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公开(公告)号:CN105203603A
公开(公告)日:2015-12-30
申请号:CN201510357901.0
申请日:2015-06-25
Applicant: 株式会社东芝
IPC: G01N27/26
CPC classification number: G01N27/4163 , G01N27/48
Abstract: 一种定电位电解式气体传感器的老化装置、以及定电位电解式气体传感器的老化方法。实施方式的老化装置具备:操作测量部,进行在定电位电解式气体传感器设置的对电极及参比电极的至少任一个与在上述定电位电解式气体传感器设置的工作电极之间的电位的施加,以及进行在上述工作电极与上述对电极之间流动的电流的测量;以及控制部,求出在上述工作电极与上述对电极之间上述电流开始流动时的上述电位,控制上述操作测量部,以在上述对电极及上述参比电极的至少任一个与上述工作电极之间施加比上述电流开始流动时的上述电位高的电位。
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公开(公告)号:CN104508860A
公开(公告)日:2015-04-08
申请号:CN201380039207.3
申请日:2013-07-24
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01M2/16 , H01M4/485 , H01M10/04 , H01M10/0525
CPC classification number: H01M2/162 , H01M2/1673 , H01M4/485 , H01M10/0525
Abstract: 实施方式的二次电池具备外包装容器和收纳在所述外包装容器内的电极结构体及电解质。所述电极结构体(24)含有正极(18)、负极(20)和配置在正极(18)与负极(20)之间的隔膜。隔膜含有堆积在正极及负极中的至少一方上的有机纤维层(23)。有机纤维层(23)具有有机纤维交叉、且其交叉的形态根据抗拉应力而变化的接点。
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公开(公告)号:CN102632017B
公开(公告)日:2014-06-11
申请号:CN201210032483.4
申请日:2012-02-14
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: B05C11/025 , B05C5/0254 , B05C9/04 , H01M4/0404 , H01M4/139
Abstract: 一种双面涂布装置,在具有涂布区域和非涂布区域且形成为片状的基材的双面的涂布区域涂布涂液。双面涂布装置具有传送机构、第1涂布头、第2涂布头及涂布辊。传送机构沿送出方向传送基材。第1涂布头配置于基材的一个面侧,在与送出方向交差的方向上交替地形成涂布区域和非涂布区域而涂布涂液。第2涂布头配置于基材的另一个面侧,在与送出方向交差的方向上交替地形成涂布区域和非涂布区域而涂布涂液。涂布辊具有多个第1辊、第2辊及旋转机构。多个第1辊配置于基材的一个面侧且与第2涂布头隔着基材相对置的位置附近,设置于沿着轴向的两端部。第2辊设置于第1辊之间。旋转机构使第1辊及第2辊旋转,使第1辊的圆周速度大于第2辊的圆周速度。
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公开(公告)号:CN103117371A
公开(公告)日:2013-05-22
申请号:CN201210389770.0
申请日:2012-09-26
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01M4/04
CPC classification number: H01M4/0471 , B30B3/005 , B30B3/04 , B30B11/165 , H01M4/0435 , Y02E60/122 , Y02P70/54
Abstract: 根据实施例,一种用于电极的压制装置包括:压制单元,其用于压缩电极片,所述电极片包括其表面上形成有电极层的第一区域和其上没有形成所述电极层的第二区域;以及拉伸单元,包括拉伸部件并用于向所述第二区域施加张力,所述拉伸部件包括:突出表面,所述突出表面在对应于所述第二区域的位置与所述电极片相对立地设置并朝向所述电极片而突出;缩回表面,所述缩回表面在对应于所述第一区域的位置相对于所述突出表面从所述电极片缩回;以及释放表面,所述释放表面在对应于所述电极片的边缘部分的位置缩回远离所述电极片。
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公开(公告)号:CN102632017A
公开(公告)日:2012-08-15
申请号:CN201210032483.4
申请日:2012-02-14
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: B05C11/025 , B05C5/0254 , B05C9/04 , H01M4/0404 , H01M4/139
