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公开(公告)号：CN105814681A
公开(公告)日：2016-07-27
申请号：CN201480065043.6
申请日：2014-11-26
Applicant: 株式会社神户制钢所 , 神钢力得米克株式会社
Abstract: 本发明提供一种底板，该底板在一方的安装面上借助接合材料接合被接合构件，在供被接合构件接合的安装面的接合位置，具备用于借助接合材料接合被接合构件的凹处。凹处构成为，凹处开口面积比所述被接合构件大，在被接合构件的外周缘所面对的凹处外周部，凹陷的深度比凹处中央部深。
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公开(公告)号：CN104040018A
公开(公告)日：2014-09-10
申请号：CN201280064789.6
申请日：2012-12-19
Applicant: 株式会社神户制钢所
IPC: C23C14/14 , C22C5/06 , C23C14/34 , G02F1/1335 , G02F1/1343 , H01L51/50 , H05B33/26
Abstract: 本发明涉及用于反射电极的Ag合金膜，该Ag合金膜可显示与Ag膜基本同等水平的低电阻率和高反射率，并且耐氧化性优异。所述反射电极用Ag合金膜是用于反射电极的Ag合金膜，其特征在于，该Ag合金膜含有0.1～2.0原子％的选自In及Zn中的至少1种。
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公开(公告)号：CN102640219A
公开(公告)日：2012-08-15
申请号：CN201080040683.3
申请日：2010-09-16
CPC classification number: G11B7/2437 , C23C14/08 , C23C14/3414 , G11B7/24038 , G11B7/2433 , G11B2007/24304 , G11B2007/24306 , G11B2007/24308 , G11B2007/24312 , G11B2007/2432 , Y10T428/21
Abstract: 本发明提供记录特性优异的光信息记录介质用记录层、具备该记录层的光信息记录介质及对上述记录层的形成有用的溅射靶。该光信息记录介质用记录层是通过激光的照射进行记录的记录层，其特征在于，含有氧化物相对于1mol氧的标准生成自由能的绝对值比Pd大的金属(以下，称为X金属)的氧化物和氧化Pd，该氧化Pd含有一氧化Pd和二氧化Pd，且Pd原子相对于记录层中所含的X金属原子和Pd原子的合计的比率为4～85原子％。
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公开(公告)号：CN101467210B
公开(公告)日：2011-06-08
申请号：CN200780022013.7
申请日：2007-06-15
CPC classification number: G11B7/259 , G11B7/00736 , Y10T428/21
Abstract: 本发明可以确定通过物理转写在光学记录介质的基板上形成的凹坑和平面的形状而制备的盗版光盘记录介质。所述光学记录介质具有卓越的耐候性和长期存储可靠性。在通过凹坑和平面的组合记录了主数据的基板上形成由Ag100-x-yXxCuy的Ag合金膜所形成的反射膜，其中，X为Ti、W、Ta、V、Mo、Nb及Zr中的至少一种元素。可以形成标记，使得在所述反射膜上一次写入的记录辅助数据的记录标记的再生信号电平升高，并且在通过物理转写所述基板的凹坑和平面的表面形状而制备的光学记录介质的再生信号电平降低。以这种方式可以确定盗版光学记录介质。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN100334239C
公开(公告)日：2007-08-29
申请号：CN200410100020.2
申请日：2004-11-30
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C22C5/06 , C23C14/185 , C23C14/3414 , Y10T428/12896
Abstract: 本发明提供一种兼有低电阻率、高耐热性的FPD用Ag基合金配线电极膜、以及用于形成该Ag基合金配线电极膜的FPD用Ag基合金溅射靶、以及具备该Ag基合金配线电极膜的FPD。本发明的FPD用Ag基合金配线电极膜，在有源型FPD的情况下，构成连接到用于使其驱动的TFT2上的配线电极膜(3)、(4)、(5)、(6)、(7)。所述配线电极膜，由含有0.1～4.0at%的Nd、和/或0.01～1.5at%的Bi、剩余部分实质上由Ag构成的Ag基合金形成。除了Nd之外，所述Ag基合金还可以含有合计0.01～1.5at%的选自由Cu、Au、Pd构成的物质组中的一种或者两种以上元素。
