公开(公告)号：CN103476963B

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201280019375.1

申请日：2012-04-03

Applicant: 日本高周波钢业株式会社 ,  株式会社神户制钢所

Inventor： 果子贵晴 ,  山本兼司

IPC: C23C14/32 ,  B21D37/01 ,  B21D37/18

Abstract: 压力成形用金属模至少在向被成形体接触的成形面上形成有用来防止压力成形时的烧粘的保护膜。该保护膜通过PVD法形成，当将从其表面抽取的任意的选择区间划分为多个独立区间，设其划分数为N，设从选择区间的端部起第n个划分点的表面的倾斜为（dZn/dXn）时，通过下述数式计算的均方根RΔq是0.032以下。由此，能够使具有通过PVD法形成的保护膜的压力成形用金属模的耐烧粘性提高。

公开(公告)号：CN103168113B

公开(公告)日：2015-01-07

申请号：CN201180050474.1

申请日：2011-10-20

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 山本兼司 ,  伊藤弘高

IPC: C23C14/06 ,  B23B27/14 ,  B23B51/00 ,  B23C5/16

CPC classification number: C23C28/044 ,  C23C14/0641 ,  C23C28/42 ,  C23C28/44 ,  C23C30/005

Abstract: 本发明提供一种第1硬质皮膜形成部件，在基材上交替层叠A层和B层，A层满足组成为TiaCrbAlcSidYe(BuCvNw)(其中，a、b、c、d、e、u、v、w为特定量的原子比)，B层满足组成为TifCrgAlh(BxCyNz)(其中，f、g、h、x、y、z为特定量的原子比)，在设A层和B层的1组的层叠构造为1单位时，该1单位的厚度为10～50nm，且硬质皮膜的膜厚为1～5μm。另外，本发明还提供一种第2硬质皮膜形成部件，其隔着厚度为0.5μm以下的中间层或不隔着中间层而在所述B层上面层叠所述A层，A层的厚度为0.5～5.0μm，B层的厚度为0.05～3.0μm。

公开(公告)号：CN102057073B

公开(公告)日：2013-09-11

申请号：CN200980121455.6

申请日：2009-03-31

Applicant: 株式会社神户制钢所 ,  伊斯卡有限公司

Inventor： 山本兼司 ,  A·A·莱尤斯

IPC: C23C14/06 ,  B23B27/14 ,  B23C5/16

CPC classification number: C23C14/0635 ,  C04B35/565 ,  C04B35/581 ,  C04B2235/3817 ,  C04B2235/3821 ,  C04B2235/3839 ,  C04B2235/3843 ,  C04B2235/3847 ,  C04B2235/3852 ,  C04B2235/3873 ,  C04B2235/3886 ,  C04B2235/79 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/345 ,  C23C14/35 ,  C23C28/044 ,  C23C28/42

Abstract: 提供在晶体质中不具有裂纹且兼具高硬度和优异的耐磨性的硬质被膜层及其形成方法。覆盖基材(2)的晶体质的硬质被膜层(3)是利用PVD法形成的，并且，该硬质被膜层以Si和C为必要成分，以元素M[选自3A族元素、4A族元素、5A族元素、6A族元素、B、Al及Ru中的1种以上的元素]和N为选择成分，具有SixC1-x-y-zNyMz(0.4≤x≤0.6、0≤y≤0.1、0≤z≤0.2)的组成。