Abstract: 一种双面涂布装置,在具有涂布区域和非涂布区域且形成为片状的基材的双面的涂布区域涂布涂液。双面涂布装置具有传送机构、第1涂布头、第2涂布头及涂布辊。传送机构沿送出方向传送基材。第1涂布头配置于基材的一个面侧,在与送出方向交差的方向上交替地形成涂布区域和非涂布区域而涂布涂液。第2涂布头配置于基材的另一个面侧,在与送出方向交差的方向上交替地形成涂布区域和非涂布区域而涂布涂液。涂布辊具有多个第1辊、第2辊及旋转机构。多个第1辊配置于基材的一个面侧且与第2涂布头隔着基材相对置的位置附近,设置于沿着轴向的两端部。第2辊设置于第1辊之间。旋转机构使第1辊及第2辊旋转,使第1辊的圆周速度大于第2辊的圆周速度。
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公开(公告)号:CN102200504A
公开(公告)日:2011-09-28
申请号:CN201110070903.3
申请日:2011-03-23
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G01N21/7703 , G01N21/78 , G01N2021/7776 , G01N2021/7786
Abstract: 本发明涉及一种光学传感器。本发明第一实施方式的光学传感器(1)的特征是,具有光波导部(12)和被检体区域(20),被检体区域(20)与所述光波导部(12)邻接设置,保持被检体,并且被检体(27)的沉淀物(27a)发生沉淀的沉淀面(21)与所述光波导部(12)侧的发生光学变化的传感检测面(23)配置于不同的位置。
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公开(公告)号:CN101726462A
公开(公告)日:2010-06-09
申请号:CN200910253108.0
申请日:2006-02-20
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G02B6/124 , G01N21/7703 , G01N21/78 , G01N2021/7709 , G01N2021/775 , G01N2021/7783
Abstract: 本发明接受一种可扩大允许的入射角范围,且维持高的灵敏度同时抑制光波导层中的光强度衰减的光波导型生物化学传感器芯片。这种光波导型生物化学传感器芯片包括:由玻璃或石英构成的基板,形成在所述基板的主面上的、向所述基板内部入射光、并从内部出射光用的一对光栅,形成在包含所述光栅的基板的主面的、厚度3~300μm、并由其折射率比基板高的高分子树脂构成的光波导层,以及具有形成在所述光波导层上的生物分子识别功能和信息变换功能的感测膜。
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公开(公告)号:CN1727892A
公开(公告)日:2006-02-01
申请号:CN200410055805.2
申请日:2004-07-30
Applicant: 株式会社东芝
CPC classification number: G01N21/7703 , G01N21/78
Abstract: 本发明提供能高精度地测定易消失(evanescent)波的变化量的光学式生物传感器。该传感器包含:使入射光在层内一边全反射一边透过的全反射层(10)、与所述全反射层(10)相接,并互相隔开设置的入射侧光栅(11a)和出射侧光栅(11b)、含有与所述全反射层(10)相接地设置于所述入射侧光栅(11a)和出射侧光栅(11b)之间的酶与发色试剂的感测膜(12)。
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公开(公告)号:CN112970095B
公开(公告)日:2024-05-03
申请号:CN202080005934.8
申请日:2020-01-22
Applicant: 株式会社东芝 , 铠侠股份有限公司 , 国立大学法人东北大学
IPC: H01L21/205 , C23C16/44
Abstract: 根据实施方式,本申请提供一种处理装置,其对在包含硅及卤族元素的原料物质的反应或者包含硅的原料物质与包含卤族元素的原料物质的反应中产生的副产物进行处理。处理装置具备处理液罐、处理槽、供给机构和排气机构。在处理液罐中贮液包含碱性的水溶液处理液。向处理槽中投入包含副产物被处理构件。供给机构从处理液罐向处理槽供给处理液,通过所供给的处理液,在处理槽中对副产物进行处理。排气机构将通过处理液与副产物的反应而产生的气体从处理槽排气。
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公开(公告)号:CN110392953B
公开(公告)日:2023-02-21
申请号:CN201780087360.1
申请日:2017-12-15
Applicant: 株式会社东芝
IPC: H01M4/13 , H01M10/058 , H01M50/40 , H01M50/449 , H01M10/052
Abstract: 一实施方式所涉及的电极结构体含有电极和包含有机纤维的层的隔膜。电极包含集电体和担载于集电体的至少一面的含活性物质层。有机纤维的层包含与有机纤维的长度方向交叉的截面的纵横比(V1/H1)为0.97以下的有机纤维。具有纵横比(V1/H1)的有机纤维在截面中与具有高于含活性物质层的算术平均表面粗糙度Ra的粗糙度的含活性物质层的表面相接。V1为与含活性物质层的厚度方向平行的长度。H1为与含活性物质层的面内方向水平的长度。
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