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公开(公告)号:CN106890755A
公开(公告)日:2017-06-27
申请号:CN201510957914.1
申请日:2015-12-18
Applicant: 中烟机械技术中心有限责任公司
CPC classification number: B05C1/10 , B05C1/16 , B05C11/1002 , B05C21/00
Abstract: 本发明公开了一种带状材料的涂胶装置,包括固定设置的外鼓轮,外鼓轮内活动设置有内鼓轮;内鼓轮固定连接阀芯,驱动元件能够带动阀芯及内鼓轮相对于外鼓轮旋转;阀芯与内鼓轮之间形成一沿轴向延伸的流体容置腔;流体容置腔与供应装置的输送通道相连通;内鼓轮上分布有多个内鼓轮通孔,外鼓轮沿轴向分布有多个外鼓轮通孔,外鼓轮上固定设置有喷嘴体,喷嘴体沿轴向分布有多个喷嘴体孔,喷嘴体孔通过喷嘴缝与外部相连通。本发明能够在保证滤嘴烟支产品可靠性的基础上,完成滤嘴接装纸的均匀、高速上胶,将流体以特定的图案和形状涂覆到快速移动的带状包装材料上,提升滤嘴烟支抽吸时的舒适程度,并减少抽吸时有害物质的排放。
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公开(公告)号:CN106392472A
公开(公告)日:2017-02-15
申请号:CN201610805676.7
申请日:2016-09-07
Applicant: 马鞍山纽盟知识产权管理服务有限公司
Inventor: 张树霞
IPC: B23P15/00 , B05C1/10 , B05C13/02 , B05D3/02 , B05D5/00 , B65H51/04 , B65H54/28 , B65H54/24 , B21B37/00
CPC classification number: B23P15/00 , B05C1/10 , B05C13/02 , B05D3/0254 , B05D5/00 , B21B37/00 , B65H51/04 , B65H54/24 , B65H54/28 , B65H2701/33
Abstract: 本发明涉及一种管子的生产工艺及其制造设备,生产工艺步骤为:a上架,材料依次通过起吊装置、卷料架、机架进入传输装置;b涂料,材料进行涂料,感应装置感应涂料的状况涂料良好的材料进入烘干装置;c卷材,材料传送到收卷装置与纠偏装置对材料进行收卷;d焊接,卷材好的材料进行焊接;e冷却,管子传入冷却装置进行冷却;f去毛疵,对管子的内圈与外圈进行去毛疵;g再冷却,管子再次冷却降温;h制样,对管子表面进行刻印;I截管切割,根据不同的需求对管子进行切割;j磨边,对管子切割处进行磨边;k倒角,将管子进行倒角并对其进行检验,本发明提供一种可生产高质量管子,工艺简单、设备工作效率高的一种管子的生产工艺及其制造设备。
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公开(公告)号:CN103313683B
公开(公告)日:2017-02-08
申请号:CN201180060002.4
申请日:2011-10-13
Applicant: 干燥技术公司
IPC: A61F13/15 , A61F13/532 , A61F13/539
CPC classification number: A61F13/15585 , A61F13/15658 , A61F13/5323 , A61F13/539 , A61F2013/530562 , A61F2013/530591 , B05C1/10 , B05C19/04 , B05D1/32 , B05D2401/32 , B32B3/28 , B32B5/16 , B32B5/30 , B32B37/0076 , B32B37/24 , B32B2555/02 , D04H1/465 , Y10T428/239 , Y10T428/24893
Abstract: 本发明涉及吸收剂结构,优选用于吸收剂产品,如用于食品、消费品、家用、建筑和结构、美容和医疗行业、以及用于个人卫生行业。基本上无纤维素吸收剂结构经由初始较小囊袋和随后较大隔间连续固定吸收性聚合物材料,允许吸收性聚合物材料在干状态、部分和完全载液状态下的优异流体管理。优选这种吸收剂结构体积增加是结合基本上永久初级附着网格而成的临时二级附着图案允许通过分离二级附着作用从初始较小体积释放为更大体积所致。另外,根据本发明一个实施方式的吸收剂结构由于吸收剂结构暴露于液体而非均匀溶胀形成流体管理表面结构。本发明预见在对于改善的柔、薄、轻量吸收剂结构之需方面将会克服现有技术在对于最适合液体的吸收、分布和保持期间的吸收性问题。
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公开(公告)号:CN105821676A
公开(公告)日:2016-08-03
申请号:CN201610230402.X
申请日:2016-04-13
Applicant: 浙江阿波罗皮革制品有限公司
CPC classification number: D06N3/00 , B05C1/10 , B05C9/04 , B05C9/14 , B05C11/10 , B05C13/02 , B23K26/40 , D06N3/0002
Abstract: 本发明提供了一种消音阻尼降噪合成沙发革的制作方法。它解决了现有制造方法的步骤过于复杂,且需要人工操作,制造效率低等技术问题。本消音阻尼降噪合成沙发革的制作方法,该制作方法包括以下步骤:a、选择基层:选择市场上可以买到的牛皮或者羊皮作为基层,通过切割装置将基层裁剪成矩形;b、涂覆阻燃层:通过皮革喷涂装置在基层的一侧面涂覆阻燃层;复合:通过复合机在阻燃层的另一侧面复合一层隔音层,隔音层的材料为石棉。本发明具有制作简单的优点。