公开(公告)号：CN102023241B

公开(公告)日：2013-07-17

申请号：CN201010273558.9

申请日：2010-09-03

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 伊藤弘高 ,  山本兼司

IPC: G01R1/067 ,  G01R31/26

CPC classification number: G01R3/00 ,  G01R1/06761 ,  H01R13/03

Abstract: 目的在于提供一种半导体检测装置用接触式探针，其是在探针与焊料接触时，防止作为焊料主要成分的锡粘着在探针的接触部，而将抗锡粘着性优异的非晶碳系导电性皮膜形成于基材表面而成的半导体检测装置用接触式探针。一种在导电性基材表面形成非晶碳系导电性皮膜而成的半导体检测装置用接触式探针，其特征在于，所述非晶碳系导电性皮膜具有如下外表面：在原子力显微镜下4μm2的扫描范围中，表面粗糙度(Ra)为6.0nm以下，均方根斜率(RΔq)为0.28以下，表面形态的凸部的前端曲率半径的平均值(R)为180nm以上。

公开(公告)号：CN102527899A

公开(公告)日：2012-07-04

申请号：CN201110375527.9

申请日：2011-11-23

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 山本兼司

IPC: B21J13/02 ,  C23C14/02

CPC classification number: B21J3/00 ,  B21J13/02 ,  B21K5/20 ,  Y10T428/265

Abstract: 提供一种通过控制表面性状而使耐热粘性优异的塑性加工用模具及其制造方法、以及铝材的锻造方法。这种塑性加工用模具其特征在于，通过以下工序进行制造，即基材表面粗糙化工序，采用喷丸法使基材表面粗糙化，将算术平均粗糙度Ra调整为超过1μm且2μm以下；基材研磨工序，对该表面进行研磨，保持Ra为0.3μm以上且调整偏度Rsk为0以下；成膜工序，在该基材表面形成硬质覆膜，硬质覆膜的表面的算术平均粗糙度Ra为0.3μm以上且2μm以下，偏度Rsk为0以下。通过调整为不偏向凹部的凹凸形状，由此抑制蓄留润滑剂的凹部的容积，在凸部表面也能够附着足够的润滑剂。

公开(公告)号：CN102162083A

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：CN201010625215.4

申请日：2010-12-24

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 山本兼司 ,  哲曼·福克斯-莱比诺比齐

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/32

CPC classification number: C23C30/005 ,  B23B2228/10 ,  C22C29/04 ,  C22C29/16

Abstract: 本发明提供一种耐磨损性优异的硬质皮膜被覆部件及使用该部件的冶金工具，以及用于形成硬质皮膜的靶。所述硬质皮膜被覆部件(1)，其在基材(2)上具备硬质皮膜(3)，其特征为，硬质皮膜(3)的组成由(TiaCrbAlcSidYeRf)(CyNz)构成，且所述R为选自Ho、Sm、Dy、La的一种以上的元素，在所述a、b、c、d、e、f、y、z为原子比时，满足0.05≤a≤0.3、0.05≤b≤0.3、0.4≤c≤0.65、0≤d≤0.05、0≤e≤0.05、0.005≤f≤0.05、a+b+c+d+e+f＝1、0≤y≤0.3、0.7≤z≤1、y+z＝1。

公开(公告)号：CN101451228B

公开(公告)日：2011-04-20

申请号：CN200810176085.3

申请日：2008-11-11

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 山本兼司

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/35

Abstract: 提供一种耐磨耗性优异，另外难以发生烧粘等，即使长期使用滑动性仍优异的硬质皮膜，以及能够以短时间形成该滑动性优异的硬质皮膜的硬质皮膜的形成方法。是由通式MxBaCbNc表示的硬质皮膜，其特征在于，M为从4A族、5A族、6A族的元素及Si、Al中选择的至少1种金属元素，并满足如下各式：0≤a≤0.2，0≤c≤0.2，0

公开(公告)号：CN101612822A

公开(公告)日：2009-12-30

申请号：CN200910149436.6

申请日：2009-06-22

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 山本兼司

IPC: B32B9/04 ,  B32B15/04 ,  C23C14/32 ,  C23C14/06 ,  C23C8/26 ,  C23C8/46 ,  C23C28/00

CPC classification number: C23C14/06 ,  C23C14/022 ,  C23C14/0641 ,  C23C14/0664 ,  C23C14/325 ,  C23C28/044 ,  C23C28/048 ,  C23C28/42 ,  C23C30/005 ,  Y10T408/567 ,  Y10T428/12771 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/265

