公开(公告)号：CN108701820A

公开(公告)日：2018-10-23

申请号：CN201780013659.2

申请日：2017-03-21

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 张旭 ,  曹昇范 ,  朴珍永 ,  金璟晙 ,  安峻成

IPC: H01M4/36 ,  H01M4/525 ,  H01M4/505 ,  H01M4/58 ,  H01M10/0525 ,  H01M2/10

CPC classification number: H01M4/62 ,  H01M4/13 ,  H01M4/131 ,  H01M4/136 ,  H01M4/366 ,  H01M4/626 ,  H01M10/052 ,  H01M2004/028 ,  H01M2220/10 ,  H01M2220/20 ,  Y02E60/122 ,  Y02T10/7011

Abstract: 本发明涉及表面涂布的正极活性材料粒子和包含所述表面涂布的正极活性材料粒子的二次电池，具体地，本发明提供表面涂布的正极活性材料粒子，所述表面涂布的正极活性材料粒子包含正极活性材料粒子和涂布在所述正极活性材料粒子的表面上的涂层，其中所述涂层包含聚酰亚胺，所述聚酰亚胺包括选自如下结构中的一种或多种结构：吡咯、苯胺和咔唑。根据本发明的表面涂布的正极活性材料粒子包含包括聚酰亚胺和金属离子的涂层；并且因为能够防止所述正极活性材料粒子与电解质之间的直接接触，所以能够抑制它们之间的副反应，并且能够表现出优异的锂离子迁移率和优异的电子传导性两者。因此，能够得到在高电压和高温条件下具有改善的电池寿命和循环特性的二次电池。

公开(公告)号：CN117355562A

公开(公告)日：2024-01-05

申请号：CN202380011735.1

申请日：2023-03-10

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 姜美恩 ,  朴灿晓 ,  朴珍永 ,  朴彩媛

IPC: C08J5/18

Abstract: 本公开内容涉及包含基于聚酰亚胺的聚合物的基于聚酰亚胺的聚合物膜、以及使用其的显示装置用基底和光学装置，所述基于聚酰亚胺的聚合物含有由化学式1表示的聚酰亚胺重复单元和由化学式2表示的聚酰亚胺重复单元。

公开(公告)号：CN112969741B

公开(公告)日：2023-09-05

申请号：CN202080006054.2

申请日：2020-02-10

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴珍永 ,  朴澯晓 ,  催丹碧

IPC: C08G73/10 ,  C08J3/24 ,  H01L21/02 ,  C08J5/18

Abstract: 本发明涉及聚酰亚胺前体组合物和使用其制造的聚酰亚胺膜。根据本发明，由于聚酰亚胺膜由具有有利于表面电荷累积的结构的聚酰亚胺前体和具有能够表现出高耐热特性的结构的聚酰亚胺前体的混合物制造，因此使用所述聚酰亚胺膜作为基底的柔性装置可以具有高耐热特性和改善的由在TFT器件的运行期间产生的电场引起的电荷累积特性二者。

公开(公告)号：CN110753721B

公开(公告)日：2022-08-16

申请号：CN201980002984.8

申请日：2019-01-23

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 金炅焕 ,  郑惠元 ,  朴灿晓 ,  朴珍永

IPC: C08J5/18 ,  C08L79/08 ,  C08G73/10 ,  G02F1/1333

Abstract: 根据本发明提供了用于柔性显示装置的基底，其中通过向聚酰胺酸组合物中引入酰亚胺单体作为有机填料以增加在高温下进行硫化的同时制造的膜的厚度和表面方向密度，从而提高膜的热扩散率和热导率，可以解决阈值电压偏移引起的电流波动和所产生的图像残留的问题。

公开(公告)号：CN111511840A

公开(公告)日：2020-08-07

申请号：CN201980006666.9

申请日：2019-09-26

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 李珍昊 ,  朴珍永 ,  朴彩媛 ,  朴灿晓

IPC: C08L79/08 ,  C08G73/10 ,  C08J5/18 ,  G02F1/1333

Abstract: 根据本发明，通过使四羧酸酐与二胺以1:0.93至1:0.99的摩尔比反应生产聚酰亚胺前体溶液。所述聚酰亚胺前体溶液包含数均分子量为至少38000g/mol的聚酰亚胺前体，并因此可以生产具有高耐热性的聚酰亚胺膜。通过对溶液的消泡特性进行量化并控制气泡的含量，可以提供具有改善的储存稳定性的聚酰亚胺前体溶液。此外，由其生产的聚酰亚胺膜在膜中具有减少的气泡量，并因此可以抑制在形成装置时可能在无机层中形成的裂纹的形成。

公开(公告)号：CN111094411A

公开(公告)日：2020-05-01

申请号：CN201980004200.5

申请日：2019-01-16

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 朴珍永 ,  金炅焕

IPC: C08J5/18 ,  H01L51/00 ,  H01L51/56 ,  C08G73/10 ,  C08L79/08

Abstract: 本发明通过提供由其中添加作为二胺的p-PDA超过作为酸二酐的s-BPDA并且添加含有邻苯二甲酸酐(PA)的封端剂的聚合成分的聚合获得的聚酰亚胺，可以提供用于柔性显示装置的基底，所述基底即使在350℃或更高的温度下也具有正CTE值且耐热性不劣化。此外，这样的制造方法允许制造透射率比用仅具有过量二胺的组合物制造的聚酰亚胺膜高的聚酰亚胺膜，使得当在聚酰亚胺基底上制造器件时可以更容易地通过对准键制造TFT器件。

公开(公告)号：CN110494475A

公开(公告)日：2019-11-22

申请号：CN201880021220.9

申请日：2018-08-27

Applicant: 株式会社LG化学

Inventor： 郑惠元 ,  朴灿晓 ,  李珍昊 ,  朴珍永 ,  金炅焕 ,  洪叡智 ,  催丹碧

IPC: C08J5/18 ,  C08L79/08 ,  C08G73/10 ,  G02F1/1333

Abstract: 根据本发明的聚酰亚胺膜可以有效地用作即使在350℃或更高的温度下耐热性也不劣化的用于柔性显示装置的基底，原因是聚酰亚胺膜的在100℃至350℃的区间中的热膨胀系数(A)与聚酰亚胺膜的在350℃至450℃的区间中的热膨胀系数(B)满足0