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公开(公告)号：CN109564119B
公开(公告)日：2020-06-23
申请号：CN201780032215.3
申请日：2017-08-24
Applicant: 株式会社富士金
Abstract: 本发明提供一种压力式流量控制装置(1)，在将流孔(5)的上游侧压力P1保持在下游侧压力P2的约两倍以上的状态下，构成混合气体的两种气体的混合比为X:(1‑X)，使用以混合比率对两种气体的密度、比热比以及气体常数进行加权而算出的混合气体的平均密度ρ、平均比热比κ以及平均气体常数R，通过FF＝(k/ρ){2/(κ+1)}1/(κ‑1)[κ/{(κ+1)R}]1/2算出混合气体的流量系数FF，将流孔截面积设为S、流孔的上游侧的混合气体的压力设为P1、温度设为T1，通过Q＝FF·S·P1(1/T1)1/2算出通过流孔的混合气体的流量Q。
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公开(公告)号：CN106687728B
公开(公告)日：2019-08-27
申请号：CN201580039826.1
申请日：2015-08-17
Applicant: 株式会社富士金
IPC: F16K31/02 , F16K7/14 , H01L41/053 , H01L41/083 , H01L41/09
Abstract: 本发明提供一种在不使用复杂的机构就能够增大压电元件的位移量的同时，不给配线等带来障碍的压电元件驱动式阀以及具备压电元件驱动式阀的流量控制装置。本发明是一种压电元件驱动式阀(1)，其具备：主体(7)，该主体设置有流体通路(7a)以及阀座(7c)；阀体(8)，其与主体(7)的阀座(7c)抵接分离而开闭流体通路(7a)；和，压电致动器(16)，其利用压电元件的伸长而开闭驱动所述阀体(8)，其中，通过能够引出配线的隔离物(17)，将至少两个压电致动器(16)配设在一条直线上。
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公开(公告)号：CN109791415A
公开(公告)日：2019-05-21
申请号：CN201780037989.5
申请日：2017-10-12
Applicant: 株式会社富士金
IPC: G05D7/06
Abstract: 流体控制装置(1)具备：主体块体(10)，其具有通用流入口(11)、通用流出口(12)、与通用流入口以及通用流出口连通的第一流路(F1)以及第二流路(F2)；以及安装于主体块体的安装面的第一流体控制单元(20a)和第二流体控制单元(20b)，第一流路和第二流路在从安装面的法线方向(D3)观察时，包含：沿着第一方向(D1)延伸的第一流路部分(13)；以及沿着与第一方向正交的第二方向(D2)延伸的第二流路部分(14)，第二流路部分由从主体块体的侧面沿着第二方向延伸的孔部(14’)和堵塞孔部的开口部的封闭部件(15)形成。
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公开(公告)号：CN105940357B
公开(公告)日：2019-05-14
申请号：CN201580002126.5
申请日：2015-01-15
Applicant: 株式会社富士金
Abstract: 本发明涉及的压力式流量控制装置具备：主体，所述主体设置有连通流体入口与流体出口之间的流体通路，及连通流体通路与排气出口之间的排气通路；压力控制用控制阀，所述压力控制用控制阀固定于主体的流体入口侧，且开闭流体通路的上游侧；第一压力传感器，所述第一压力传感器检测其下游侧的流体通路内压；流孔，所述流孔设置于比所述排气通路的分歧位置更靠近下游的流体通路内；开闭阀，所述开闭阀开闭所述第一压力传感器的下游侧的流体通路；及排气用阀，所述排气用阀开闭所述排气通路。在所述压力式流量控制装置进行的流量控制开始前使排气用阀动作，且对压力控制用控制阀与开闭阀之间的流体通路空间内进行强制排气，由此可以防止流量控制开始时的超量。
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公开(公告)号：CN108445922A
公开(公告)日：2018-08-24
申请号：CN201810214348.9
申请日：2013-04-01
Applicant: 株式会社富士金
IPC: G05D7/06
CPC classification number: G05D7/0641 , G05D7/0664 , Y10T137/87772
Abstract: 本发明提供一种半导体制造装置的气体分流供给装置，其具备：控制阀；气体供给主管；多个分支管路；分支管路开闭阀；节流孔，设置于分支管路开闭阀的下游侧；温度传感器，设置在控制阀与节流孔之间的处理气体通路附近；压力传感器，设置在控制阀与节流孔之间的处理气体通路；分流气体出口，设置在节流孔的出口侧；以及由压力式流量运算控制部构成的运算控制部，所述压力式流量运算控制部被输入来自压力传感器的压力信号以及来自温度传感器的温度信号，运算在节流孔中流通的处理气体的总流量，并且将控制信号向阀驱动部输出，所述控制信号使控制阀向运算出的流量值与设定流量值之差减少的方向开闭动作；由压力式流量控制部进行流量控制。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN108369425A
公开(公告)日：2018-08-03
申请号：CN201680064955.0
申请日：2016-12-15
Applicant: 株式会社富士金
