公开(公告)号：CN103649367A

公开(公告)日：2014-03-19

申请号：CN201280033804.0

申请日：2012-04-25

Applicant: 株式会社富士金

Inventor： 永濑正明 ,  日高敦志 ,  平田薰 ,  土肥亮介 ,  西野功二 ,  池田信一

IPC: C23C16/448 ,  H01L21/31

CPC classification number: C23C16/448 ,  C23C16/4485 ,  C23C16/45561 ,  C23C16/52 ,  Y10T137/86485

Abstract: 本发明包括：液体原料气体供给源；源储罐，其储存所述液体原料气体；气体流通路，其从所述源储罐的内部上方空间部向处理腔供给为液体原料气体蒸汽的原料气体；自动压力调整器，其间置于该气体流通路的上游侧，且将向处理腔供给的原料气体的供给压力保持为设定值；供给气体切换阀，其间置于所述气体流通路的下游侧，且对向处理腔供给的原料气体的通路进行开闭；节流孔，其设于该供给气体切换阀的入口侧和出口侧中的至少一方，且调整向处理腔供给的原料气体的流量；以及恒温加热装置，其将所述源储罐、所述气体流通路和供给气体切换阀以及节流孔加热至设定温度，在本发明中，将自动压力调整器下游侧的原料气体的供给压力控制为所期望的压力，并且向处理腔供给设定流量的原料气体。

公开(公告)号：CN101479402B

公开(公告)日：2011-05-18

申请号：CN200780024242.2

申请日：2007-06-13

Applicant: 株式会社富士金

Inventor： 平田薰 ,  永濑正明 ,  日高敦志 ,  松本笃咨 ,  土肥亮介 ,  西野功二 ,  池田信一

IPC: C23C16/455 ,  H01L21/205

CPC classification number: C23C16/4481 ,  C23C16/52 ,  G05D16/2013 ,  Y10T137/7737

Abstract: 实现基于MOCVD法的用于半导体制造的原料气化供给装置的构造的简易化和小型化，并且高精度地控制原料向加工室的供给量，从而实现半导体的品质的稳定化和品质的提升。本发明的原料气体供给装置，具有：原料容器，贮留原料；流量控制装置，将来自载流气体供给源的一定流量的载流气体(G1)一边调整流量一边向上述原料容器的原料中供给；1次配管路，导出积存在原料容器的上部空间中的原料的蒸气(G4)与载流气体(G1)的混合气体(G0)；自动压力调节装置，基于上述1次配管路的混合气体(G0)的压力以及温度的检测值来调节夹设在1次配管路的末端上的控制阀的开度，调节混合气体(G0)所流通的通路截面积，从而保持原料容器内的混合气体(G0)的压力为恒定值；恒温加热部，将上述原料容器以及自动压力调节装置的除了运算控制部的部分加热至设定温度，一边控制原料容器内的内压为期望的压力一边向加工室供给混合气体(G0)。

公开(公告)号：CN102037423A

公开(公告)日：2011-04-27

申请号：CN200980118159.0

申请日：2009-03-10

Applicant: 株式会社富士金 ,  国立大学法人东北大学 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 大见忠弘 ,  西野功二 ,  土肥亮介 ,  永濑正明 ,  杉田胜幸 ,  平田薰 ,  广濑隆 ,  筱原努 ,  池田信一 ,  吉田俊英 ,  田中久士

IPC: G05D7/06 ,  G01F1/00 ,  G01F1/42 ,  G01F7/00 ,  G05D16/20

CPC classification number: G05D7/0635 ,  G01F1/42 ,  G01F7/005 ,  Y10T137/0379

Abstract: 本发明是使用了流量范围可变型流量控制装置的流体流量控制方法，该装置使得压力式流量控制装置的控制阀的下游侧和流体供给用管道之间的流体通道为至少两个以上的并列状流体通道，并且使流体流量特性不同的孔口分别位于所述各并列状的流体通道中，在第1流量域的流体的流量控制中，使所述第1流量域的流体流过一个孔口，并且在第2流量域的流体的流量控制中使所述第2流量域的流体流过至少另一个孔口，选定所述各孔口的流量特性，使得所述小流量的第1流量域的流体的最大控制流量小于所述大流量的第2流量域的最大控制流量的10％，在规定的流量控制误差内流量控制将第1流量域中的可能的最小流量降低。

