公开(公告)号：CN101285178A

公开(公告)日：2008-10-15

申请号：CN200810086915.3

申请日：2008-03-28

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 加藤寿 ,  冈部庸之 ,  大仓成幸 ,  中尾贤

IPC: C23C16/448

CPC classification number: C23C16/4486

Abstract: 本发明提供一种汽化器和半导体处理系统，其是用于从液体原料得到处理气体的汽化器，包括在喷注器的排出口下侧配置在容器内的具有中空的内部空间的下部热交换体。在排出口和下部热交换体之间规定雾状液体原料的助起动空间，在容器的内侧面和下部热交换体之间规定与助起动空间连接的环状空间。内部加热器配置在下部热交换体的内部空间中。内部加热器作成利用陶瓷密封编织有多个碳纤维束的碳线的结构。内部加热器加热通过环状空间的雾状液体原料生成处理气体。

公开(公告)号：CN101093057A

公开(公告)日：2007-12-26

申请号：CN200710110099.0

申请日：2007-06-22

Applicant: 喜开理株式会社 ,  东京毅力科创株式会社

Inventor： 冈部庸之 ,  大仓成幸 ,  土居广树 ,  伊藤稔 ,  森洋司 ,  西村康典

IPC: F17D1/08 ,  F17D3/01

CPC classification number: F16K27/003 ,  F16K7/14 ,  F16K31/06 ,  H01L21/31691 ,  Y10T137/4259 ,  Y10T137/87885

Abstract: 液体原材料供应单元适于对汽化器供应液体原材料。该单元包括：集管，其内形成有流动通道；和多个流体控制阀，它们安装在集管上且包括：液体原材料控制阀；清洗溶液控制阀；吹扫气体控制阀；和第一引入控制阀，它可连接到汽化器上，用于控制从流动通道到汽化器的流体供应，吹扫气体控制阀、清洗溶液控制阀、液体原材料控制阀、和第一引入控制阀从集管的上游侧按此顺序安装在集管上。流动通道分别连接那些控制阀的阀口，这些阀口与相应控制阀的阀开口连通，而且流动通道构造成允许从吹扫气体控制阀供应来的吹扫气体直接在设置于吹扫气体控制阀下游的清洗溶液控制阀和液体原材料控制阀的阀口中流动。

公开(公告)号：CN2674647Y

公开(公告)日：2005-01-26

申请号：CN03203318.4

申请日：2003-02-07

Applicant: 东京毅力科创株式会社

Inventor： 冈部庸之 ,  大仓成幸

IPC: H01L21/3065 ,  H01L21/205 ,  C23C16/455

Abstract: 本实用新型涉及流体控制装置和热处理装置。在现有的气体供应系统中，由于气体管路有转换阀、过滤器、压力调节器及压力传感器而不能充分实现系统小型化。为此提出一种流体控制装置，它有包括设有流量控制器的第一区域、在第一区域上游的且有压力调节机构和/或压力监视机构的第二区域的气体管路、设在气体管路第二区域的上游的且连接流体供应源的多个连接机构。还提出一种流体控制装置，它有多个气体管路和连接机构，气体管路分别有第一区域和第二区域，至少一条气体管路有第一部分和连接机构设置于其上的第二部分。还提出一种热处理装置，它有流体控制装置和通过流体控制装置接受流体的反应处理炉。流体控制装置和热处理装置主要用于半导体制造。