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公开(公告)号:CN105745242A
公开(公告)日:2016-07-06
申请号:CN201480063215.6
申请日:2014-11-25
Applicant: 陶氏环球技术有限责任公司
CPC classification number: C08G18/4808 , C08G18/10 , C08G18/12 , C08G18/2063 , C08G18/4837 , C08G18/485 , C08G18/4854 , C08G18/7657 , C08G18/797 , C08G18/3206
Abstract: 一种聚氨酯反应体系包括具有至少一种聚异氰酸酯的异氰酸酯组分和具有存储稳定的多元醇组分的异氰酸酯反应性组分,所述存储稳定的多元醇组分在23℃下为单相液体混合物,其包括第一聚醚多元醇以及第二聚醚多元醇。第一聚醚多元醇的含量为以多元醇组分的总重量计20wt%至90wt%,为具有1500g/mol至1975g/mol的数均分子量的二醇类聚氧丙烯?聚氧乙烯聚醚多元醇,并且具有以第一聚醚多元醇的总重量计26wt%至34wt%的聚氧乙烯含量。所述第二聚醚多元醇的含量为以多元醇组分总重量计10wt%至80wt%,具有750g/mol至4000g/mol的数均分子量并且具有高于23℃的熔点。
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公开(公告)号:CN105313003A
公开(公告)日:2016-02-10
申请号:CN201510329884.X
申请日:2015-06-15
Applicant: 罗门哈斯电子材料CMP控股股份有限公司 , 陶氏环球技术有限责任公司
CPC classification number: B24B37/24 , B24B37/205 , G02B1/12 , H01L21/31053
Abstract: 本发明提供一种化学机械抛光垫,其含有:具有组合物和抛光表面的聚氨基甲酸酯抛光层;其中所述聚氨基甲酸酯抛光层组合物展现≥0.5mg(KOH)/g的酸值;其中所述抛光表面被调适用于抛光衬底;且其中所述抛光表面展现≥80%的调整耐受性。
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公开(公告)号:CN104024313A
公开(公告)日:2014-09-03
申请号:CN201280064473.7
申请日:2012-12-20
Applicant: 陶氏环球技术有限责任公司
IPC: C08J9/00
CPC classification number: C08J9/146 , C08F2222/1026 , C08G61/12 , C08G2261/135 , C08G2261/334 , C08G2261/42 , C08G2261/76 , C08J9/14 , C08J2201/022 , C08J2201/026 , C08J2205/10 , C08J2333/14 , C08J2365/00 , C08J2367/00
Abstract: 聚合物泡沫由双组分泡沫体系制成。所述泡沫体系包括A方组分,其包含多官能迈克尔受体和沸点温度在-40℃至+100℃范围内的发泡剂。所述体系还包括B方组分,其包含多官能碳-迈克尔供体、表面活性剂和沸点温度在-40℃至+100℃范围内的发泡剂。每个组分的粘度是2,500cP或更低。通过分别对所述组分加压、然后分别对它们减压使得它们各自至少部分膨胀来制造泡沫。所述部分膨胀的材料然后在碳-迈克尔反应催化剂存在下合并,形成反应混合物,反应混合物固化形成聚合物泡沫。
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