公开(公告)号：CN101360941B

公开(公告)日：2010-12-29

申请号：CN200680051269.6

申请日：2006-11-13

Applicant: 株式会社富士金

Inventor： 松本笃咨 ,  平田薰 ,  土肥亮介 ,  池田信一 ,  西野功二

IPC: F16K31/02 ,  F16K7/14

CPC classification number: F16K24/04 ,  F16K7/14 ,  F16K31/004 ,  F16K31/007 ,  F16K51/02

Abstract: 在高温环境下也能进行高精度的稳定流量控制，并可无需拆卸控制阀自身来调整加在压电元件上的压力。具体由下列构件构成：形成有阀室7a′和阀座7c的阀体7；设置在阀室7a′内，可落入或离开阀座7c的金属隔膜8；固定在阀体7侧的致动器壳体10；设置在致动器壳体10内，因电压的施加而向下方伸长，通过金属隔膜压塞12加压于金属隔膜8的压电元件13；在金属隔膜8向阀座7c坐落时吸收压电元件13的伸长，并可向阀座7c等施加预定压力的碟形弹簧机构14；在压电元件13上常时施加向上的压力，并可从外部调整加在压电元件13上的压力的预压机构21。

公开(公告)号：CN101809712A

公开(公告)日：2010-08-18

申请号：CN200880109472.3

申请日：2008-07-17

Applicant: 株式会社富士金

Inventor： 西野功二 ,  土肥亮介 ,  永濑正明 ,  平田薰 ,  杉田胜幸 ,  池田信一

IPC: H01L21/205 ,  C23C16/455 ,  H01L21/285

CPC classification number: C23C16/455 ,  C23C16/45561 ,  C23C16/52

Abstract: 本发明涉及一种半导体制造设备用的气体供给装置，其基于有机金属气相生长法，具备向反应炉供给原料气体的主气体供给线和进行所述原料的排气的排出气体供给线，在两条气体线的中间部配设多个气体供给机构而构成，在该气体供给装置中，对比在压力式流量控制装置的孔下游侧检测的主气体供给线的气体(P10)和排出气体供给线的压力(P2)，由所述排出气体供给线的入口侧的压力控制装置进行压力调整，从而在原料气体的供给切换时使主气体供给线和排出气体供给线之间的两者的压力差为零。

公开(公告)号：CN101652592A

公开(公告)日：2010-02-17

申请号：CN200880011029.2

申请日：2008-03-13

Applicant: 株式会社富士金

Inventor： 泽田洋平 ,  平田薰 ,  土肥亮介 ,  西野功二 ,  池田信一

IPC: F16K31/02 ,  F16K7/12

CPC classification number: F16K31/007 ,  F16K7/14

Abstract: 在压电促动器(16)收缩时缓解在压电元件上产生的张力，即使在高温环境下也能够进行稳定的流量控制。本发明的压电元件驱动式控制阀包括如下部分：具有阀座(8d)的主体(8)；抵接或离开阀座(8d)的金属隔膜(9)；自由升降地支撑于主体(8)侧的促动器盒(13)；固定在主体(8)侧的分割基座(11)；向下方推压并驱策促动器盒(13)而使金属隔膜(9)抵接阀座(8d)的碟形弹簧(15)；以及容纳在促动器盒(13)内、因电压的施加向上方伸长并逆着碟形弹簧(15)的弹性力上推促动器盒(13)的压电促动器(16)，其中，在分割基座(11)和压电促动器(16)之间设有始终在压电促动器(16)的压电元件上施加压缩力的预压机构(20)。

公开(公告)号：CN101208641A

公开(公告)日：2008-06-25

申请号：CN200680023200.2

申请日：2006-06-22

Applicant: 株式会社富士金 ,  国立大学法人东北大学 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 大见忠弘 ,  斋藤雅仁 ,  日野昭一 ,  岛津强 ,  三浦和幸 ,  西野功二 ,  永濑正明 ,  杉田胜幸 ,  平田薰 ,  土肥亮介 ,  广濑隆 ,  筱原努 ,  池田信一 ,  今井智一 ,  吉田俊英 ,  田中久士

IPC: G05D7/00 ,  G01F1/42 ,  G01F1/00 ,  G01F7/00

CPC classification number: G05D7/0641 ,  G01F1/363 ,  G01F1/6842 ,  G01F1/6847 ,  G01F5/005 ,  G01F7/005 ,  G05D7/0635 ,  G05D7/0647 ,  G05D23/1927 ,  Y10T137/0379 ,  Y10T137/7759 ,  Y10T137/776 ,  Y10T137/8593 ,  Y10T137/86734 ,  Y10T137/86815 ,  Y10T137/87265 ,  Y10T137/87314 ,  Y10T137/8741 ,  Y10T137/87499 ,  Y10T137/87684

