公开(公告)号：CN109493887B

公开(公告)日：2020-11-17

申请号：CN201811043504.6

申请日：2018-09-07

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 田内裕基

IPC: G11B7/243 ,  G11B7/26

Abstract: 本发明的目的在于提供一种可抑制层数的增加且满足各种要求特性的记录层及光信息记录介质与形成它们的溅射靶。本发明的记录层为通过激光光的照射来进行记录的光信息记录介质用记录层，且含有钨氧化物及钴氧化物，相对于全部金属原子而言的钴原子的含量为超过10原子％且70原子％以下。本发明的光信息记录介质包括所述记录层。

公开(公告)号：CN111788631A

公开(公告)日：2020-10-16

申请号：CN201980013291.9

申请日：2019-05-08

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 田内裕基

IPC: G11B7/2433 ,  C23C14/08 ,  C23C14/34 ,  G11B7/24035 ,  G11B7/2578 ,  G11B7/26

Abstract: 本发明一实施方式的光信息记录媒体用记录层为可通过激光的照射来记录信息信号的光信息记录媒体用记录层，其具有包括Mn氧化物、W氧化物及Sn氧化物的金属氧化物。此外，相对于构成所述金属氧化物的金属元素的合计原子数，Mn的原子数比例为3atm％以上且40atm％以下。

公开(公告)号：CN106337171A

公开(公告)日：2017-01-18

申请号：CN201610490806.2

申请日：2016-06-28

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 藤井秀夫 ,  田内裕基

IPC: C23C18/16 ,  C23C18/32 ,  C23C28/02 ,  G11B5/84 ,  G11B5/851

CPC classification number: C23C18/32 ,  C23C18/1637 ,  C23C18/165 ,  C23C28/021 ,  G11B5/8404 ,  G11B5/851

Abstract: 提供了一种在Ni镀覆工艺中使用的沉积有底层的基板，其允许Ni镀覆层在应用NiP镀覆工艺期间充分生长，使其可以有效地形成均匀的Ni镀覆层，并且此外展现出对Ni镀覆层的良好粘附性。所述在Ni镀覆工艺中使用的沉积有底层的基板包括在用于磁性记录介质的铝基板表面上沉积的底层，并且所述底层是Al合金膜，所述Al合金膜含有Zn或Ni作为合金元素。

公开(公告)号：CN105814681A

公开(公告)日：2016-07-27

申请号：CN201480065043.6

申请日：2014-11-26

Applicant: 株式会社神户制钢所 ,  神钢力得米克株式会社

Inventor： 田尾博昭 ,  一原主税 ,  慈幸范洋 ,  田内裕基 ,  三井俊幸

IPC: H01L23/12 ,  B23K1/00 ,  H01L21/52 ,  H01L23/36 ,  H01L23/48 ,  B23K101/40

Abstract: 本发明提供一种底板，该底板在一方的安装面上借助接合材料接合被接合构件，在供被接合构件接合的安装面的接合位置，具备用于借助接合材料接合被接合构件的凹处。凹处构成为，凹处开口面积比所述被接合构件大，在被接合构件的外周缘所面对的凹处外周部，凹陷的深度比凹处中央部深。

公开(公告)号：CN104040018A

公开(公告)日：2014-09-10

申请号：CN201280064789.6

申请日：2012-12-19

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 田内裕基 ,  志田阳子

IPC: C23C14/14 ,  C22C5/06 ,  C23C14/34 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1343 ,  H01L51/50 ,  H05B33/26

Abstract: 本发明涉及用于反射电极的Ag合金膜，该Ag合金膜可显示与Ag膜基本同等水平的低电阻率和高反射率，并且耐氧化性优异。所述反射电极用Ag合金膜是用于反射电极的Ag合金膜，其特征在于，该Ag合金膜含有0.1～2.0原子％的选自In及Zn中的至少1种。

公开(公告)号：CN102084421A8

公开(公告)日：2011-11-23

申请号：CN200980125743.9

申请日：2009-09-03

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 慈幸范洋 ,  中井淳一 ,  田内裕基

IPC: G11B7/258

Abstract: 本发明提供反射膜表面高精度再现形成于基板上的凹槽或凹点等，实现光信息记录介质的噪声的减小，并且具有高的反射率的Al基合金反射膜，以及对形成这样的反射膜有用的溅射靶材。本发明的光信息记录介质用反射膜用于光信息记录介质，实质上由含有2.0～15.0原子％的稀土类元素的Al基合金形成，反射膜的厚度方向的微晶尺寸为30nm以下。

