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公开(公告)号：CN103081024B
公开(公告)日：2016-07-13
申请号：CN201180042736.X
申请日：2011-08-30
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC: G21K1/02
CPC classification number: G01N23/04 , G21K1/025 , G21K2207/00 , H01J2235/068
Abstract: 本发明涉及一种用于产生X射线图像的方法和成像系统（100）。该系统（100）包括至少一个X射线源，优选是X射线源（101a?101d）的阵列，以及具有敏感像素（103a?103e）阵列的X射线探测器（103）。在X射线源和探测器之间布置准直器（102），使得准直器（102）的两个开口（P）允许X射线通过而指向两个相邻像素（103a?103e），同时基本屏蔽所述像素之间的区域。像素之间对通常不敏感的区域的这种屏蔽减少了不必要的X射线曝光。可以利用多个小的X射线源（101a?101d）实现充分大的X射线强度。
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公开(公告)号：CN102802529B
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：CN201080026949.9
申请日：2010-06-10
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC classification number: A61B6/00 , A61B6/4092 , A61B6/4291 , A61B6/484 , G01N23/04 , G21K1/06 , G21K2207/005
Abstract: 本发明总体上涉及用于基于光栅的X射线微分相衬成像(DPCI)的校正方法以及能够有利地应用于X射线辐射照相术和层析成像的设备，用于对要扫描的样本对象或感兴趣解剖区域进行X射线DPCI。更确切地说，提出的发明提供了一种适当方式，有助于增强采集的X射线图像的图像质量，其受到相位缠绕的影响，例如，在Talbot-Lau型干涉仪的探测器平面中，在X射线束在相移分束光栅处衍射之后，所发射的所述X射线束的所得莫尔干涉图案中。这种问题被所获得的DPCI图像中的噪声进一步加重，如果所探测X射线图像中两个相邻像素之间的相位改变超过π弧度，就会发生这种问题，其受到对象局部相位梯度上线积分的影响，这种线积分诱发2π弧度的相位偏移误差，导致平行于所述线积分方向的显著线人为噪声。
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公开(公告)号：CN102422364B
公开(公告)日：2015-08-05
申请号：CN201080020314.8
申请日：2010-05-12
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC classification number: H01J35/06 , H01J35/14 , H01J2235/062 , H01J2235/068 , H01J2235/086
Abstract: 本发明涉及一种具有电子射束发生器(120)的X射线源(100)，所述电子射束发生器用于生成朝向靶(110)会聚的电子射束(B、B′)。由此，可以使靶(110)上的X射线焦斑(T、T′)的空间分布比电子射束源(121)的分布更加密集，其中，后者通常受到硬件限制的支配。所述电子射束发生器(120)尤其包括具有基于CNT的电子发射器(141)的矩阵的曲面发射器装置(140)和相关联的电极装置(130)。
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公开(公告)号：CN102256547B
公开(公告)日：2015-08-05
申请号：CN200980150958.6
申请日：2009-12-11
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
Inventor： G·福格特米尔
CPC classification number: A61B6/025 , A61B6/4007 , A61B6/4441
Abstract: 根据本发明的C型臂x射线系统提供了一种系统，其提供至少一次x射线束投射和辅助投射，而无需重新布置或移动C型臂的元件，以避免由于支撑C型臂的机械挠曲导致的不精确。这是通过包括主x射线源和至少一个辅助x射线源来实现的，辅助x射线源具有比主x射线源低的连续辐射功率并机械耦合到主x射线源，其被形成为基于冷碳纳米管的场发射器。
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公开(公告)号：CN102256548B
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：CN200980150981.5
申请日：2009-12-10
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC: A61B6/03
CPC classification number: A61B6/405 , A61B6/032 , A61B6/4007 , A61B6/4028 , A61B6/4035 , A61B6/4241 , A61B6/482
