公开(公告)号：CN108203827B

公开(公告)日：2021-12-24

申请号：CN201711373532.X

申请日：2017-12-19

Applicant: 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 金俸均 ,  郑在祐 ,  朴弘植 ,  金奎佈 ,  申贤哲 ,  李相赫

IPC: C23F1/18 ,  H01L21/3213 ,  H01L21/28 ,  H01L29/423

Abstract: 本发明涉及一种蚀刻液组合物及使用它的薄膜晶体管显示面板的制造方法。一实施例所涉及的蚀刻液组合物包含8重量％至20重量％的过硫酸盐、0.1重量％至10重量％的磷酸或亚磷酸、0.1重量％至5重量％的磷酸盐化合物、0.1重量％至6重量％的单氮类环状化合物、0.1重量％至5重量％的磺酸类化合物、0.1重量％至2重量％的唑类化合物及余量的水，所述唑类化合物与所述单氮类环状化合物的含量比为1:1至1:2。

公开(公告)号：CN109423648A

公开(公告)日：2019-03-05

申请号：CN201811019029.9

申请日：2018-09-03

Applicant: 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 梁熙星 ,  朴弘植 ,  郑锺鉉 ,  金相佑 ,  李大雨

IPC: C23F1/18 ,  C23F1/26 ,  C23F1/02 ,  H01L21/306

Abstract: 提供了蚀刻剂组合物，包含10wt％至20wt％的过氧化氢、0.1wt％至2wt％的基于唑的化合物、0.1wt％至10wt％的无机酸化合物、0.1wt％至5wt％的水面稳定剂、0.01wt％至0.1wt％的氟化物、0.1wt％至10wt％的基于硫酸盐的化合物以及以使得所述蚀刻剂组合物的总重量为100wt％的量包含的水。根据本发明构思的实施方案的蚀刻剂组合物可以用于蚀刻含铜和钼-钛合金的金属膜以形成金属图案，或者用于制造薄膜晶体管衬底。

公开(公告)号：CN108018558A

公开(公告)日：2018-05-11

申请号：CN201711043223.6

申请日：2017-10-31

Applicant: 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 梁熙星 ,  朴弘植 ,  郑锺铉 ,  金奎佈 ,  申贤哲 ,  李秉雄 ,  李相赫

IPC: C23F1/20 ,  C09K13/04 ,  C09K13/06 ,  H01L51/56 ,  H01L51/52

CPC classification number: C23F1/20 ,  C09K13/04 ,  C09K13/06 ,  H01L51/5206 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明的一实施例提供一种蚀刻液组合物以及有机发光显示装置的制造方法，所述蚀刻液组合物相对于总重量包括：磷酸，50至70重量％；硝酸，0.5至5重量％；氯化物，0.1至1重量％；磺酸化合物，0.5至5重量％；以及水，20至40重量％。

公开(公告)号：CN103571495A

公开(公告)日：2014-02-12

申请号：CN201310319674.3

申请日：2013-07-26

Applicant: 三星显示有限公司 ,  株式会社东进世美肯

Inventor： 金俸均 ,  朴弘植 ,  李旺宇 ,  文英慜 ,  尹升好 ,  崔永株 ,  金相佑 ,  李骐范 ,  李大雨 ,  曹三永

IPC: C09K13/06 ,  H01L21/77

CPC classification number: H01L21/465 ,  C09K13/00 ,  C09K13/06 ,  C23F1/30 ,  H01L21/32134 ,  H01L29/66969 ,  H01L29/7869

Abstract: 本发明提供蚀刻剂组合物及使用其制造薄膜晶体管的方法。所述蚀刻剂组合物包括过硫酸铵((NH4)2S2O8)、基于唑的化合物、水溶性的胺化合物、含磺酸基团的化合物、含硝酸根的化合物、含磷酸根的化合物、含氯化物的化合物和剩余的水。