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公开(公告)号：CN109343162A
公开(公告)日：2019-02-15
申请号：CN201811445709.7
申请日：2018-11-29
Applicant: 暨南大学
Abstract: 本发明涉及一种基于超透镜的激光直写装置及其激光直写方法。将超透镜置于直写基底之上，充分利用超透镜的超分辨成像，使得在超透镜的下表面及其近场范围内的距离可以形成高分辨的图像，缩小聚焦的光斑尺寸，从而提高刻写密度，能够实现高密度光栅的刻写。利用达曼光栅，可以一次直写多条光栅栅线，提高激光直写的直写并行度。本装置适用于刻写高密度、高精度的大尺寸衍射光学元件。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN114609714A
公开(公告)日：2022-06-10
申请号：CN202210190096.7
申请日：2022-02-24
Applicant: 暨南大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种正入射条件下基于RGB三色波段偏振无关的透射式倾斜多层二维阵列光栅，单个周期的光栅结构由上至下为由SiO2介质材料、MgF2介质材料构成二维结构介质光栅层、SiO2基底层。位于光栅顶层的二维结构介质光栅层为对称排放的带有单方向倾斜的倾斜长方体结构阵列，其中长方体的长和宽相等。本发明公开的偏振无关的透射式倾斜多层二维光栅可以使得TE和TM两种偏振模式的入射光以正入射条件入射时，透射能量主要集中于(0,‑1)阶透射级次。本发明适用于基于RGB三基色(430～700纳米)波段的高效率偏振无关斜双层光栅，实现对偏振无关入射光的高效率衍射，同时制作容宽大，方便制作。
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公开(公告)号：CN112987511A
公开(公告)日：2021-06-18
申请号：CN202110253890.7
申请日：2021-03-09
Applicant: 暨南大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明涉及一种基于超透镜阵列的激光并行直写装置及方法，将超透镜阵列置于直写光路中，充分利用超透镜的超分辨成像，使得在超透镜的下表面及其近场范围内的距离可以形成高分辨的图像，缩小聚焦的光斑尺寸，从而提高刻写密度，能够实现高密度光栅的刻写。利用超透镜阵列，可以形成多点光斑，即一次直写多条光栅栅线，提高激光直写装置的直写并行度。本发明适用于刻写高密度、高精度的大尺寸衍射光学元件。
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公开(公告)号：CN109341581B
公开(公告)日：2020-12-11
申请号：CN201811285843.5
申请日：2018-10-31
Applicant: 暨南大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明公开了一种横向奇偶组合达曼光栅的三维测量模组及工作方法，产生用于三维成像与测量的交错的点阵化结构光，该测量模组由激光器及扩束器的集成元件、准直透镜、分离的两块不同分束比的达曼光栅或者是在一个基底相邻的两个区域内分别刻蚀不同分束比的横向奇偶组合达曼光栅、物镜等主要器件依次封装构成。激光器发出的激光，经准直透镜准直后，由分离的两块不同分束比的达曼光栅或者是在一个基底相邻的两个区域内分别刻蚀不同分束比的达曼光栅分光后，将两块二维达曼光栅来产生两个非交错点阵进行组合，进而由物镜投射出三维测量与成像所需的交错的平铺点阵。该测量模组具有结构简单易实现以及便于集成到移动设备的优点。
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公开(公告)号：CN112034545A
公开(公告)日：2020-12-04
申请号：CN202011045243.9
申请日：2020-09-29
Applicant: 暨南大学
Abstract: 本发明公开了一种二维孔洞阵列光栅及光栅尺位移测量系统，该光栅由上至下由顶层Ta2O5介质材料构成二维圆形孔洞结构光栅层、SiO2介质缓冲层、Ag金属层和基底构成光栅结构；所述的顶层二维结构介质光栅层为对称排放的二维圆柱形孔洞或圆台孔洞型阵列结构。本发明的偏振无关多层金属介质二维孔洞阵列光栅可以使TE和TM两种偏振模式的入射光以利特罗角(Littrow)入射时，(-1，0)级反射衍射效率在中心波长780纳米波长高于98％，且两个偏振态之间的效率差异小于0.3％，衍射效率平衡达到99.74％，实现对偏振无关入射光的高效率衍射，同时制作容宽大，方便制作。
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