导电膜的形成方法,其能够抑制包含ITO导电膜的透明电极在高温高湿下的电阻值的上升。本发明的ITO导电膜形成用涂料中,包含ITO粉末、分散介质及表面处理剂,分散介质为醇系溶液,表面处理剂为烷基的碳数为2以下的硅酸酯,或者,表面处理剂为具有氨基或巯基作为端基的硅烷偶联剂。相对于ITO粉末100质量%,硅酸酯含有1~30质量%。并且,相对于ITO粉末100质量%,硅烷偶联剂含有0.1~30质量%。

    低折射率膜形成用液体组合物

    公开(公告)号:CN107207907A

    公开(公告)日:2017-09-26

    申请号:CN201680006229.3

    申请日:2016-01-20

    Abstract: 本发明的低折射率膜形成用液体组合物通过混合硅醇盐的水解物与硅溶胶,进一步混合乙二醇醚的有机溶剂来制备,所述硅醇盐的水解物通过在作为硅醇盐的四甲氧基硅烷或四乙氧基硅烷的醇溶液中添加水与硝酸的混合物并搅拌来生成,硅溶胶通过念珠状胶体二氧化硅粒子分散到液体介质中而得到。所述乙二醇醚是具有140℃以上且160℃以下的闪点的溶剂。

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