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公开(公告)号：CN101866958A
公开(公告)日：2010-10-20
申请号：CN201010171813.9
申请日：2010-05-14
Applicant: 河海大学常州校区
Inventor： 孙洪文
IPC: H01L31/0232 , H01L31/0236 , H01L31/18
CPC classification number: Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 本发明公开了一种太阳能电池仿生抗反射膜及其制备方法，以其所述仿生抗反射膜包括基体膜，在所述基体膜的一表面，有模仿复制生物表面三维微纳米复合结构的，且与所述基体膜互为一体同一材质的仿生抗反射层为主要特征，而所述制备方法，以其制备步骤包括选取生物压印母坯，制取仿生母坯模、制备仿生抗反射模料，旋涂或浇铸反射模料，剥离制得仿生抗反射膜为主要特征。具有结构先进，制备成本低，使用方便，抗反射性能优等特点，是一种能够有效提高太阳能硅晶体电池光电转换效果的仿生抗反射功能膜。
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公开(公告)号：CN110347968B
公开(公告)日：2023-06-13
申请号：CN201910609346.4
申请日：2019-07-08
Applicant: 河海大学常州校区
IPC: G06F17/14
Abstract: 本发明公开一种基于FPGA的优化FFT算法和装置，涉及集成电路数字信号处理技术领域。方法包括：响应于外部输入有待分析数据，存储相应数据；按照预设的读取规则读取已存储的待分析数据；对待分析数据进行预处理；基于预处理后的待分析数据以及预设的旋转因子进行基2‑FFT的前两级蝶形计算；基于基2‑FFT的前两级蝶形计算结果进行基2‑FFT前两级之后的其它级蝶形计算，计算结果即为所述优化FFT算法的计算结果。本发明利用蝶形运算的前两级旋转因子取值有限的特性，通过预设旋转因子对传统的基2‑FFT算法进行简化，从而实现可由输入序列快速得到前两级蝶形运算的结果，且本发明能够适用于任何2N（N≥2）点FFT运算，实现算法的有效加速。
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公开(公告)号：CN110340063A
公开(公告)日：2019-10-18
申请号：CN201910725058.5
申请日：2019-08-07
Applicant: 河海大学常州校区
Abstract: 本发明公开了一种多型号的轴承清洗功能的机械臂，包括底座，底座底端四角处分别固定安装有四个支腿，底座顶端一侧固定安装有清洗箱，清洗箱的一侧固定连接有出水管，出水管的一端伸入清洗箱内，出水管与清洗箱相通，出水管的另一端固定安装有第一阀门，底座顶端贴合设有旋转板，旋转板的侧壁上固定套接有齿环，旋转板顶端固定安装有蓄水箱，蓄水箱底端固定连接有进水管，进水管的一端伸入蓄水箱内并与蓄水箱相通，进水管另一端穿过旋转板和底座，进水管与底座旋转连接，进水管的穿出端上固定安装有第二阀门，底座底端固定连接有U形板，本装置通过更换不同大小的橡胶块套接在竖杆上，从而使不同规格的轴承可以在本装置内进行固定。
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公开(公告)号：CN109711056A
公开(公告)日：2019-05-03
申请号：CN201811618629.7
申请日：2018-12-28
Applicant: 河海大学常州校区
IPC: G06F17/50
Abstract: 一种基于Xilinx FPGA电路设计的敏感区域分析系统及分析方法，包括数据预处理模块、数据输入模块、软错误缓解控制器、功能电路模块和输出处理模块，其中，数据输入模块将所需的输入数据发送至Xilinx FPGA电路上的功能电路中，同时从地址范围中每次随机选择一个发送至Xilinx FPGA电路上的软错误缓解控制器中；软错误缓解控制器根据得到的指令，将指定配置存储单元的配置位数据进行翻转；功能电路模块同时对得到的输入数据进行处理，并将结果传输至输出处理模块；输出处理模块实时检测并对比功能电路输出的信号，记录此次故障注入的配置位是否为敏感区域，并选择是否对FPGA进行重配置操作。本发明不仅能模拟单粒子效应，还能准确的检测出不同设计的FPGA中的配置敏感区域。
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公开(公告)号：CN106026999B
公开(公告)日：2018-10-26
申请号：CN201610319156.5
申请日：2016-05-13
Applicant: 河海大学常州校区
IPC: H03K5/24 , H03K19/003
Abstract: 本发明公开了一种抗单粒子效应的CMOS比较器，包括DICE结构、两个相同的输入单元和与DICE结构及两个输入单元相连接的四个中间晶体管；DICE结构包括四个PMOS管MP1、MP2、MP3、MP4、四个NMOS管MN1、MN2、MN3、MN4以及一个时钟控制PMOS管Mtial0；每个所述输入单元包括两个时钟控制的PMOS管MP11和MP12或MP21和MP22，两个NMOS管MN11和MN12或MN21和MN22，一个时钟控制的NMOS管Mtail1或Mtail2。本发明基于DICE结构对双尾比较器进行了改进加固，使其具备抗单粒子效应的功能，防止了由于粒子打击造成的单粒子效应错误。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108073989A
