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公开(公告)号：CN220796675U
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202322564830.4
申请日：2023-09-20
Applicant: 捷捷微电(南通)科技有限公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/673
Abstract: 本申请提供了一种炉管填充片与晶圆加工装置，涉及半导体技术领域。该炉管填充片置于晶舟的底部与顶部，炉管填充片包括：硅衬底；位于硅衬底一侧的氧化层；位于氧化层的远离硅衬底一侧的氮化硅层；其中，氧化层的厚度大于氮化硅层的厚度。本申请提供的炉管填充片与晶圆加工装置具有不易出现变形翘曲，且避免了杂质玷污的优点。
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公开(公告)号：CN220306224U
公开(公告)日：2024-01-05
申请号：CN202321895241.8
申请日：2023-07-18
Applicant: 捷捷微电(南通)科技有限公司
IPC: H01L21/673
Abstract: 本申请提供了一种晶舟结构与晶圆加工设备，涉晶舟技术领域。该晶舟结构包括第一端板、第二端板、第一支撑柱、第二支撑柱、第三支撑柱以及第四支撑柱，第一支撑柱、第二支撑柱、第三支撑柱以及第四支撑柱的两端均分别与第一端板、第二端板可拆卸连接，第一支撑柱、第二支撑柱、第三支撑柱以及第四支撑柱的结构相同且均设置有多个隔板；其中，第一支撑柱、第二支撑柱、第三支撑柱以及第四支撑柱的多个隔板用于间隔出多个载片区，每个载片区均用于承载晶圆。本申请提供的晶舟结构与晶圆加工设备具有降低了使用成本的优点。
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公开(公告)号：CN218381133U
公开(公告)日：2023-01-24
申请号：CN202221674566.9
申请日：2022-06-29
Applicant: 捷捷微电(南通)科技有限公司
IPC: G01F1/52
Abstract: 本申请提供了一种显影液测量组件及系统，涉及测量工具技术领域。该显影液测量组件包括导流槽与汇流槽，导流槽与汇流槽连接，且汇流槽包括出口，导流槽安装于显影液喷嘴的下方，汇流槽的出口正对测量工具；其中，导流槽用于将显影液喷嘴流出的显影液导流至汇流槽；汇流槽用于将显影液汇聚并流入测量工具。本申请提供的显影液测量组件及系统具有使得对显影液的测量更加方便，且成本较低的优点。
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公开(公告)号：CN217484693U
公开(公告)日：2022-09-23
申请号：CN202221716856.5
申请日：2022-06-28
Applicant: 捷捷微电(南通)科技有限公司
IPC: G03F7/16
Abstract: 本申请提供了一种涂胶显影设备与涂胶显影系统，涉及涂胶显影技术领域。该涂胶显影设备包括设备本体、第一管路、通道转换器件以及第二管路，通道转换器件分别与第一管路、第二管路连接，第一管路用于连接药液箱，第二管路与设备本体连接；其中，当通道转换器件处于第一导通状态时，药液箱的药液通过第一管路、第二管路流向设备本体；当通道转换器件处于第二导通状态时，第一管路与第二管路关断，且药液箱的药液通过第一管路、通道转换器件排出。本申请提供的涂胶显影设备与涂胶显影系统具有容易去除气泡，不易造成产品缺点的优点。
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公开(公告)号：CN222867617U
公开(公告)日：2025-05-13
申请号：CN202421869486.8
申请日：2024-08-02
Applicant: 捷捷微电(南通)科技有限公司
IPC: H01J37/04 , H01J37/317 , H01L21/265 , H01B17/56
Abstract: 本申请提供了一种半导体离子注入设备及系统，涉及半导体技术领域。该半导体离子注入设备包括灯丝和绝缘组件，灯丝包括第一引脚和第二引脚，绝缘组件包括第一绝缘组件、第二绝缘组件和第三绝缘组件。其中，第一绝缘组件的一端套设于第一引脚上，第二绝缘组件的一端套设于第二引脚上，第一绝缘组件的另一端和第二绝缘组件的另一端通过第三绝缘组件连接。第一绝缘组件相对于第二绝缘组件的一侧设有多个凹槽和/或第二绝缘组件相对于第一绝缘组件的一侧设有多个凹槽。本申请通过在绝缘组件上设置多个凹槽，增大了绝缘组件的接触面积，使得绝缘组件的易导通面具有断层，避免第一绝缘组件和第二绝缘组件接触导致短路，提高了离子注入设备的使用效率。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN222672985U
公开(公告)日：2025-03-25
