一种通过磁控溅射表面处理提高TC4钛合金的阻尼性能的方法

    公开(公告)号:CN105316633B

    公开(公告)日:2018-05-22

    申请号:CN201510780931.2

    申请日:2015-11-13

    Abstract: 本发明公开了一种通过磁控溅射表面处理提高TC4钛合金的阻尼性能的技术,对TC4钛合金进行表面处理以提高阻尼性能,其特征在于,选用适当靶材在磁控溅射设备采用优选的溅射工艺参数在TC4样品上沉积表面膜,以改善TC4钛合金的阻尼性能。本发明通过磁控溅射技术在TC4合金表面形成一层厚度在纳米或微米数量级的薄膜。薄膜和基体之间的界面及界面附近的位错往往是薄膜材料中主要的阻尼源,振动时往往能够通过位错阻尼的机制耗散能量。将表面处理后的TC4合金与未处理的TC4合金的阻尼性能进行对比,TC4合金的阻尼系数为0.0034,通过磁控溅射表面处理技术可以有效地提高其阻尼系数,使TC4合金的阻尼性能提高3‑5倍。

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