热射线屏蔽组合物
    31.
    发明公开

    公开(公告)号:CN103725077A

    公开(公告)日:2014-04-16

    申请号:CN201310406665.8

    申请日:2013-09-09

    CPC classification number: G02B1/10 G02B5/207 G02B5/208 G02B5/223

    Abstract: 本发明提供一种热射线屏蔽组合物、ITO涂料、热射线屏蔽膜的形成方法以及热射线屏蔽薄膜的形成方法,所述热射线屏蔽组合物的可见光的透射率较高且近红外线的阻挡率较高。本发明的热射线屏蔽组合物,是在ITO粉末以0.1~50质量%的范围分散而成的分散液中,将选自二亚铵类色素、酞菁类色素及二硫醇金属络合物色素中的一种或两种以上的近红外线吸收色素,相对于所述分散液100质量%以0.01~0.5质量%的范围混合而构成。所述ITO粉末用于制造具有4.0eV~4.5eV范围的带隙的ITO膜。

    ITO粉末及其制造方法、以及分散液和ITO膜的制造方法

    公开(公告)号:CN103693677A

    公开(公告)日:2014-04-02

    申请号:CN201310283707.3

    申请日:2013-07-08

    Abstract: 本发明提供一种ITO粉末及其制造方法、以及分散液和ITO膜的制造方法,所述ITO粉末不需要粉末状态下的后处理而在ITO粉末的压坯中获得低于以往的体积电阻率。本发明的ITO粉末,在附属于X射线衍射装置的试料座中填充试料即ITO粉末,并以2θ=15~90deg的范围照射X射线,并由所获得的衍射线来进行晶格常数、微晶尺寸、晶格应变的精密化的结果,所获得的晶格应变在0.2~0.8的范围内。

    电沉积液及绝缘皮膜的制造方法

    公开(公告)号:CN116829655A

    公开(公告)日:2023-09-29

    申请号:CN202280009640.1

    申请日:2022-01-13

    Abstract: 本发明的电沉积液为用于在导电性基材上电沉积出电沉积膜的电沉积液,含有水、分散介质及固体成分,所述固体成分含有聚酰亚胺系树脂和氟系树脂,所述固体成分中所含的所述氟系树脂的含量在72质量%以上且95质量%以下的范围内,分散在所述水及所述分散介质中的所述固体成分的平均粒径为50nm以上且500nm以下,所述固体成分的粒径的标准偏差为250nm以下。

    带有绝缘覆膜的平板导电板及其制造方法

    公开(公告)号:CN116583918A

    公开(公告)日:2023-08-11

    申请号:CN202280008150.X

    申请日:2022-03-10

    Abstract: 该带有绝缘覆膜的平板导电板(1)具有作为冲切加工品的平板导电板(10)和包覆所述平板导电板(10)的至少一部分的绝缘覆膜(20),所述绝缘覆膜(20)为电沉积膜,所述绝缘覆膜(20)包含聚酰胺酰亚胺树脂和氟系树脂,相对于所述聚酰胺酰亚胺树脂和所述氟系树脂的合计含量,所述氟系树脂的含量在72质量%以上且95质量%以下的范围内,所述绝缘覆膜(20)的在25℃的相对介电常数在2.2以上且2.8以下的范围内,并且平均膜厚在5μm以上且100μm以下的范围内。

    导电性粘结剂、导电性薄膜、导电性间隔物及它们的制法

    公开(公告)号:CN111951996B

    公开(公告)日:2023-06-30

    申请号:CN202010810748.3

    申请日:2016-01-18

    Abstract: 本发明提供导电性粘结剂、导电性薄膜、导电性间隔物及它们的制法。导电性粘结剂含有银包覆粒子和绝缘性的粘合剂树脂,银包覆粒子具备:核粒子,由树脂粒子构成;及银包覆层,通过进行化学镀银而形成于该核粒子的表面,银包覆层所含的银的量相对于银包覆粒子100质量份为80~90质量份,向X射线衍射装置所附带的试样支架填充银包覆粒子并在2θ/θ=30~120deg的范围内照射X射线,根据获得的衍射线计算的银的微晶直径在40~80nm范围,银包覆层不留间隙地包覆核粒子的表面,核粒子为由丙烯苯乙烯共聚物树脂、即AS树脂构成的球状粒子,平均粒径为0.5~40μm。

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