Abstract: 本发明涉及一种利用具备节流部(12)、上游侧的控制阀(18)、上游侧的第一压力传感器(14)、下游侧的第二压力传感器(24)的流量控制装置(10)和下游阀(24)而进行的异常检测方法，包含使控制阀以及下游阀从打开状态变化为关闭状态的步骤、将控制阀以及下游阀维持着关闭状态而测定上游压力以及下游压力的步骤、和(a)抽出上游压力与下游压力之差达到规定值的时刻的上游压力作为上游收敛压力，下游压力作为下游收敛压力的步骤及(b)抽出从使控制阀以及下游阀变化为关闭状态的时刻至上游压力与下游压力之差达到规定值的时刻为止的时间作为收敛时间的步骤之中的至少一方，基于在步骤(a)或(b)中任一步骤所获得的数据与作为基准的值的比较而判断异常的有无。
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公开(公告)号：CN104081304B
公开(公告)日：2017-08-29
申请号：CN201280068410.9
申请日：2012-10-17
Applicant: 株式会社富士金
CPC classification number: G05D7/0641 , G05D7/0664 , Y10T137/2544
Abstract: 一种半导体制造装置的气体分流供给装置，具备：操纵阀(3)，其形成压力式流量控制部(1a)；气体供给主管(8)，其连通于操纵阀(3)的下游侧；节流孔(6)，其设于操纵阀(3)下游侧的气体供给主管(8)；多个分支管路(9a、9n)，其并列状地连接于气体供给主管(8)的下游侧；分支管路开闭阀(10a、10n)，其间置于各分支管路(9a、9n)；压力传感器(5)；分流气体出口(11a、11n)，其设于各分支管路(9a、9n)的出口侧；以及运算控制部(7)，其中，对阀驱动部(3a)输出使所述操纵阀(3)朝运算流量值与设定流量值之差减少的方向开闭动作的控制信号Pd，并且对分支管路开闭阀(10a、10n)输出使各分支管路开闭阀(10a、10n)各自依次打开一定时间之后使其封闭的开闭控制信号(Oda、Odn)，利用压力式流量控制部(1a)进行流通过节流孔(6)的过程气体的流量控制，并且通过分支管路开闭阀(10a、10n)的开闭来分流供给过程气体。
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公开(公告)号：CN106537275A
公开(公告)日：2017-03-22
申请号：CN201580020604.5
申请日：2015-07-09
Applicant: 株式会社富士金
IPC: G05D7/06
CPC classification number: G05D7/0635 , Y10T137/776
Abstract: 本发明提供了一种压力式流量控制装置，其能够在流体流量控制中，实现缩短切换流量时的降落响应时间，提高降落响应特性。压力式流量控制装置具有：主体(4)，其设置有连通流体入口制用控制阀(5)，其以水平姿势固定于主体(4)并对流体通路(3)进行开关；开关阀(6)，其以垂直姿势固定于主体(4)并对压力控制用控制阀(5)的下游侧的流体通路(3)进行开关；流孔(7)，其设置于开关阀(6)的上游侧的流体通路(3)；以及压力传感器(8)，其固定于主体(4)并检测压力控制用控制阀(5)和流孔(7)之间的流体通路(3)的内压，所述流体通路(3)具有：与压力控制用控制阀(5)连接的水平姿势的第一通路部(3a)、连接第一通路部(3a)和流孔(7)的垂直姿势的第二通路部(3b)、以及连接第二通路部(3b)和压力传感器(8)的水平姿势的第三通路部(3c)。(1)和流体出口(2)之间的流体通路(3)；压力控
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公开(公告)号：CN103718275B
公开(公告)日：2016-03-23
申请号：CN201280038133.7
申请日：2012-06-11
Applicant: 株式会社富士金
IPC: H01L21/205 , C23C16/455
CPC classification number: C23C16/4485
Abstract: 本发明通过能够将加热固体原料或液体原料而生成的原料蒸汽一边使用压力式流量控制装置进行流量控制一边向处理腔室稳定地供给，实现原料的气化供给装置的小型化和半导体产品的品质提高，并且能够容易地进行原料的剩余量管理。本发明的原料气化供给装置由以下部分构成：原料箱，储存原料；原料蒸汽供给路，从原料箱的内部空间部将原料蒸汽向处理腔室供给；压力式流量控制装置，夹设在该供给路中，控制向处理腔室供给的原料蒸汽流量；和恒温加热部，将上述原料箱、供给路和压力式流量控制装置加热到设定温度；将在原料箱的内部空间部中生成的原料蒸汽一边通过压力式流量控制装置进行流量控制一边向处理腔室供给。
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公开(公告)号：CN103649367B
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201280033804.0
申请日：2012-04-25
Applicant: 株式会社富士金
IPC: C23C16/448 , H01L21/31
CPC classification number: C23C16/448 , C23C16/4485 , C23C16/45561 , C23C16/52 , Y10T137/86485
Abstract: 本发明包括：液体原料气体供给源；源储罐，其储存所述液体原料气体；气体流通路，其从所述源储罐的内部上方空间部向处理腔供给为液体原料气体蒸汽的原料气体；自动压力调整器，其间置于该气体流通路的上游侧，且将向处理腔供给的原料气体的供给压力保持为设定值；供给气体切换阀，其间置于所述气体流通路的下游侧，且对向处理腔供给的原料气体的通路进行开闭；节流孔，其设于该供给气体切换阀的入口侧和出口侧中的至少一方，且调整向处理腔供给的原料气体的流量；以及恒温加热装置，其将所述源储罐、所述气体流通路和供给气体切换阀以及节流孔加热至设定温度，在本发明中，将自动压力调整器下游侧的原料气体的供给压力控制为所期望的压力，并且向处理腔供给设定流量的原料气体。
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