公开(公告)号：CN1326984C

公开(公告)日：2007-07-18

申请号：CN02818962.0

申请日：2002-09-27

Applicant: 独立行政法人产业技术综合研究所

Inventor： 垰田博史

IPC: C11D7/20 ,  C11D7/02 ,  C11D7/18

CPC classification number: C11D3/48 ,  C11D3/0063 ,  C11D3/3947 ,  C11D7/02 ,  C11D7/20 ,  C11D11/007

Abstract: 本发明提供一种包含选自TiOx(1.5＜x＜2)、TiOxN2-X(1＜x＜2)、金刚石型的碳、以及氧化钛二氧化硅复合物TiOx-SiO2(1.5＜x≤2)中的一种以上的材料的新洗涤剂，及其利用该洗涤剂的物体洗涤方法，特别提供一种含有上述材料的抗菌材料和使用该材料的抗菌制品、环境材料的制造方法、新功能性吸附剂及其制造方法。

公开(公告)号：CN1938415A

公开(公告)日：2007-03-28

申请号：CN200580010321.9

申请日：2005-02-25

Applicant: 高级技术材料公司

Inventor： 迈克尔·B·科岑斯基 ,  托马斯·H·鲍姆

IPC: C11D3/44 ,  C23G1/00 ,  B08B3/00

CPC classification number: C11D11/0047 ,  B08B7/0021 ,  C11D3/02 ,  C11D3/042 ,  C11D3/046 ,  C11D3/3749 ,  C11D3/43 ,  C11D7/02 ,  C11D7/08 ,  C11D7/10 ,  C11D7/5004

Abstract: 本发明描述了用于从图案化Si/SiO2半导体晶片表面去除含硅粒子物质例如氮化硅和氧化硅的方法和组合物。该组合物包括超临界流体(SCF)、蚀刻剂类物质、共溶剂、表面钝化剂、结合剂、去离子水和任选的表面活性剂。该SCF基组合物在后续加工之前从晶片表面基本去除污染性粒子物质，从而改善半导体器件的形态、性能、可靠性和产量。

公开(公告)号：CN1875325A

公开(公告)日：2006-12-06

申请号：CN200480032175.5

申请日：2004-10-20

Applicant: 马林克罗特贝克公司

Inventor： 戴维·C·斯基

IPC: G03F7/42 ,  C11D11/00 ,  C11D7/08 ,  C11D7/10

CPC classification number: G03F7/425 ,  C09K13/02 ,  C09K13/08 ,  C11D3/0073 ,  C11D7/02 ,  C11D7/06 ,  C11D7/08 ,  C11D7/10 ,  C11D7/32 ,  C11D7/3209 ,  C11D11/0047 ,  C23G1/16

Abstract: 本发明提供了用于微电子产业剥离或清洁半导体晶片基板的碱性组合物，其除去光致抗蚀剂残余物和其它不必要杂质。该组合物包含：(a)一种或多种碱和(b)一种或多种具有以下通式的防止金属腐蚀的金属卤化物：WzMXy，其中M是选自Si、Ge、Sn、Pt、P、B、Au、Ir、Os、Cr、Ti、Zr、Rh、Ru和Sb的金属；X是选自F、CI、Br和I的卤素；W选自H、碱金属或碱土金属，和不含金属离子的氢氧化物碱部分；y是数4－6，取决于金属卤化物；z是数1、2或3。

公开(公告)号：CN1219124C

公开(公告)日：2005-09-14

申请号：CN01810699.4

申请日：2001-06-05

Applicant: 宝洁公司

Inventor： 约翰·科特·塞弗恩斯 ,  弗雷德里克·安东尼·哈特曼 ,  克里斯蒂安·阿瑟·雅克·凯米尔·特内 ,  保罗·阿马特·雷蒙德·杰拉尔德·弗朗斯 ,  菲利普·凯尔·文森

