放射线靶及其生产方法
    32.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104067367A

    公开(公告)日:2014-09-24

    申请号:CN201280067869.7

    申请日:2012-01-23

    Abstract: 提供了一种放射线发射靶和放射线产生设备,其通过保持层状放射线靶的稳定粘合降低了由于操作和温度历史导致的输出变化,并且实现了稳定放射线发射特性。放射线靶包括支撑基板、当被电子束照射时发射放射线的靶层以及位于支撑基板和靶层之间的中间层。中间层具有1μm或更小的厚度,并且包含钛作为主要成分。钛的至少一部分在400℃或更低显现β相。

    成像设备
    33.
    发明授权

    公开(公告)号:CN102064070B

    公开(公告)日:2012-04-04

    申请号:CN201010566849.7

    申请日:2005-12-15

    Inventor: 伊藤靖浩

    CPC classification number: H01J29/028 H01J29/864 H01J31/123 H01J2329/864

    Abstract: 本发明提供一种能够抑制由在显示板中产生的前-后温差引起的电子束的入射位置的波动,从而能够实现不受这种温差影响的高质量显示的平板成像设备。在其中前板和背板由隔离物支承的成像设备中,从前板到背板的热传导路径中的热阻分割比被抑制为0.5或更小,以降低由隔离物的高度方向上的温度分布引起的隔离物表面上的电阻分布,从而抑制从电子发射装置到阳极的电子束的入射位置的波动。

    气密密封容器的制造方法
    34.
    发明公开

    公开(公告)号:CN102386043A

    公开(公告)日:2012-03-21

    申请号:CN201110251372.8

    申请日:2011-08-25

    CPC classification number: B32B37/06 B32B37/02 C03C27/06 H01J9/241 H01L51/524

    Abstract: 本发明公开了气密密封容器的制造方法,该方法包括以下的步骤:通过利用在第一电极116和第二电极132之间施加电势差而在第一和第二电极之间产生的静电力将第一基板和第二基板相互加压,使框架部件130与第一基板110接合;通过同时用局部加热单元150加热接合材料并移动局部加热单元,软化和熔融接合材料并然后冷却和凝固接合材料;以及增加第一电极和处于由局部加热单元加热的位置的第二电极的分段之间的电势差。

    成像设备
    35.
    发明授权

    公开(公告)号:CN1787163B

    公开(公告)日:2010-11-17

    申请号:CN200510022890.7

    申请日:2005-12-09

    Inventor: 伊藤靖浩

    Abstract: 在具有防止扁平成像设备中短时间充电的凹/凸部分的隔板中,由于这些凹/凸部分而抑制了长时间驱动时的充电,其中在该成像设备中电子源基板和阳极基板被排列成通过该隔板彼此相对。在该隔板中,于带有粗糙表面的绝缘基板的表面上涂覆高电阻膜,该高阻膜具有双层,即位于基板侧上的低电阻区和位于前表面侧上的高电阻区,每个凹/凸部分的斜面上的高电阻膜的厚度(t)以及高电阻区的厚度(s)设置成对于一次电子贯入长度(dp)以及离子化电子扩散长度(λ)为t≥dp+λ≥s。

    气密容器和图像显示设备的制造方法

    公开(公告)号:CN101789348A

    公开(公告)日:2010-07-28

    申请号:CN201010005417.9

    申请日:2010-01-19

    CPC classification number: H01J9/40 H01J29/86 H01J2209/26 H01J2329/94

    Abstract: 一种气密容器制造方法,该方法包括用盖密封通孔,该方法可确保密封性能和防止密封剂流入通孔。该方法包括:(a)通过设置在容器上的通孔抽空容器内部;(b)在内部已经抽空的容器的外表面上布置板构件以便封闭通孔,板构件外周具有沿板厚度方向穿透板构件的凹槽;和(c)布置盖以便借助密封剂盖住板构件,并且借助密封剂将盖和容器外表面粘结,其中,密封包括在随着盖挤压板构件而使密封剂变形后使密封剂硬化,密封剂的变形使得密封剂经由凹槽而定位在盖和容器外表面之间。本发明还涉及一种制造图像显示设备的方法。

    用于制造密封容器的方法
    37.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101740284A

    公开(公告)日:2010-06-16

    申请号:CN200910209085.3

    申请日:2009-10-30

    Abstract: 一种用于制造密封容器的方法,包括提供具有第一基板和框架构件的组件,所述第一基板具有在其第一表面上形成的电子发射元件,所述框架构件被安装在第一表面上,位于形成电子发射元件的区域之外;通过经由连接构件使第二基板与框架构件相接触形成内部空间,形成具有所述组件和第二基板的临时组件;通过使用透过第二基板传输的激光束照射所述连接构件使连接构件熔化;并使熔化的连接构件固化。施加激光束,使得当激光束相对于临时组件移动时,在连接构件上的照射位置处的激光束的入射方向不包含朝向框架构件内部的分量。

    成像设备
    39.
    发明公开

    公开(公告)号:CN1790600A

    公开(公告)日:2006-06-21

    申请号:CN200510129573.5

    申请日:2005-12-15

    Inventor: 伊藤靖浩

    CPC classification number: H01J29/028 H01J29/864 H01J31/123 H01J2329/864

    Abstract: 本发明提供一种能够抑制由在显示板中产生的前-后温差引起的电子束的入射位置的波动,从而能够实现不受这种温差影响的高质量显示的平板成像设备。在其中前板和背板由隔离物支承的成像设备中,从前板到背板的热传导路径中的热阻分割比被抑制为0.5或更小,以降低由隔离物的高度方向上的温度分布引起的隔离物表面上的电阻分布,从而抑制从电子发射装置到阳极的电子束的入射位置的波动。

    识别装置
    40.
    发明公开
    识别装置 审中-公开

    公开(公告)号:CN117581091A

    公开(公告)日:2024-02-20

    申请号:CN202280045759.4

    申请日:2022-06-30

    Abstract: 摄像单元被配置为拍摄由光谱单元散射的光谱以获取光谱图像,以及识别装置被配置为基于光谱图像识别物体的属性,所述识别装置包括校正单元,该校正单元被配置为基于关于初级光的波长的波长信息来校正关于与光谱图像相对应的波数偏移的信息。

Patent Agency Ranking