公开(公告)号：CN203639142U

公开(公告)日：2014-06-11

申请号：CN201320790904.X

申请日：2013-12-05

Applicant: 浙江大学

Inventor： 史斌 ,  胡晓琳 ,  张冬仙 ,  伊福廷 ,  王波 ,  蒋建中 ,  章海军

IPC: B81C99/00 ,  G03F7/20

Abstract: 本实用新型公开了一种制备无序合金微弹簧的曝光台。弹簧结构为螺旋型，整体尺寸在百微米量级到毫米级别；材料为Ni-Nb基无序合金材料，杨氏模量大于180GPa，弹性极限大于2%。制备方法，1）制备一个PMMA光刻胶圆柱；2）将光刻胶圆柱夹持到曝光台上进行X-ray曝光；3）进行显影，得到显影后的制备弹簧的PMMA模具；4）用镍和铌金属在真空下氩气保护熔炼而成的靶材；5）通过磁控溅射制备无序合金薄膜层；6）释放得到无序合金微弹簧。本实用新型将X-ray光刻工艺与磁控溅射技术结合，突破了传统机械工艺制备亚毫米螺旋微型弹簧的尺寸瓶颈，填补了MEMS器件中无序合金螺旋微弹簧的空缺，拓展了3D金属微器件的加工思路，微弹簧表面平整光滑，形状理想。