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公开(公告)号：CN116184545A
公开(公告)日：2023-05-30
申请号：CN202111420982.6
申请日：2021-11-26
Applicant: 暨南大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种用于1053nm波段的偏振无关的高效宽带金属介电双层光栅，由上至下分别是：由两层高折射率介质层组成的光栅脊、光栅匹配层、金属反射镜和光栅基底，金属介电双层光栅的任意层均为长方体结构。该介电双层光栅的周期为：700‑750nm，占空比为：0.4‑0.48。金属反射镜的厚度大于金属的趋肤深度。当TE或者TM偏振光以利特罗角入射时，其‑1级平均衍射效率在1000‑1100nm波段超过98％，且偏振相关损耗在整个波段上的平均值为0.016dB。本发明可以由电子束直写装置与微电子深刻蚀加工而成，结构简易，容差大，适合大规模制造，可适用于光谱合束和脉冲压缩系统。
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公开(公告)号：CN114442211A
公开(公告)日：2022-05-06
申请号：CN202011221276.4
申请日：2020-11-03
Applicant: 暨南大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种基于RGB三基色宽光谱高效率偏振无关的斜双层光栅，该光栅的基底是石英，第一层材料为MgF2，深度为h1，第二层材料为石英，深度为h2。该光栅的周期d为706～727纳米，脊宽b为396～418纳米，倾斜角θ为18～19度，h1为452～504纳米，h2为691～743纳米，在正入射的情况下该光栅结构具有454～630纳米的波长带宽。本发明是一种适用于RGB三基色(中心波长为蓝光460纳米、绿光526纳米、红光620纳米)的高效率偏振无关斜双层光栅，由电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺加工而成，其取材方便，结构简单，容差大，造价小，能大批量生产，可应用于AR、VR等三维成像显示技术。
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公开(公告)号：CN112946802A
公开(公告)日：2021-06-11
申请号：CN202110171208.X
申请日：2021-02-08
Applicant: 暨南大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种偏振无关高衍射效率全介质透射二维光栅，由上至下为光栅介质层和基底构成光栅结构；顶部的二维光栅结构为矩形柱状或圆柱结构。光栅介质层第一层材料为SiO2，光栅介质层第二层材料为HfO2、Ti2O5或Si3N4中的任意一种，基底材料与光栅介质层第一层材料相同也为SiO2。本发明的偏振无关高衍射效率全介质透射二维光栅在中心波长780纳米时，入射角为零时，两个偏振的‑1级衍射效率都高于24.694％，总透射效率为99.45％，零级效率仅为0.6％，且两个偏振态的效率偏振无关损耗为0.0014dB，实现了偏振无关入射的高效率衍射，同时制作容差大，易于制作。
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公开(公告)号：CN111007016A
公开(公告)日：2020-04-14
申请号：CN201911248661.5
申请日：2019-12-09
Applicant: 暨南大学
Abstract: 一种检测透明材料表面微小颗粒杂质的装置，包括平行光路模块、偏振照明模块、待测样品和相衬成像模块和图像收集模块，所述待测样品设置于偏振照明模块内，所述相衬成像模块包括第一透镜、相位板、第二透镜和聚焦显微物镜，平行光路模块产生的光速通过偏振照明模块，随后依次通过第一透镜、相位板、第二透镜和聚焦显微物镜形成光斑传输至图像收集模块。
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公开(公告)号：CN110132169A
公开(公告)日：2019-08-16
申请号：CN201910430146.2
申请日：2019-05-22
Applicant: 暨南大学
IPC: G01B11/24
