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    取代的1,2,5-噁二唑化合物及其作为除草剂的用途II
    40.
    发明公开
    取代的1,2,5-噁二唑化合物及其作为除草剂的用途II 无效

    公开(公告)号：CN104053656A

    公开(公告)日：2014-09-17

    申请号：CN201280066981.9

    申请日：2012-11-15

    Applicant: 巴斯夫欧洲公司

    Inventor： H·克罗斯 ,  M·维切尔 ,  T·塞茨 ,  T·W·牛顿 ,  L·帕尔拉帕多 ,  R·阿朋特 ,  K·克罗伊茨 ,  K·格罗斯曼 ,  J·莱尔希尔 ,  R·R·埃万斯

    IPC: C07D409/12 ,  C07D413/12 ,  C07D417/12 ,  A01N43/82

    CPC classification number: C07D413/12 ,  A01N43/82 ,  C07D409/12 ,  C07D413/14 ,  C07D417/12

    Abstract: 本发明涉及式(I)的取代的1,2,5-二唑化合物及其N-氧化物和盐，以及包含它们的组合物。本发明还涉及1,2,5-二唑化合物或包含该类化合物的组合物在防治不希望的植物生长中的用途。此外，本发明涉及施用该类化合物的方法。在式I中，各变量具有下列含义：R例如为氢、氰基、硝基、卤素、C1-C6烷基、C3-C7环烷基、C3-C7环烷基-C1-C4烷基、C1-C6卤代烷基、C2-C6链烯基、C2-C6卤代链烯基、C2-C6炔基、C2-C6卤代炔基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基、C1-C4卤代烷氧基-C1-C4烷基、O-Ra、Z-S(O)n-Rb、Z-C(＝O)-Rc、Z-C(＝O)-ORd、Z-C(＝O)-NReRf、Z-NRgRh、Z-苯基和Z-杂环基；CYC为具有下式Cyc-1或Cyc-2的双环或三环基团，其中#为该双环基团与羰基的连接点，Q、Q'相互独立地为例如稠合5、6、7、8、9或10员碳环或稠合5、6、7、8、9或10员杂环；R1例如为Z1-氰基、卤素、硝基、C1-C8烷基、C2-C8链烯基、C2-C8炔基、C1-C8卤代烷基、C1-C8烷氧基、C1-C4烷氧基-C1-C4烷基、Z1-C1-C4烷氧基-C1-C4烷氧基、C1-C4烷硫基-C1-C4烷基、Z1-C1-C4烷硫基-C1-C4烷硫基、C2-C6链烯氧基、C2-C6炔氧基、C1-C6卤代烷氧基、C1-C4卤代烷氧基-C1-C4烷基、Z1-C1-C4卤代烷氧基-C1-C4烷氧基、Z1-S(O)k-R1b、Z1-苯氧基或Z1-杂环氧基；R3例如为氢、卤素、Z3-OH、Z3-NO2、Z3-氰基、C1-C6烷基、C2-C8链烯基、C2-C8炔基、Z3-C3-C10环烷基、Z3-C3-C10环烷氧基、C1-C8卤代烷基、Z3-C1-C8烷氧基、Z3-C1-C8卤代烷氧基、Z3-C1-C4烷氧基-C1-C4烷氧基、Z3-C1-C4烷硫基-C1-C4烷硫基、Z3-C2-C8链烯氧基、Z3-C2-C8炔氧基、Z3-C1-C8卤代烷氧基、Z3-C2-C8卤代链烯氧基、Z3-C2-C8卤代炔氧基、Z3-C1-C4卤代烷氧基-C1-C4烷氧基、Z3-(三-C1-C4烷基)甲硅烷基、Z3-S(O)k-R3b、Z3-C(＝O)-R3c、Z3-C(＝O)-OR3d、Z3-C(＝O)-NR3eR3f、Z3-NR3gR3h、Z3a-苯基和Z3a-杂环基；R4为氢、卤素、氰基、硝基、C1-C4烷基和C1-C4卤代烷基；R5为氢、卤素、C1-C4烷基和C1-C4卤代烷基；条件是基团R4和R5中至少一个不为氢；n为0、1或2；k为0、1或2；以及变量Z、Z1、Z2、Z3、Z3a、Ra、Rb、R1b、R2b、R3b、Rc、R2c、R3c、Rd、R3d、Re、Rf、R3e、R3f、Rg、Rh、R2g、R2h、R3g和R3h具有权利要求书中所给含义。

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