公开(公告)号：CN1319075A

公开(公告)日：2001-10-24

申请号：CN00801626.7

申请日：2000-07-21

Applicant: 株式会社富士金 ,  大见忠弘

Inventor： 大见忠弘 ,  池田信一 ,  皆见幸男 ,  川田幸司 ,  米华克典 ,  本井傅晃央 ,  平井畅 ,  森本明弘 ,  成相敏朗 ,  平尾圭司 ,  田口将暖 ,  中村修

IPC: C01B5/00

CPC classification number: B01J3/006 ,  B01J7/00 ,  B01J12/007 ,  C01B5/00

Abstract: 本发明的目的是提供一种安全的减压型水分发生供给装置,该装置减压供给(例如数托)水分气体,较高地保持水分发生用反应炉的内压,这样,可防止氢的自燃,本发明的另一目的是提供一种水分发生用反应炉,是通过对水分发生用反应炉高效率地进行冷却,便可在不增大反应炉尺寸的情况下使水分发生量大幅度增加的水分发生用反应炉。因此,本发明的减压型水分发生供给装置的特征在于:由水分发生用反应炉和减压机构构成,其中水分发生用反应炉是由氢和氧通过催化剂反应而发生水分气体;减压机构设在该水分发生用反应炉的下流侧,水分气体通过该减压机构减压后供给下流侧,与此同时较高地保持反应炉内的内压。本发明的散热式水分发生用反应炉由将入口侧炉主体部件和出口侧炉主体部件组合起来而形成有内部空间的反应炉主体、和贴紧在上述各炉子主体部件的外壁面上的散热片底板、及立设在该散热片底板上的多个散热用散热片构成,利用上述散热用散热片对发生的热量进行强制性辐射,使反应炉的温度降低。并且,对散热用散热片进行氧化铝膜加工,使热辐射率大幅度提高,而使散热效率进一步提高。

公开(公告)号：CN1255981A

公开(公告)日：2000-06-07

申请号：CN99800002.7

申请日：1999-01-11

Applicant: 株式会社富士金 ,  大见忠弘 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 大见忠弘 ,  加贺爪哲 ,  杉山一彦 ,  土肥亮介 ,  皆见幸男 ,  西野功二 ,  川田幸司 ,  池田信一 ,  山路道雄

IPC: G05D7/06

CPC classification number: G05D7/0635 ,  Y10T137/7759 ,  Y10T137/7761

Abstract: 一种供如半导体制造设备中气体供给系统用的流体供给设备,它使得有可能在开始供给流体或流体转换时高精度控制流体流速而不产生流体的瞬时过冲现象。本发明的流体供给设备包括:压力流量控制器,用来调节流体的流率;流体转换阀,用来打开和关闭压力流量控制器次级侧的流体通道;以及流体供给控制单元,用来控制压力流量控制器和流体转换阀的操作;压力流量控制器包括:注流孔5;设置在注流孔5上游侧的控制阀1;设置在控制阀1和注流孔5之间的压力检测器3;以及计算控制单元6,它把流率信号Qc和流率指定信号Qs之间的差值作为控制信号Qy输入到控制阀1的驱动器2,流率信号Qc是利用流率Qc=KP1( K=常数)、根据由压力检测器3检测到的压力P1计算的;其中,通过借助打开和关闭控制阀1来调节注流孔上游侧的压力P1而控制注流孔5下游侧的流率。