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公开(公告)号：CN1331138C
公开(公告)日：2007-08-08
申请号：CN200510066665.3
申请日：2005-04-21
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: G11B7/258 , G11B7/2533 , G11B7/2534 , G11B7/259 , Y10T428/21
Abstract: 考虑到这种情况，完成了本发明，且本发明的一个目的是发现显示通过纯Ag或通过常规Ag合金没有实现的水平的高耐内聚性、高耐光性、高耐热性、高反射率、高透射率、低吸光率，和高热传导率的Ag基合金，和在这种合金的基础上，提供一种具有优异写/读性能和长期使用可靠性的光学信息记录介质用半反射膜和反射膜；在沉积这种半反射膜和反射膜中使用的光学信息记录介质用溅射靶材；和一种配备有这种半反膜或反射膜的光学信息记录介质。光学信息记录介质用半反射膜或反射膜，其包含Ag基合金，其中Ag基合金包含0.005至0.40%(原子%，除非另外注明)的Bi和总量为0.05至5%的选自Zn、Al、Ga、In、Si、Ge和Sn中的至少一种元素。
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公开(公告)号：CN1303437C
公开(公告)日：2007-03-07
申请号：CN200410063217.3
申请日：2004-06-30
Applicant: 株式会社神户制钢所
CPC classification number: C23C14/024 , C23C14/185 , C23C14/3414 , C23C14/541 , G02B5/08 , Y10T428/12472 , Y10T428/12993
Abstract: 一种反射器用银合金反射膜及反射器，(1)是以表面粗糙度Ra在2.0nm以下为特征的反射器用银合金反射膜，(2)在上述银合金反射膜中含有合计0.1%～3.0原子%的稀土类元素(Nd等)，或者是进一步含有合计0.5%～5.0原子%的Au、Pd、Cu、Pt中的一种以上的反射器用银合金反射膜，(3)在基体上形成上述银合金反射膜的反射器等。该反射器用银合金反射膜和反射器，即使在加热环境下表面平滑性也优良、显示高反射率。
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公开(公告)号：CN1823179A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200480020394.1
申请日：2004-07-14
CPC classification number: C22C5/06 , C22F1/14 , C23C14/3414
Abstract: 一种Ag系溅射靶(6)，在和溅射面平行的面上切断该溅射靶而使多个溅射面露出，在每个露出的溅射面上选择多个位置，通过下式基于全部的选择位置的结晶粒径而算出值A1以及值B1，当这些值A1以及值B1中的大的值被称为结晶粒径的3维偏差时，该结晶粒径的3维偏差为18％以下。A1＝(Dmax－Dave)/Dave×100(％)，B1＝(Dave－Dmin)/Dave×100(％)，Dmax：全部选择位置的结晶粒径D的最大值，Dmin：全部选择位置的结晶粒径D的最小值，Dave：全部选择位置的结晶粒径D的平均值。
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公开(公告)号：CN1734606A
公开(公告)日：2006-02-15
申请号：CN200510083393.8
申请日：2005-07-14
Applicant: 株式会社神户制钢所
Abstract: 一种用于光学信息记录介质的Ag合金反射膜，其含有Ag作为主要组分，还含有总量大于3.0atom％且小于或等于10atom％的选自Nd、Sn、Gd和In的至少一种元素。该反射膜还可以含有0.01－3atom％的Bi和Sb中的至少一种，和/或还可以含有20atom％或更少的选自Mn、Cu、La和Zn的至少一种元素。一种光学信息记录介质，其包括该Ag合金反射膜，可以进行激光标示。一种Ag合金溅射目标，具有与Ag合金反射膜类似的组成。
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