IPC: D06L1/02 ,  C11D3/16 ,  C11D7/50

CPC classification number: F26B21/14 ,  B01D17/0202 ,  B01D17/04 ,  B01J20/26 ,  B01J20/28033 ,  C10G33/02 ,  C11D3/162 ,  C11D3/2041 ,  C11D3/30 ,  C11D3/3765 ,  C11D3/3773 ,  C11D3/3905 ,  C11D3/3932 ,  C11D3/3942 ,  C11D3/3945 ,  C11D3/3947 ,  C11D3/395 ,  C11D3/40 ,  C11D3/43 ,  C11D3/50 ,  C11D7/02 ,  C11D7/24 ,  C11D7/263 ,  C11D7/3209 ,  C11D7/5004 ,  C11D7/5009 ,  C11D7/5013 ,  C11D7/5022 ,  C11D7/5027 ,  C11D11/0017 ,  C11D11/0076 ,  D06F58/28 ,  D06F2058/2854 ,  D06L1/02 ,  D06L1/04 ,  D06L1/10 ,  D06L1/12 ,  D06L4/17 ,  D06M13/005 ,  D06M23/06

Abstract: 本发明涉及自动家庭洗衣方法，该方法用来清洗或更新纺织品，尤其是衣物、亚麻和装饰织物制品。本发明还涉及纺织品的混合物的自动家庭洗涤，所述纺织品包含可机洗纺织品和仅可干洗纺织品。洗涤介质的特征在于为硅氧烷，优选环状硅氧烷。

公开(公告)号：CN1571706A

公开(公告)日：2005-01-26

申请号：CN02820796.3

申请日：2002-10-18

Applicant: 宝洁公司

Inventor： S·加卢尔 ,  T·范·奥渥梅仁

IPC: B08B3/12 ,  A47L13/26 ,  A47L17/04 ,  C11D11/00

CPC classification number: C11D3/02 ,  A47L13/10 ,  A47L17/04 ,  A47L25/08 ,  B08B3/12 ,  C11D3/3947 ,  C11D7/02 ,  C11D11/007

Abstract: 超声波清洁产品包括清洁组合物，所述组合物包括清洁组分和溶解气体源以及用于将超声波能量赋予待清洁表面的超声波生成源。用于从需要清洁的表面去除污垢的方法包括将包括清洁组分和溶解气体源的清洁组合物应用到需要清洁的表面上，和用超声波能量接触该表面。

公开(公告)号：CN1533846A

公开(公告)日：2004-10-06

申请号：CN200310120846.0

申请日：2003-12-30

Applicant: 株式会社山下瓦客思 ,  有限会社优尼泰科

Inventor： 山下健治

IPC: B08B7/04

CPC classification number: B24C11/005 ,  B08B7/0028 ,  B24C11/00 ,  C11D3/02 ,  C11D3/124 ,  C11D3/384 ,  C11D7/02 ,  C11D7/46 ,  C11D11/0023 ,  C11D17/0047 ,  C11D17/06

Abstract: 本发明公开了一种洗涤材料及采用该洗涤材料的洗涤方法。该洗涤材料是利用碰撞的方法来洗涤被洗涤物的表面，其由采用明胶或胶制成的多数个核体、核体内含有的可使核体具有粘着性及弹性的水及可防止各核体之间因粘着力而引起粘连，并可保持各个核体的形态而在核体表面附着的多数个防粘连离散粒子组成，洗涤时利用该洗涤材料来冲撞被洗涤物的表面，进而捕获住被洗涤物表面的异物而将其除去，而且本发明的洗涤方法还可用来去除因磁力而吸附在被洗涤物表面的异物。

公开(公告)号：CN109628238A

公开(公告)日：2019-04-16

申请号：CN201910031393.5

申请日：2019-01-14

Applicant: 厦门金童半导体有限公司

Inventor： 钟志勇

IPC: C11D7/02 ,  C11D3/02 ,  C11D3/48 ,  C22C23/00 ,  C22C23/02

CPC classification number: C11D7/02 ,  C11D3/02 ,  C11D3/48 ,  C22C23/00 ,  C22C23/02

Abstract: 本发明公开了一种洗涤卫浴用品，包括合金颗粒，所述合金颗粒通过过滤袋封装用以放置在洗涤容器内电解出洗涤液，所述合金颗粒按质量百分比为：铝(0‑5％)，镁(75‑99.5％)，铁(0‑5％)，钙(0‑5％)，硅(0‑5％)，锰(0‑5％)；合金颗粒直径大小为0.2‑0.5cm。本发明能够消除衣物异味以及衣物风干晾干时产生的异味，节约洗衣用水，杀菌抑菌，通过减少漂洗次数实现节约用水的经济价值；而本品不添加任何芳香剂，去除异味能力超强；本品通过氢离子的还原作用，实现除菌效果。

