机械零件几何量检测装置
    23.
    发明公开

    公开(公告)号:CN105783844A

    公开(公告)日:2016-07-20

    申请号:CN201610338041.0

    申请日:2016-05-20

    CPC classification number: G01B21/20

    Abstract: 本发明公开了一种机械零件几何量检测装置,包括数据采集平台和测量控制系统。被测机械零件装夹于数据采集平台上,利用LED光直射被测件,并采用CCD图像传感器获取被测件投影图像信号,然后将图像信号经信号调理电路进行处理,数据采集卡进行采集,随后传输到上位机;安装于上位机内的由LabVIEW软件编写的误差分离模块采用“53H”算法和小波分析算法对图像采集卡采集到的数据中由外界干扰带来的信号噪声进行分离和剔除,然后利用可视化处理模块和形位误差评定模块进行后续数据处理分析,从而得到被测机械零件的几何量数据。本发明体积小,结构简单紧凑,易于装卸,测量结果具有很好的稳定性和较高的精度。

    一种电化学加工三维金属微结构的系统与方法

    公开(公告)号:CN105648491A

    公开(公告)日:2016-06-08

    申请号:CN201610170808.3

    申请日:2016-03-24

    CPC classification number: C25D5/08 B33Y10/00 B33Y30/00 C25D1/003

    Abstract: 本发明专利公开一种电化学加工三维金属微结构的系统与方法,属于微细特种加工领域。该系统包括电沉积子系统、电解子系统和导电基底。电沉积子系统包括喷头和电沉积电源。电解子系统包括阴极(横梁阴极、左侧阴极和右侧阴极)和电解加工电源。电沉积电源负极和电解加工电源正极都连接于导电基底,电沉积电源正极与喷头连接,电解加工电源负极与阴极连接。基于该系统,先通过射流电沉积加工在基底上沉积出一层金属,再用阴极对已沉积金属表面进行电化学溶解加工,以去除其表面积瘤、毛刺等缺陷,接着再沉积金属,然后对新金属层电解加工……如此交替进行,直到达到加工要求。本发明结构简单,操作容易,成本低,能较好地解决射流沉积层存在的问题。

    一种表面超疏水的金属基复合镀层的制备方法

    公开(公告)号:CN103526268A

    公开(公告)日:2014-01-22

    申请号:CN201310495784.5

    申请日:2013-10-22

    Abstract: 一种表面超疏水的金属基复合镀层的制备方法,属于电化学沉积领域。主要包括下列步骤:(a)制备含有聚四氟乙烯颗粒(2)、十六烷基三甲基溴化铵(CTAB)、非离子氟碳表面活性剂FC-4430的水基悬浮液;(b)在剧烈搅拌中把水基悬浮液按比例加入到镍电镀液中,制备成混合电解液;(c)以导电固体表面为阴极基底(1)、电解镍板为阳极,在无搅拌的混合电解液中电泳—电沉积10~15分钟;再停止电泳—电沉积,同时对混合电解液进行搅拌1~2分钟;(d)不断重复步骤(c),直到被制备的复合镀层(4)厚度到达要求;(e)复合镀层(4)冲洗、干燥后,再在260~300℃下烘烤30~60分钟后冷却到室温。本发明方法具有易于实现、环境友好、镀层致密平整等优点,适用于各种固体表面的优化改性与功能化。

    一种电化学加工三维金属微结构的系统

    公开(公告)号:CN205474039U

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201620229998.7

    申请日:2016-03-24

    Abstract: 本实用新型涉及一种电化学加工三维金属微结构的系统,属于微细特种加工领域。该系统包括电沉积子系统、电解子系统和导电基底。电沉积子系统包括喷头和电沉积电源。电解子系统包括阴极(横梁阴极、左侧阴极和右侧阴极)和电解加工电源。电沉积电源负极和电解加工电源正极都连接于导电基底,电沉积电源正极与喷头连接,电解加工电源负极与阴极连接。基于该系统,先通过射流电沉积加工在基底上沉积出一层金属,再用阴极对沉积金属表面进行电化学溶解加工,以去除其表面积瘤、毛刺等缺陷,接着再沉积金属,然后对新金属层电解加工……如此交替进行,直到达到加工要求。本实用新型结构简单,操作容易,成本低,能较好地解决射流电沉积层所存在的问题。

    一种用于极间多孔介质填充型掩膜电解加工的阴极

    公开(公告)号:CN205200737U

    公开(公告)日:2016-05-04

    申请号:CN201520849219.9

    申请日:2015-10-30

    Abstract: 本实用新型公开了一种用于极间多孔介质填充型掩膜电解加工的阴极,包括出液槽、引流槽、汇液槽、进液孔、出液孔和凸台。出液槽为沿阴极径向走向的直侧壁阶梯槽,由窄槽和宽槽两部分组成,窄槽的宽度小于宽槽的宽度,窄槽靠近阴极的圆心一侧且不与汇液槽相贯通,宽槽靠近阴极的外缘且其出口位于阴极的外缘。出液槽沿圆周方向均匀分布,且位于两相邻引流槽中间,出液槽的两侧壁关于阴极径向线对称。该阴极能使电解产物排出更容易,流场分布更均匀,进而提高电解加工质量。

    一种用于掩膜电解加工的恒力机构

    公开(公告)号:CN204867692U

    公开(公告)日:2015-12-16

    申请号:CN201520344860.7

    申请日:2015-05-26

    Abstract: 本实用新型专利公开了一种用于掩膜电解加工的恒力机构,它是由支撑板、立杆、连接销、施力横杆、移动环、圆柱重物块、圆柱尖头顶针和电解主体装置组成。此装置通过调节挂有圆柱重物块的移动环在施力横杆上的位置,利用杠杆原理,经过施力横杆使圆柱尖头顶针对电解主体装置施加一个恒力,从而能够很好的增加极间流场和电场强度的稳定性。这种恒力机构操作方便、结构简单。

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