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公开(公告)号:CN105413951A
公开(公告)日:2016-03-23
申请号:CN201510906873.3
申请日:2015-12-04
Applicant: 王本
Inventor: 王本
Abstract: 本发明提供一种具有储存供给涂料的多节段的滚筒刷,包括第一输料管、第二输料管、滚筒刷、支撑弹簧、固定螺栓、连通管、进料口和手柄,所述第一输料管和第二输料管的底部均安装在手柄的上端,所述第一输料管、第二输料管和手柄均为中空结构,且第一输料管、第二输料管和手柄通过固定螺栓活动连接,所述第一输料管和第二输料管均通过连通管与手柄相连通,且第一输料管和第二输料管上均安装有滚筒刷,所述第一输料管和第二输料管与手柄的侧面通过支撑弹簧固定连接,所述手柄上设置有进料口。本发明结构简单合理、经济实用、使用方便,大大提高了工作效率,节省了人们的时间。
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公开(公告)号:CN103648456B
公开(公告)日:2015-04-15
申请号:CN201280033834.1
申请日:2012-07-05
Applicant: 利卫多株式会社
Inventor: 丸畠和也
CPC classification number: B32B37/24 , A61F13/15658 , B05C1/0808 , B05C1/0813 , B05C1/10 , B05C1/16 , B05C5/0233 , B05C5/0245 , B05C19/00 , B05C19/04 , B05C19/06 , B32B37/20 , B32B2555/02
Abstract: 一种吸收片制造装置,包括在沿圆周方向设置有多个通孔(212)的圆筒部(21)。圆筒部(21)转动,从而高吸收性树脂颗粒从圆筒部(21)内的颗粒存储空间(217)依次填充到所述通孔(212)。在圆筒部(21)的底部的颗粒供给区域(210)中,圆筒部(21)的内表面(215)覆盖有隔离部(25),使得填充有颗粒的各个通孔(212)与颗粒存储空间(217)隔离。在此状态下,颗粒从通孔(212)抛出。如上所述,仅抛出填充于各通孔(212)中的颗粒,因此能够容易地从通孔(212)供给所需量的颗粒。
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公开(公告)号:CN101495242B
公开(公告)日:2013-03-27
申请号:CN200680047231.1
申请日:2006-12-15
Applicant: 吉布尔.施密德有限责任公司
Inventor: H·卡普勒
CPC classification number: B05C1/025 , B05C1/027 , B05C1/0808 , B05C1/0813 , B05C1/10 , B05C1/165 , B05C13/02 , H01L21/6715 , H01L21/67706 , H01L21/6776 , H05K3/0085 , H05K2203/0143 , H05K2203/1509
Abstract: 本发明涉及处理硅晶圆片(2)表面用的装置(1,1′),包括在一个由输送辊(3)决定的输送表面(5)上输送硅晶圆片(2)用的输送辊(3)和至少一个用液体处理介质(10)处理硅晶圆片(2)用的输送机构(3a)。该输送机构(3a)以这样一种方式布置在输送表面(5)以下,使之与输送平面接触,用以在输送机构与衬底表面的直接接触中用处理介质(10)湿润面向下的衬底表面用的。
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公开(公告)号:CN101513630A
公开(公告)日:2009-08-26
申请号:CN200810174260.5
申请日:2004-09-21
Applicant: 诺德森公司
Abstract: 本发明涉及一种将流体应用于衬底的方法和装置,特别是将粘合剂应用在衬底(3)上的方法和装置,其中从流体源将流体输送在涂料辊(8)的圆周表面(9)上,所述涂料辊(8)通过轴承转动地安装在外壳上,所述涂料辊(8)的圆周表面(9)以这样一种方式与衬底(3)接触,以便将流体从所述涂料辊(8)的圆周表面(9)施加在衬底(3)上。根据本发明,从至少两个不同流体源将流体输送给所述涂料辊(8)的圆周表面(9),随后输送在衬底(3)上。
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公开(公告)号:CN101495242A
公开(公告)日:2009-07-29
申请号:CN200680047231.1
申请日:2006-12-15
Applicant: 吉布尔.施密德有限责任公司
Inventor: H·卡普勒
CPC classification number: B05C1/025 , B05C1/027 , B05C1/0808 , B05C1/0813 , B05C1/10 , B05C1/165 , B05C13/02 , H01L21/6715 , H01L21/67706 , H01L21/6776 , H05K3/0085 , H05K2203/0143 , H05K2203/1509
Abstract: 本发明涉及处理硅晶圆片(2)表面用的装置(1,1′),包括在一个由输送辊(3)决定的输送表面(5)上输送硅晶圆片(2)用的输送辊(3)和至少一个用液体处理介质(10)处理硅晶圆片(2)用的输送机构(3a)。该输送机构(3a)以这样一种方式布置在输送表面(5)以下,使之与输送平面接触,用以在输送机构与衬底表面的直接接触中用处理介质(10)湿润面向下的衬底表面用的。
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