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公开(公告)号：CN101231477A
公开(公告)日：2008-07-30
申请号：CN200810082276.3
申请日：2003-12-05
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供一种在将液体充满于投影光学系统与基片之间来进行曝光之际，能够抑制起因于附着于基片的液体的器件的劣化的曝光装置。器件制造系统(SYS)具备：在投影光学系统(PL)与基片(P)之间用液体(50)充满，经由投影光学系统(PL)和液体(50)将图案像投影到基片(P)上的曝光装置本体(EX)；曝光装置本体(EX)与进行基片(P)曝光后的处理的涂敷器·显影器本体(C/D)的接口部(IF)；以及在基片(P)曝光后、经由接口部(IF)将基片(P)搬出至涂敷器·显影器本体(C/D)之前，除去附着于基片(P)的液体(50)的液体除去装置(100)。
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公开(公告)号：CN1723539A
公开(公告)日：2006-01-18
申请号：CN200380105421.0
申请日：2003-12-09
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70341 , G03F7/2041 , G03F7/709
Abstract: 一种曝光装置，在投影光学系统(PL)与基片(P)之间的至少一部分用液体(50)充满，同时经由投影光学系统(PL)将图案像投影到基片(P)上对基片(P)进行曝光。对作为在移动基片(P)时与液体(50)接触的部分的光学元件(60)以及镜筒(PK)，实施调整与液体(50)的亲和性的表面处理。从而就防止了在投影光学系统与基片之间的液体中产生气泡，而且液体被经常维持在投影光学系统与基片之间，所以形成良好的浸液状态。
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公开(公告)号：CN1723538A
公开(公告)日：2006-01-18
申请号：CN200380105420.6
申请日：2003-12-09
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 一种曝光装置，在投影光学系统与基片(P)之间的至少一部分用液体充满，经由投影光学系统和液体将图案像投影到基片(P)上，由此对基片(P)进行曝光，具备对投影光学系统与基片(P)之间的液体中的气泡进行检测的气泡检测器(20)。曝光装置在将液体充满于投影光学系统与基片之间来进行曝光处理之际，能够抑制起因于液体中的气泡的图案像的劣化。
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公开(公告)号：CN1723537A
公开(公告)日：2006-01-18
申请号：CN200380105419.3
申请日：2003-12-05
Applicant: 株式会社尼康
IPC: H01L21/027 , G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种在将液体充满于投影光学系统与基片之间来进行曝光之际，能够抑制起因于附着于基片的液体的器件的劣化的曝光装置。器件制造系统(SYS)具备：在投影光学系统(PL)与基片(P)之间用液体(50)充满，经由投影光学系统(PL)和液体(50)将图案像投影到基片(P)上的曝光装置本体(EX)；曝光装置本体(EX)与进行基片(P)曝光后的处理的涂敷器·显影器本体(C/D)的接口部(IF)；以及在基片(P)曝光后、经由接口部(IF)将基片(P)搬出至涂敷器·显影器本体(C/D)之前，除去附着于基片(P)的液体(50)的液体除去装置(100)。
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公开(公告)号：CN104122760A
公开(公告)日：2014-10-29
申请号：CN201410333238.6
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70866 , G03F7/70341 , G03F7/70525 , G03F7/70725 , G03F7/70858 , G03F7/709
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102323724B
公开(公告)日：2014-08-13
申请号：CN201110268975.9
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
CPC classification number: G03F7/70866 , G03F7/70341 , G03F7/70525 , G03F7/70725 , G03F7/70858 , G03F7/709
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN101644900B
公开(公告)日：2013-11-27
申请号：CN200810173396.4
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN101436000B
公开(公告)日：2011-05-11
申请号：CN200810173386.0
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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公开(公告)号：CN101241317B
公开(公告)日：2010-11-17
申请号：CN200810082277.8
申请日：2003-12-05
Applicant: 株式会社尼康
Inventor： 马込伸贵
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供一种在将液体充满于投影光学系统与基片之间来进行曝光之际，能够抑制起因于附着于基片的液体的器件的劣化的曝光装置。器件制造系统(SYS)具备：在投影光学系统(PL)与基片(P)之间用液体(50)充满，经由投影光学系统(PL)和液体(50)将图案像投影到基片(P)上的曝光装置本体(EX)；曝光装置本体(EX)与进行基片(P)曝光后的处理的涂敷器·显影器本体(C/D)的接口部(IF)；以及在基片(P)曝光后、经由接口部(IF)将基片(P)搬出至涂敷器·显影器本体(C/D)之前，除去附着于基片(P)的液体(50)的液体除去装置(100)。
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公开(公告)号：CN101644899A
公开(公告)日：2010-02-10
申请号：CN200810173395.X
申请日：2004-07-26
Applicant: 株式会社尼康
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明提供曝光装置、器件制造方法、及曝光装置的控制方法。曝光装置(EX)通过投影光学系(PL)和液体(1)将图形像投影到基板(P)上，从而对基板(P)进行曝光。曝光装置(EX)具有将液体(1)供给到投影光学系统(PL)与基板(P)间的液体供给机构(10)。液体供给机构(10)在检测到异常时停止液体(1)的供给。可抑制由于形成液浸区域的液体的泄漏使基板周边装置·构件受到的影响，良好地进行曝光处理。
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