公开(公告)号：CN109055042A

公开(公告)日：2018-12-21

申请号：CN201810984803.3

申请日：2018-08-28

Applicant: 湖南天华油茶科技股份有限公司

Inventor： 王志勇 ,  陶建军 ,  王文纤

IPC: C11D7/02 ,  C11D7/10 ,  C11D7/12 ,  C11D7/44 ,  C11D7/60

CPC classification number: C11D7/44 ,  C11D7/02 ,  C11D7/10 ,  C11D7/12

Abstract: 本发明公开了一种洗涤粉,其是由下列质量份配比的原料制成：油茶籽粕35～60份、小苏打30～50份、活性白土2～5份、海盐5～10份、姜粉0.5～2份。制备方法如下：（1）取原料：按配比称取原料；（2）粉碎：将原料干燥，分别通过粉碎机进行粉碎，得到各原料粉料；（3）混合：将各原料粉料混合，搅拌均匀；（4）杀菌：通过100‑120℃热风杀菌，再密封包装，得到洗涤粉。该洗涤粉有效去除污渍，对肌肤无毒性、无刺激性、无过敏性作用，低泡、省水，适合日常生活器具的清洁。

公开(公告)号：CN108659996A

公开(公告)日：2018-10-16

申请号：CN201710193031.7

申请日：2017-03-28

Applicant: 济南奥古日用品有限公司

Inventor： 不公告发明人

IPC: C11D7/60 ,  C11D7/44 ,  C11D7/12 ,  C11D7/20 ,  C11D7/02 ,  C11D17/06 ,  C09G1/02

CPC classification number: C11D7/44 ,  C09G1/02 ,  C11D7/02 ,  C11D7/12 ,  C11D7/20 ,  C11D17/06

Abstract: 本发明公开了一种多效重垢清洁剂配方，制作原料包括苏达、小苏打、石英粉、玉米衍生物、椰子衍生物和碳酸钙；所述的制作原料由以下组份组成：苏达10份、小苏打20份、石英粉20份、玉米衍生物20份、椰子衍生物10份、碳酸钙 20份。制备方法包括以下步骤：步骤一，原料选择；步骤二，按照配比混合；步骤三转移；步骤四、粉碎；步骤五，包装及密封；本发明采用玉米、椰子等天然植物提取衍生物成分，成分安全环保可降解，优于市售含氯化物的清洁粉，性质温和不伤手。精选纳米级抛光成分，有效光亮不锈钢灶具、锅具、不锈钢龙头、瓷砖等，纳米级颗粒，温和抛光，不产生划痕。

公开(公告)号：CN104652123B

公开(公告)日：2018-08-31

申请号：CN201410484432.4

申请日：2014-09-19

Applicant: 现代自动车株式会社 ,  可隆科技特株式会社

Inventor： 姜建 ,  徐玹珠 ,  尹美政 ,  崔大硕 ,  河龙兑 ,  金玟廷 ,  金朱安 ,  金基业 ,  权允正 ,  姜信赫

IPC: D06M11/79 ,  D06M11/38 ,  D06M15/53 ,  B01J20/16

CPC classification number: C11D3/0068 ,  C11D3/0031 ,  C11D3/128 ,  C11D7/02 ,  C11D7/44 ,  C11D11/0017 ,  D06M11/00 ,  D06M11/73 ,  D06M11/79 ,  D06M13/005 ,  Y10T428/249921

Abstract: 本发明提供去除人造革织物中含有的挥发性有机化合物(VOC)和由挥发性有机化合物引起的气味的方法，其通过对人造革织物涂覆与含有挥发性有机化合物(VOC)的有毒物质发生反应的吸附剂；和浸渍；洗涤；以及干燥反应后的人造革织物。该方法包括涂覆吸附剂并通过反应使挥发性有机化合物固定化，以防止有机化合物的挥发或减少其量。此外，在人造革织物与吸附剂发生反应后，洗涤人造革织物，以从人造革中去除固定化在织物表面上的挥发性有机化合物。