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公开(公告)号：CN101164146A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：CN200680013662.6
申请日：2006-05-15
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 白石雅之
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70891 , G03F7/70258 , G03F7/70575
Abstract: 一种曝光装置，可准确把握由光的照射热而引起的光学系统的特性变动。本曝光装置是以自光源(1a)射出的光对被曝光物(7)进行曝光的曝光装置，其特征在于包括检测上述光的非曝光波长成分的光量的检测机构(12、13、9)。因此，即使曝光波长成分的光量与非曝光波长成分的光量单独变动，亦可准确把握由光学系统的照射热引起的特性变动。其结果，亦可实现高性能的镜片调整系统。
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