Abstract: 本发明涉及通过逆几何CT而实现谱X射线成像设备的检查装置和相应的方法。所提出的检查装置包括：X射线源单元(14)，其包括用于在多个位置处发射X射线(24)的多个X射线源(15)；X射线探测单元(18)，其用于探测从一个或多个所述X射线源(15)发射的且穿透所述X射线源单元(14)和所述X射线探测单元(18)之间的检查区(19)之后的X射线，并且用于生成探测信号；处理单元(36)，其用于处理所生成的探测信号；以及控制单元(26)，其用于控制所述X射线源(15)来随后单独地或成组地以至少两个不同的能量谱发射X射线，使得在切换特定的X射线源(15a)或所述成组的X射线源(15a、15d、15g)从而以不同的能量谱发射X射线的时间间隔中，关闭所述特定的X射线源(15a)或所述成组的X射线源(15a、15d、15g)，并且，随后开启一个或多个其他X射线源(15b、15c)或其他成组的X射线源(15b、15e、15h；15c、15f、15i)以发射X射线。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101484949B
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN200780025630.2
申请日：2007-07-04
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC classification number: G21K1/025 , B22F3/1055 , B22F7/08 , B22F2998/00 , B33Y80/00 , Y02P10/295 , B22F5/10
Abstract: 本发明关注于一种选择性透射电磁辐射、尤其是X射线辐射的滤线栅，其具有至少一个借助于选择性激光烧结由基本为辐射不能穿透的粉末材料建造的结构元件(2)，并且它还公开了一种对选择性透射电磁辐射的滤线栅进行制造的方法，其包括借助于选择性激光烧结由基本为辐射不能穿透的粉末材料生成至少一种结构元件(2)的步骤。在已经通过选择性激光烧结建造出结构元件之后，所述滤线栅可以是通过模塑或研磨技术无法实现的高度复杂的3D结构。在所述滤线栅的一个实施例中，烧结结构配合通过金属薄板中的孔。
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公开(公告)号：CN101951837B
公开(公告)日：2013-02-13
申请号：CN200980105771.4
申请日：2009-02-19
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC: A61B6/02
CPC classification number: A61B6/025 , A61B6/027 , A61B6/4007
Abstract: 公开了用于采集成像体积的X射线图像数据的方法，该方法使用探测器和具有多个单独源元件的分布式X射线源结构，该单独源元件彼此以共同间距均匀分布，该方法包括相对于该成像体积移动该分布式X射线源结构和/或该探测器，重要的是在X射线图像数据采集期间，该分布式X射线源结构的最大移动距离dmax限于该间距的长度lp。在该移动期间，执行从该分布式X射线源结构的X射线发射，和响应于入射至该探测器上的该X射线生成多个信号。
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公开(公告)号：CN102460237A
公开(公告)日：2012-05-16
申请号：CN201080026946.5
申请日：2010-06-09
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
CPC classification number: G02B5/1857 , A61B6/484 , G21K2201/06 , G21K2207/005
Abstract: 本发明涉及使通过扫描对象的相干辐射的相位信息可视化的相衬成像。聚焦光栅被使用，其减少了与光轴成特定角度的投影中梯形轮廓的创建。结合专用刻蚀过程使用激光支持的方法来创建这种聚焦光栅结构。
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公开(公告)号：CN101779266A
公开(公告)日：2010-07-14
申请号：CN200880101991.5
申请日：2008-08-04
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC: H01J35/08
CPC classification number: H01J35/08 , H01J2235/083 , H01J2235/085
Abstract: 提出了一种将材料涂抹到X射线源阳极表面上的方法和装置以及相应的阳极。将用于填充X射线发射表面(115)上的凹坑(121)的诸如修复材料的阳极材料涂抹到阳极(101)的X射线发射表面上。可以使用激光束(133)检测出将要涂抹此类材料的位置。随后使用高能激光束(151)对所涂抹的包括诸如钨、铼或钼的阳极材料颗粒(41)的修复材料进行局部烧结。然后可以使用高能电子束(163)熔化经烧结的材料。使用此类方法，可以局部修复阳极的受损表面。或者，可以在X射线发射表面(115)上提供包括不同阳极材料的结构或者具有不同水平面的突出的结构，以便选择性操纵阳极(101)的X射线发射特征。
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公开(公告)号：CN101507369A
公开(公告)日：2009-08-12
申请号：CN200780031823.9
申请日：2007-08-21
Applicant: 皇家飞利浦电子股份有限公司
IPC: H05G1/12
CPC classification number: H05G1/10
Abstract: 公开了一种用于产生高输出电压的电源，该电源用于向具有至少一个X射线源(17)的X射线发生器系统供电，尤其是向用于计算机断层摄影(CT)应用的X射线发生器系统供电，其中该高输出电压包括至少两个不同的可快速切换的高输出电压电平(U1；U1±U2)，从而可以利用一个常规的X射线管(17)执行能谱CT测量。此外，还公开了一种包括该电源和至少一个X射线管(17)的X射线管发生器系统以及一种包括该电源的计算机断层摄影(CT)设备。
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