公开(公告)日：2018-05-25
申请号：CN201711393841.3
申请日：2017-12-21
Applicant: 河海大学常州校区
IPC: G06N7/00
Abstract: 本发明公开了一种基于贝叶斯概率模型的组合逻辑电路选择性加固算法，首先读取输入的电路网表文件并生成电路传播网络，计算出整个电路网络中边的SP值；其次采用深度优先搜索算法对每一个节点都搜索出其通往电路输出的所有路径；然后利用贝叶斯概率模型以及逻辑屏蔽法则计算出这些路径中错误传播到输出的概率，并乘以距离因子，即为节点敏感度；最后利用生成的节点敏感度排序表以及用户指定的加固比例进行选择性加固，并输出加固后的电路网表。本发明的选择性加固算法经过实际仿真测试，在不同加固开销下都有不同程度的可靠性提升。
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公开(公告)号：CN108017881A
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：CN201711171640.9
申请日：2017-11-22
Applicant: 河海大学常州校区
IPC: C08L63/00 , C08L33/08 , C08L29/10 , C08K3/08 , C08F120/10 , C08F116/18
Abstract: 本发明公开了一种原子力显微镜探针及其制备方法，所述探针为圆锥体结构，且所述探针由复合材料制得，所述复合材料的原料组分及各组分的质量份如下：对紫外光敏感的聚合物：80份~90份；金颗粒：5份~10份；镍颗粒：5份~10份。本发明提供的一种原子力显微镜探针及其制备方法，既可以增加探针韧性，又可以保证其硬度，从而延长探针寿命。同时该探针具有高深宽比，可以探测相应的高深宽比沟槽。
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公开(公告)号：CN106026999A
公开(公告)日：2016-10-12
申请号：CN201610319156.5
申请日：2016-05-13
Applicant: 河海大学常州校区
IPC: H03K5/24 , H03K19/003
CPC classification number: H03K5/2472 , H03K19/00338
Abstract: 本发明公开了一种抗单粒子效应的CMOS比较器，包括DICE结构、两个相同的输入单元和与DICE结构及两个输入单元相连接的四个中间晶体管；DICE结构包括四个PMOS管MP1、MP2、MP3、MP4、四个NMOS管MN1、MN2、MN3、MN4以及一个时钟控制PMOS管Mtial0；每个所述输入单元包括两个时钟控制的PMOS管MP11和MP12或MP21和MP22，两个NMOS管MN11和MN12或MN21和MN22，一个时钟控制的NMOS管Mtail1或Mtail2。本发明基于DICE结构对双尾比较器进行了改进加固，使其具备抗单粒子效应的功能，防止了由于粒子打击造成的单粒子效应错误。
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公开(公告)号：CN101866957B
公开(公告)日：2011-12-21
申请号：CN201010171808.8
申请日：2010-05-14
Applicant: 河海大学常州校区
Inventor： 孙洪文
IPC: H01L31/0232 , H01L31/0236 , H01L31/18
CPC classification number: Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 本发明公开了一种太阳能电池的抗反射层及其制备方法，所述抗反射层是以由设在太阳能电池受光面上的栅指电极之间表面上的众多微米结构突起，和设在微米结构突起上的众多纳米结构突起所构成的微纳米复合结构层为其主要特征，而其制备方法，是以用FIB聚焦离子束刻蚀加工，先刻蚀微米结构突起，继而在微米结构突起上再刻蚀纳米结构突起为其主要特征，具有所述抗反射层结构合理，抗反射能力强等特点，而所述制备方法，具有方法简便易控，制成品质量好等特点。
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公开(公告)号：CN101866957A
公开(公告)日：2010-10-20
申请号：CN201010171808.8
申请日：2010-05-14
Applicant: 河海大学常州校区
Inventor： 孙洪文
IPC: H01L31/0232 , H01L31/0236 , H01L31/18
CPC classification number: Y02E10/50 , Y02P70/521
Abstract: 本发明公开了一种太阳能电池的抗反射层及其制备方法，所述抗反射层是以由设在太阳能电池受光面上的栅指电极之间表面上的众多微米结构突起，和设在微米结构突起上的众多纳米结构突起所构成的微纳米复合结构层为其主要特征，而其制备方法，是以用FIB聚焦离子束刻蚀加工，先刻蚀微米结构突起，继而在微米结构突起上再刻蚀纳米结构突起为其主要特征，具有所述抗反射层结构合理，抗反射能力强等特点，而所述制备方法，具有方法简便易控，制成品质量好等特点。
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