公开(公告)号：CN101436000B

公开(公告)日：2011-05-11

申请号：CN200810173386.0

申请日：2004-07-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 马込伸贵 ,  小林直行 ,  榊原康之 ,  高岩宏明

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。

公开(公告)号：CN101644899A

公开(公告)日：2010-02-10

申请号：CN200810173395.X

申请日：2004-07-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 马込伸贵 ,  小林直行 ,  榊原康之 ,  高岩宏明

IPC: G03F7/20

Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。

公开(公告)号：CN101436002A

公开(公告)日：2009-05-20

申请号：CN200810173388.X

申请日：2004-07-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 马込伸贵 ,  小林直行 ,  榊原康之 ,  高岩宏明

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。

公开(公告)号：CN1830064A

公开(公告)日：2006-09-06

申请号：CN200480021856.1

申请日：2004-07-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 马込伸贵 ,  小林直行 ,  榊原康之 ,  高岩宏明

IPC: H01L21/027 ,  G03F7/20

Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。

公开(公告)号：CN102043350B

公开(公告)日：2014-01-29

申请号：CN201110022027.7

申请日：2004-07-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 马込伸贵 ,  小林直行 ,  榊原康之 ,  高岩宏明

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70866 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/709

Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。

公开(公告)号：CN101436001B

公开(公告)日：2012-04-11

申请号：CN200810173387.5

申请日：2004-07-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 马込伸贵 ,  小林直行 ,  榊原康之 ,  高岩宏明

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。

公开(公告)号：CN102163004A

公开(公告)日：2011-08-24

申请号：CN201110089474.4

申请日：2004-12-03

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 长坂博之 ,  高岩宏明 ,  蛭川茂

IPC: G03F7/20

Abstract: 本申请公开了一种曝光装置、曝光方法和器件制造方法。曝光装置(EX)是经投影光学系统(PL)和液体(1)将曝光光(EL)照射到基片(P)上以对基片(P)进行曝光的装置。该曝光装置(EX)具有用于保持该基片(P)的基片台(PT)。将具有疏液性的平坦面(30A)的板构件(30)以可更换的方式安装到上述基片台(PT)上，以防止液体残留，维持良好的曝光精度。

公开(公告)号：CN101436002B

公开(公告)日：2011-07-27

申请号：CN200810173388.X

申请日：2004-07-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 马込伸贵 ,  小林直行 ,  榊原康之 ,  高岩宏明

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。

公开(公告)号：CN102012641A

公开(公告)日：2011-04-13

申请号：CN201010240704.8

申请日：2004-07-26

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 马込伸贵 ,  小林直行 ,  榊原康之 ,  高岩宏明

IPC: G03F7/20

CPC classification number: G03F7/70866 ,  G03F7/70341 ,  G03F7/70525 ,  G03F7/70725 ,  G03F7/70858 ,  G03F7/709

Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。

公开(公告)号：CN101303536B

公开(公告)日：2011-02-09

申请号：CN200810109437.3

申请日：2004-08-27

Applicant: 株式会社尼康

Inventor： 原英明 ,  高岩宏明

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70341 ,  G03F7/70916

Abstract: 曝光装置EX通过在投射光学系统PL和衬底P之间填充液体l并且经由投射光学系统PL和液体l将图案的图像投射到衬底P上，来对衬底P进行曝光，该装置包括：液体去除机构40，其间歇性地向液体l附着到的布置在投射光学系统PL的像平面附近的参考构件7、可移动镜55等吹气，以便去除液体l。通过这种构造，可以提供一种能够在通过经由投射光学系统和液体将图案投射到衬底上来对衬底进行曝光时去除不必要的液体的曝光装置，以及在衬底上形成所需的器件图案。