Abstract: 本发明提供耐磨损性及密合性优异的硬质被膜覆盖部件以及成形用工具。硬质被膜覆盖部件具备由含有Cr的铁基合金形成的基材、以1～10μm的膜厚形成于基材的表面的第1被膜层、以2～10μm的膜厚形成于第1被膜层的表面的第2被膜层，第1被膜层由Cr1－a－bMaBb(CcN1－c)构成，M为选自W、V、Mo、Nb、Ti、Al中的1种以上的元素，a、b、c为原子比时，满足0≤a≤0.7、0≤b≤0.15、0≤c≤0.5、0.3≤1－a－b，第2被膜层由Nb1－d－e－fCrdAleLf(CgN1－g)构成，L为选自Si、Y、B中的1种以上的元素，d、e、f、g为原子比时，满足0.05≤1－d－e－f≤0.5、0.05≤d≤0.5、0.4≤e≤0.7、0≤f≤0.15、0≤g≤0.5。

公开(公告)号：CN100558928C

公开(公告)日：2009-11-11

申请号：CN200710126306.1

申请日：2007-06-29

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 山本兼司 ,  格尔曼·福克斯-拉比诺维奇

IPC: C23C14/06 ,  C23C14/32 ,  B23B27/14 ,  B23B51/00 ,  B21J13/00

CPC classification number: C23C14/0641 ,  C23C14/0021 ,  C23C14/0664 ,  C23C14/0676 ,  C23C14/325 ,  C23C30/005 ,  Y10T428/2495 ,  Y10T428/24975 ,  Y10T428/265

Abstract: 本发明公开的是一种硬质膜和用于制备所述硬质膜的方法，其中所述硬质膜在耐磨性方面是显著优异的，并且即使在由于摩擦生热趋向于出现剧烈发热的环境下，也具有优异的抗氧化性，因此与包括TiAlN、TiCrAlN、TiCrAlSiBN、CrAlSiBN或NbCrAlSiBN的普通硬质膜相比，具有优异的性能。所述硬质膜包含(M)aCrbAlcSidBeYfZ(而M是选自周期表中的IVB族元素、VB族元素和VIB族元素(除Cr以外)中的至少一种元素，并且Z表示N、CN、NO和CNO中的一种)，其中a+b+c+d+e+f＝1，并且0＜a≤0.3，0.05≤b≤0.4，0.4≤c≤0.8，0≤d≤0.2，0≤e≤0.2且0.01≤f≤0.1(a、b、c、d、e和f分别表示M、Cr、Al、Si、B和Y的原子比)。

公开(公告)号：CN100558552C

公开(公告)日：2009-11-11

申请号：CN200710136652.8

申请日：2007-07-18

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 山本兼司

IPC: B32B33/00 ,  C23C14/06

Abstract: 本发明提供一种硬质皮膜及硬质皮膜被覆材，其与现有的表面被覆层相比，耐磨损性好，并且摩擦系数低且滑动性好。由M(BaCbN1-a-b)构成的皮膜层A，满足下式(1A)～(2A)，由Ti1-x-yCrxAlySiz(C1-ANA)所构成的皮膜层B，满足下式(1B)～(5B)，其各自层厚分别为5～100nm，层叠而成的硬质皮膜等(其中，上述M为W、V、Mo、Nb中的1种以上，在下式中，a表示B的原子比，b表示C的原子比，x表示Cr的原子比，y表示Al的原子比，z表示Si的原子比，A表示N的原子比。)。0≤a≤0.3式(1A)；0≤b≤0.5式(2A)；0≤1-x-y≤0.5式(1B)；0≤x≤0.5式(2B)；0.4≤y≤0.7式(3B)；0≤z≤0.15式(4B)；0.5≤A≤1式(5B)。