Abstract: 本发明涉及一种流量范围可变型流量控制装置，通过一台流量控制装置也能对较广的流量区域的流体进行高精度的流量控制，从而可实现流量控制装置的小型化和设备费用的降低。具体而言，在使用节流孔上游侧压力P1以及或者节流孔下游侧压力P2而以Qc＝KP1(K为比例常数)或者Qc＝KP2m(P1－P2)n(K为比例常数、m和n为常数)运算在节流孔(8)中流通的流体的流量的压力式流量控制装置中，将该压力式流量控制装置的控制阀的下游侧与流体供给用管路之间的流体通路设置为至少两个以上的并列状的流体通路，并且向上述各并列状的流体通路分别设置流体流量特性不同的节流孔，在小流量区域的流体的流量控制时使上述小流量区域的流体向一方的节流孔流通，此外，在大流量区域的流体的流量控制时使上述大流量区域的流体向另一方的节流孔切换并流通。

公开(公告)号：CN118786400A

公开(公告)日：2024-10-15

申请号：CN202380024208.4

申请日：2023-03-15

Applicant: 株式会社富士金 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 西野功二 ,  平田薰 ,  杉田胜幸 ,  小川慎也 ,  井手口圭佑 ,  池田信一 ,  泽地淳

IPC: G05D7/06

Abstract: 本发明提供一种流量控制装置(10)的排气结构，其具备：流量控制装置(10)，其具备：形成有连通流体入口(13i)和流体出口(13o)的主体流路(13)的主体(11)；设置在主体流路上的控制阀(12)；设置在控制阀的下游的节流部(14)；以及测定控制阀与节流部之间的压力的压力传感器(16)；向流量控制装置供给气体的气体源(2)；在气体源与流量控制装置之间的气体供给路径上的分支点(A)分支的排气路径(4)，在比分支点靠上游的气体供给路径(3)配设第一阀(V1)，并且在排气路径配设第二阀(V2)，在从控制第一流量的状态变更为第二流量的控制时，在控制阀(12)打开的状态下，关闭第一阀(V1)并且打开第二阀(V2)，由此将积存在从控制阀到节流部之间的气体从排气路径(4)排出。

公开(公告)号：CN108885471B

公开(公告)日：2021-10-01

申请号：CN201780004761.6

申请日：2017-03-23

Applicant: 株式会社富士金

Inventor： 永濑正明 ,  平田薰 ,  泽田洋平 ,  杉田胜幸 ,  西野功二 ,  池田信一

IPC: G05D7/06 ,  G05B23/02

Abstract: 本发明提供一种压力式流量控制装置(8)，具备：节流部(2)、节流部上游的控制阀(6)、上游压力检测器(3)和下游压力检测器(4)、以及利用控制阀和节流部之间的流路的压力下降数据和基准压力下降数据对流量控制进行诊断的控制器(7)，在下游压力检测器的下游侧设置有隔断阀(9)，执行流量自诊断功能时，向控制阀和隔断阀发出关闭命令，控制器(7)利用关闭控制阀后的上游压力检测器和下游压力检测器的输出判定是否满足规定的临界膨胀条件，利用满足规定的临界膨胀条件的期间的压力下降数据而对流量控制进行诊断。

公开(公告)号：CN109791099B

公开(公告)日：2021-06-08

申请号：CN201780032276.X

申请日：2017-09-27

Applicant: 株式会社富士金

Inventor： 永濑正明 ,  相川献治 ,  平田薰 ,  今井嵩浩 ,  成富哲央 ,  篠原努 ,  松田隆博 ,  西野功二

IPC: G01N9/26

Abstract: 本发明提供一种浓度检测方法，为检测混合气体中所包含的规定气体的浓度的方法，包含：在具备节流部、设置于节流部的上游侧的上游阀以及测量节流部与上游阀之间的压力的压力传感器的压力式流量控制装置中，在节流部的下游侧的压力比节流部的上游侧的压力低的状态下使混合气体从上游阀的上游侧流动的工序；通过压力传感器检测使上游阀从打开变化为关闭之后产生的压力下降特性的工序；以及基于压力下降特性检测混合气体中的规定气体的浓度的工序。