荧光体及发光装置
    37.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103242842A

    公开(公告)日:2013-08-14

    申请号:CN201210488653.X

    申请日:2012-11-26

    CPC classification number: C09K11/7706 H01L33/504 Y02B20/181

    Abstract: 本发明提供一种荧光体及发光装置,所述荧光体具有高温特性和长期可靠性且为高亮度,所述发光装置是使用了该荧光体的白色发光装置。本发明的荧光体具有:峰值波长为540nm以上至545nm以下、荧光强度为260%以上至280%以下的氧氮化物荧光体(A);峰值波长为615nm以上至625nm以下的氮化物荧光体(B)。荧光体(A)的配比为74质量%以上至89质量%以下,荧光体(B)的配比为11质量%以上至19质量%以下。

    β型赛隆的制备方法
    38.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103168086A

    公开(公告)日:2013-06-19

    申请号:CN201180046132.2

    申请日:2011-04-21

    Inventor: 江本秀幸

    CPC classification number: C09K11/7701 C09K11/0883 C09K11/7734

    Abstract: 本发明的目的是提供具有更高荧光强度的β型赛隆的制备方法。本发明的β型赛隆的制备方法具有:对含有硅、铝及铕的原料粉末进行混合的混合工序;将混合得到的原料在惰性气体或非氧化性气体的气氛中进行烧成,生成由通式:Si6-zAlzOzN8-z:Eu(0<z<4.2)表示的β型赛隆的烧成工序;对生成的β型赛隆进行退火处理的退火工序;对退火处理后的β型赛隆进行酸处理的酸处理工序。退火处理在以下条件下进行:还原性气氛中、气氛压力为100kPa以上至10MPa以下、气氛温度为1200℃以上至1600℃以下、并且处理时间为1小时以上至24小时以下。

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