公开(公告)号：CN101548324A

公开(公告)日：2009-09-30

申请号：CN200880000927.8

申请日：2008-04-10

Applicant: 索尼碟片数位解决方案股份有限公司 ,  株式会社神户制钢所 ,  克贝鲁可科研股份有限公司

Inventor： 大川直树 ,  田内裕基 ,  中井淳一

IPC: G11B7/258 ,  C23C14/06 ,  C23C14/14 ,  C23C14/34

CPC classification number: C23C14/14 ,  G11B7/259

Abstract: 本发明公开了一种包括反射膜的只读光学信息记录介质，该反射膜具有高反射率，并且在被保持在高温高湿环境中时的耐环境性以及在被保持在高强度光照射环境中时的耐光性和对于重复再生试验的重复再生耐用性方面都很优良。在基板上顺序层压了至少一层反射膜和至少一层透光层的只读光学信息记录介质中，所述反射膜由包括0.01at％～1.0at％的Bi和0.1at％～13.0at％的Cu的Ag基合金构成。

公开(公告)号：CN100334239C

公开(公告)日：2007-08-29

申请号：CN200410100020.2

申请日：2004-11-30

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 高木胜寿 ,  中井淳一 ,  富久胜文 ,  田内裕基 ,  钉宫敏洋

IPC: C22C5/06 ,  C23C14/34

CPC classification number: C22C5/06 ,  C23C14/185 ,  C23C14/3414 ,  Y10T428/12896

Abstract: 本发明提供一种兼有低电阻率、高耐热性的FPD用Ag基合金配线电极膜、以及用于形成该Ag基合金配线电极膜的FPD用Ag基合金溅射靶、以及具备该Ag基合金配线电极膜的FPD。本发明的FPD用Ag基合金配线电极膜，在有源型FPD的情况下，构成连接到用于使其驱动的TFT2上的配线电极膜(3)、(4)、(5)、(6)、(7)。所述配线电极膜，由含有0.1～4.0at%的Nd、和/或0.01～1.5at%的Bi、剩余部分实质上由Ag构成的Ag基合金形成。除了Nd之外，所述Ag基合金还可以含有合计0.01～1.5at%的选自由Cu、Au、Pd构成的物质组中的一种或者两种以上元素。

公开(公告)号：CN1331138C

公开(公告)日：2007-08-08

申请号：CN200510066665.3

申请日：2005-04-21

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 高木胜寿 ,  中井淳一 ,  田内裕基

IPC: G11B7/24 ,  B32B3/00

CPC classification number: G11B7/258 ,  G11B7/2533 ,  G11B7/2534 ,  G11B7/259 ,  Y10T428/21

Abstract: 考虑到这种情况，完成了本发明，且本发明的一个目的是发现显示通过纯Ag或通过常规Ag合金没有实现的水平的高耐内聚性、高耐光性、高耐热性、高反射率、高透射率、低吸光率，和高热传导率的Ag基合金，和在这种合金的基础上，提供一种具有优异写/读性能和长期使用可靠性的光学信息记录介质用半反射膜和反射膜；在沉积这种半反射膜和反射膜中使用的光学信息记录介质用溅射靶材；和一种配备有这种半反膜或反射膜的光学信息记录介质。光学信息记录介质用半反射膜或反射膜，其包含Ag基合金，其中Ag基合金包含0.005至0.40%(原子%，除非另外注明)的Bi和总量为0.05至5%的选自Zn、Al、Ga、In、Si、Ge和Sn中的至少一种元素。

公开(公告)号：CN1303437C

公开(公告)日：2007-03-07

申请号：CN200410063217.3

申请日：2004-06-30

Applicant: 株式会社神户制钢所

Inventor： 高木胜寿 ,  中井淳一 ,  佐藤俊树 ,  田内裕基

IPC: G02B1/11 ,  G02B5/12 ,  C22C5/06 ,  C23C14/14

CPC classification number: C23C14/024 ,  C23C14/185 ,  C23C14/3414 ,  C23C14/541 ,  G02B5/08 ,  Y10T428/12472 ,  Y10T428/12993

Abstract: 一种反射器用银合金反射膜及反射器，(1)是以表面粗糙度Ra在2.0nm以下为特征的反射器用银合金反射膜，(2)在上述银合金反射膜中含有合计0.1%～3.0原子%的稀土类元素(Nd等)，或者是进一步含有合计0.5%～5.0原子%的Au、Pd、Cu、Pt中的一种以上的反射器用银合金反射膜，(3)在基体上形成上述银合金反射膜的反射器等。该反射器用银合金反射膜和反射器，即使在加热环境下表面平滑性也优良、显示高反射率。