申请号：CN202421456490.1
申请日：2024-06-24
Applicant: 捷捷微电(南通)科技有限公司
IPC: H01L21/67 , H01L21/683
Abstract: 本实用新型涉及半导体设备技术领域，具体而言，涉及一种晶圆承载台取片真空管路设备。晶圆承载台取片真空管路设备包括承载平台、第一管道、第二管道、第三管道、真空控制阀和三通控制阀；第二管道能够作为真空运输的管道，以使得从承载平台、第一管道、三通控制阀、第二管道形成真空吸附管路，而晶圆能够吸附在承载平台上；第三管道的一端与三通控制阀连接；另一端被配置为能够作为惰性气体的输入管道，以使得从第三管道、三通控制阀、第一管道、承载平台形成中和管路，以减少承载平台、第一管道中的负压。如此能够简单快捷地实现对承载平台上晶圆的取下作业，且避免对晶圆承载平台、晶圆造成损伤。
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公开(公告)号：CN222635938U
公开(公告)日：2025-03-18
申请号：CN202421047098.1
申请日：2024-05-14
Applicant: 捷捷微电(南通)科技有限公司
Abstract: 本申请提供了一种推拉力测试装置，涉及芯片检测技术领域。其包括安装台、测试组件、载物件以及动力单元。其中，测试组件和载物件沿着安装台的长度方向依次设置于安装台；载物件用于放置芯片框架底座；测试组件包括推力计和推针，推力计设置于安装台上，推针一端与推力计连接，另一端朝着靠近载物件的方向延伸；动力单元设置于安装台且与推力计连接，用于带动推力计沿着靠近或远离载物件。基于上述设置，推针一端与推力计连接，另一端沿着安装台的长度方向延伸，也即推针横向水平设置，避免了其在推开芯片的过程中出现变形或断裂的情况，保证了推力计所获取的数值的准确性。
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公开(公告)号：CN222300641U
公开(公告)日：2025-01-03
申请号：CN202421077509.1
申请日：2024-05-16
Applicant: 捷捷微电(南通)科技有限公司
IPC: H01L21/677 , H01L21/67
Abstract: 本实用新型提供了一种晶圆处理系统以及料盒翻转装置，涉及半导体制造领域。该晶圆处理系统包括上料子系统以及晶圆加工机台。上料子系统包括倒片机构以及料盒翻转机构，晶圆加工机台包括上料口。料盒翻转机构设置于上料口与倒片机构之间，包括马达、传动皮带、翻转轴、底座以及料盒定位块。翻转轴与马达通过传动皮带机械连接。底座固定于翻转轴上，位于翻转轴外围。料盒定位块固定于底座上远离翻转轴的一端。本实用新型可以有效提高晶圆料盒在翻转时的安全性。
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公开(公告)号：CN222277461U
公开(公告)日：2024-12-31
申请号：CN202421306328.1
申请日：2024-06-07
Applicant: 捷捷微电(南通)科技有限公司
Abstract: 本申请提供一种电动工具，涉及半导体技术领域，包括本体，本体上可拆卸连接有用于和光刻机的丝杠的移动轴承对接的锁口部，本体内设置有电源、与电源连接的电源开关、调速模块、与调速模块连接的马达，调速模块和马达还分别与电源开关连接；马达和锁口部连接，电源开关驱动马达带动锁口部正反转，并通过调速模块调整锁口部的转速，以用于驱动光刻机的丝杠运动对丝杠进行润滑上油。对小空间作业有优势，实时调整转速和旋转正反方向，节省了大量的人为操作时间，进而高效的完成光刻机丝杠上油的保养复机动作；实现自动化作业动作替代手动操作，实现效率与操作安全性的巨大提升，降低了对作业人员的经验要求；能够适用不同规格的丝杠润滑上油作业。
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公开(公告)号：CN220569645U
公开(公告)日：2024-03-08
申请号：CN202322183843.7
申请日：2023-08-14
Applicant: 捷捷微电(南通)科技有限公司
Abstract: 本实用新型的实施例提供了一种机台保养排气装置，涉及机台保养领域。该机台保养排气装置包括防护罩以及排气管，所述防护罩设置于机台主腔体的外部，所述防护罩的侧壁设有作业部，所述排气管和所述防护罩的顶部连接，所述排气管外接排风系统。防护罩直接罩设在机台主腔体的外部，对机台主腔体进行封闭，避免反应气体乱窜发生外泄现象，由于反应气体一般向上流动，将作业部设置于防护罩的侧壁，用户通过作业部能够擦拭机台主腔体的外壁，对其进行清洁保养，同时将作业部设置在防护罩的侧壁能阻挡隔绝反应气体向四周乱窜，避免用户吸入反应气体，排气管外接的排风系统工作后，能够将防护罩内的反应气体从上方抽吸排走，确保反应气体能够抽吸干净。
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