半导体激光器及其制造方法

    公开(公告)号:CN1440098A

    公开(公告)日:2003-09-03

    申请号:CN03106059.5

    申请日:2003-02-19

    CPC classification number: H01S5/028

    Abstract: 一种半导体激光器,它包括在衬底上形成的活性层和将活性层夹在中间的一对包层。在半导体激光器的谐振器端面102、104的至少一个面上有添加氢的第一介质膜109,在第一介质膜和谐振器端面之间设有防止氢扩散的第二介质膜108。这样当半导体激光器暴露于高温状态时,即使端面镀膜层中有添加氢的膜,端面镀膜脱离和端面镀膜变质的现象也能得到抑制。

    半导体激光装置
    24.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101483318B

    公开(公告)日:2011-11-23

    申请号:CN200910001611.7

    申请日:2009-01-09

    Abstract: 提供一种抑制活性层发生结晶缺陷,并改善对发光点施加的应力的非对称性,从而可防止可靠性降低且提高偏光特性的半导体激光装置。在由n型GaAs构成的基板(10)上集成有红色激光部(1)和红外激光部(2)。在红色激光部(1)的由p型AlGaInP构成的p型金属包层(14)、和红外激光部(2)的由p型AlGaInP构成的p型金属包层(24),分别设置有具有发光点的脊条部,在各脊条部的两侧方形成有由SiNx构成的电流阻碍层(15A),在电流阻碍层(15A)上的各脊条部的外侧的区域中,选择性形成有由ZrO2构成的应变缓和层(15B)。当设p型金属包层(14、24)的热膨胀系数为Tc、电流阻碍层(15A)的热膨胀系数为Tb、应变缓和层(15B)的热膨胀系数为Tc时,满足Tb<Tc<Ts的关系。

    半导体激光装置
    28.
    发明公开

    公开(公告)号:CN101483318A

    公开(公告)日:2009-07-15

    申请号:CN200910001611.7

    申请日:2009-01-09

    Abstract: 提供一种抑制活性层发生结晶缺陷,并改善对发光点施加的应力的非对称性,从而可防止可靠性降低且提高偏光特性的半导体激光装置。在由n型GaAs构成的基板(10)上集成有红色激光部(1)和红外激光部(2)。在红色激光部(1)的由p型AlGaInP构成的p型金属包层(14)、和红外激光部(2)的由p型AlGaInP构成的p型金属包层(24),分别设置有具有发光点的脊条部,在各脊条部的两侧方形成有由SiNx构成的电流阻碍层(15A),在电流阻碍层(15A)上的各脊条部的外侧的区域中,选择性形成有由ZrO2构成的应变缓和层(15B)。当设p型金属包层(14、24)的热膨胀系数为Tc、电流阻碍层(15A)的热膨胀系数为Tb、应变缓和层(15B)的热膨胀系数为Tc时,满足Tb<Tc<Ts的关系。

    氮化物半导体元件和其制造方法

    公开(公告)号:CN100452583C

    公开(公告)日:2009-01-14

    申请号:CN200480027878.9

    申请日:2004-09-24

    Abstract: 本发明的氮化物半导体元件包括:p型氮化物半导体层、n型氮化物半导体层以及夹持在所述p型氮化物半导体层和所述n型氮化物半导体层之间的激活层。p型氮化物半导体层具有:包含Al和Mg的第一p型氮化物半导体层、包含Mg的第二p型氮化物半导体层。第一p型氮化物半导体层位于所述激活层和所述第二p型氮化物半导体层之间,第二p型氮化物半导体层具有比第一p型氮化物半导体层的能带间隙大的能带间隙。

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