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公开(公告)号：CN105490166A
公开(公告)日：2016-04-13
申请号：CN201610041567.2
申请日：2016-01-21
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种微腔激光器阵列，其包括由下至上依次设置的衬底层、泵浦层、增益层和封装层，增益层内设置有多个阵列排布且并行出光的DBR微腔激光器，泵浦层用于连通泵浦源，该泵浦源将泵浦光输入到泵浦层内。本发明还公开了一种包括该微腔激光器阵列的可见光光度计。本发明与现有技术相比，有效地权衡了高分辨率、高效率和制造成本高之间的矛盾，使得微腔激光器阵列既具有高分辨率、高效率的优点，又具有制造成本低的优势。
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公开(公告)号：CN105425409A
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：CN201610034105.8
申请日：2016-01-19
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B27/22
Abstract: 本发明公开了一种投影式裸眼3D显示装置及其彩色化显示装置，该3D显示装置包括指向性光源，包括矩形导光板和光源组，光源组设置于所述矩形导光板的至少一个侧面上；投影装置，包括显示芯片和投影镜头，显示芯片将获取的光源与多视角图像信号调制后由投影镜头放大；指向性投影屏幕，其设置于投影镜头的出光端，将入射的视角图像信号进行位相调制后在指向性投影屏幕的正前方形成会聚视点，获得裸眼3D显示。本发明相较于现有技术，指向性投影屏幕提供空间位相调制，液晶芯片提供视角图像振幅调制，二者结合，具备了全息显示的全部信息，不易产生视觉疲劳，也没有距离限制，而且通过投影镜头放大成型，实现大幅面的裸眼3D显示。
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公开(公告)号：CN103279014B
公开(公告)日：2016-01-20
申请号：CN201310236124.5
申请日：2013-06-14
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 一种纳米图形化衬底制备装置和方法，该制备方法依赖激光干涉曝光对衬底翘曲的不敏感性，克服蓝宝石衬底翘曲特性给现有图形化技术带来的离焦问题，并在制备装置中，设计了能够对相位和空间光场信息进行调制的光学系统，使得该激光干涉曝光系统能够对干涉光斑的形状大小和内部点阵分布进行控制，从而为衬底的纳米图形化工艺带来了工业化应用的可能。
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公开(公告)号：CN103744271A
公开(公告)日：2014-04-23
申请号：CN201410042111.9
申请日：2014-01-28
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 一种激光直写系统与光刻方法，包括焦距测量系统和曝光系统，所述焦距测量系统采用离线的方式测量整个待刻物体表面的三维形貌信息之后，将所述三维形貌信息转化为调焦信息并发送给所述曝光系统，所述曝光系统根据所述调焦信息，在对所述待刻物体表面进行光刻过程中，调节焦距以适合所述待刻物体表面的凹凸程度，使曝光点始终聚焦于所述光刻物体的表面。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103246195A
公开(公告)日：2013-08-14
申请号：CN201310166341.1
申请日：2013-05-08
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种三维激光打印方法与系统，采用四参量连续调制激光打印输出方法制备由按位置坐标排列的具有特定光栅空频和取向角的衍射像素构成的三维图像。衍射像素中光栅条纹参数的调制方法基于4F成像系统与衍射光栅实现，4F成像系统包括第一傅立叶变换透镜或透镜组与第二傅立叶变换透镜或透镜组，衍射光栅置于第一傅立叶变换透镜或透镜组与第二傅立叶变换透镜或透镜组之间，通过改变衍射光栅与第一傅立叶变换透镜或透镜组之间的距离，实现光栅条纹的空频的连续调制，通过旋转衍射光栅，实现光栅条纹的光栅取向角的连续调制。本发明实现了光栅空频和取向的连续可调，基于光栅空频和取向连续可变的四参量的微纳结构来编码形成三维彩色图像。
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公开(公告)号：CN110119071A
公开(公告)日：2019-08-13
申请号：CN201810117030.9
申请日：2018-02-06
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种干涉光刻系统，包括位相元件、第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜和锥透镜组，位相元件、第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜沿着光轴传播方向依次设置，第一透镜与第二透镜形成一组4F成像系统，第三透镜与第四透镜形成另一组4F成像系统，锥透镜组沿着光轴传播方向可移动地设置于第三透镜与第四透镜之间。本发明的干涉光刻系统结构简单，制作成本低，能够实现多角度、变周期干涉光刻。本发明还涉及一种打印装置和干涉光刻方法。
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公开(公告)号：CN108931851A
公开(公告)日：2018-12-04
申请号：CN201710388885.0
申请日：2017-05-25
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: B60K35/00 , G02B27/01 , G02B27/0101 , B60K2370/334
Abstract: 一种抬头显示系统，包括纳米成像膜、挡风玻璃和投影装置，纳米成像膜包括多个像素，每个像素内设有纳米衍射光栅，纳米成像膜设置在挡风玻璃上，投影装置设置在纳米成像膜的焦距内，投影装置可将图像光投影到纳米成像膜上，纳米成像膜的各像素通过纳米衍射光栅反射衍射光，并将衍射光在纳米成像膜的前端汇聚成视点。本发明的抬头显示系统能够承接虚像，具有成像功能，简化了投影系统，并且成本低。本发明还涉及一种汽车。
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公开(公告)号：CN108790150A
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201710282261.0
申请日：2017-04-26
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B29C64/129 , B29C64/321 , B29C64/214 , B29C64/245 , B29C64/264 , B29C64/386 , B29C64/393 , B33Y30/00 , B33Y40/00 , B33Y50/00 , B33Y50/02
Abstract: 一种3D打印系统，包括进料装置、打印平台和成像装置，进料装置包括透明传送带、第一供料罐和第一刮刀，第一供料罐可将打印材料排放在透明传送带上，第一刮刀的刀刃与透明传送带相对设置，第一刮刀可将打印材料涂刮平整，透明传送带可将打印材料运送至打印平台的表面，成像装置可产生照射打印材料的图案光，使打印材料在打印平台上固化为打印实体。本发明的3D打印系统能逐层涂覆打印材料，能实现多种材料混合打印，对生物应用具有极其重大的意义。本发明还涉及一种3D打印方法。
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公开(公告)号：CN107908086A
公开(公告)日：2018-04-13
申请号：CN201711122043.7
申请日：2017-11-14
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F9/00
Abstract: 本发明涉及一种基片的预对准方法，该基片的预对准方法通过在基片上投影一幅特征图像和测距图像来确定边缘上边缘点的坐标，并根据边缘点坐标来计算基片的倾斜角度和基片中心坐标，最后通过移动工件台来使基片中心坐标和成像中心坐标对准，实现快速高效高精度的预对准工作。与现有技术相比该基片的预对准方法有着无需增加现有直写设备硬件成本、步骤简单、预对准精度高的优势。
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