Abstract: 本发明公开了一种基于同轴干涉的波面测量系统，包括：马赫曾德双光束干涉光路、同轴干涉记录单元、二维移动平台、激光干涉仪单元及数据处理单元；待测光学元件设置在所述马赫曾德双光束干涉光路中，所述马赫曾德双光束干涉光路用于产生两束马赫曾德干涉光路，一路作为参考光，另一路作为测量光，其中测量光经过待测光学元件，所述同轴干涉记录单元设置在二维移动平台上，用于将两束马赫曾德干涉光路合路成同轴干涉信号，并记录同轴干涉信号的光强信息，本发明测量波面的尺寸和精度不再受限于分束镜的大小和表面质量，因此在大尺寸波面以及大尺寸光学元件面形测量中具有很好的应用前景。
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公开(公告)号：CN109343162A
公开(公告)日：2019-02-15
申请号：CN201811445709.7
申请日：2018-11-29
Applicant: 暨南大学
Abstract: 本发明涉及一种基于超透镜的激光直写装置及其激光直写方法。将超透镜置于直写基底之上，充分利用超透镜的超分辨成像，使得在超透镜的下表面及其近场范围内的距离可以形成高分辨的图像，缩小聚焦的光斑尺寸，从而提高刻写密度，能够实现高密度光栅的刻写。利用达曼光栅，可以一次直写多条光栅栅线，提高激光直写的直写并行度。本装置适用于刻写高密度、高精度的大尺寸衍射光学元件。
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公开(公告)号：CN114609714B
公开(公告)日：2024-03-12
申请号：CN202210190096.7
申请日：2022-02-24
Applicant: 暨南大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种正入射条件下基于RGB三色波段偏振无关的透射式倾斜多层二维阵列光栅，单个周期的光栅结构由上至下为由SiO2介质材料、MgF2介质材料构成二维结构介质光栅层、SiO2基底层。位于光栅顶层的二维结构介质光栅层为对称排放的带有单方向倾斜的倾斜长方体结构阵列，其中长方体的长和宽相等。本发明公开的偏振无关的透射式倾斜多层二维光栅可以使得TE和TM两种偏振模式的入射光以正入射条件入射时，透射能量主要集中于(0,‑1)阶透射级次。本发明适用于基于RGB三基色(430～700纳米)波段的高效率偏振无关斜双层光栅，实现对偏振无关入射光的高效率衍射，同时制作容宽大，方便制作。
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公开(公告)号：CN115164733A
公开(公告)日：2022-10-11
申请号：CN202210776991.7
申请日：2022-07-04
Applicant: 暨南大学
IPC: G01B11/02 , G01B9/02015
Abstract: 本发明公开了一种基于皮米光梳的皮米测量系统及方法，该测量方法过程如下：激光器发出的光经过分束器分成两束光，每束光均依次通过反射镜、显微物镜、针孔滤波器和准直透镜产生准直扩束的光场；两束光产生的光场汇聚在干涉平面上，产生周期为d的干涉场；将一块全息干板放置在干涉平面上进行第一次曝光；加载皮米尺度的位移信息Δd引起干涉场的周期变化；将全息干板进行第二次曝光，得到皮米光梳。利用皮米光梳的轴向莫尔效应：使用准直扩束的平面波照射皮米光梳，将会产生莫尔干涉条纹。通过光电探测器采集莫尔干涉条纹，计算出莫尔干涉条纹额周期T。最后通过公式反推出待测的皮米尺度的信息Δd。
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公开(公告)号：CN114935311A
公开(公告)日：2022-08-23
申请号：CN202210672039.2
申请日：2022-06-15
Applicant: 暨南大学
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种新型的基于一维光栅的干涉位移测量装置，该装置首次引入三块相等密度的光栅，其中一块为反射式，两块为透射式光栅。入射波长为红光的激光垂直入射在反射式光栅结构上，两束衍射光分别经过两块透射式光栅后经过反射镜调整汇聚于偏振分光棱镜上，最终被两个接收器检测到。该装置可以实现在亚纳米分辨率下测量小位移和长位移的优点，大幅度提升抗干扰能力和光能利用率，其中光栅具有结构简单，加工方便，造价低，可以大批量生产。
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公开(公告)号：CN114879292A
公开(公告)日：2022-08-09
申请号：CN202110159688.8
申请日：2021-02-05
Applicant: 暨南大学
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种适用于RGB三基色的高效率三层倾斜光栅，该光栅的基底是石英，第一、二、三层材料分别为MgF2、石英、MgF2，深度分别为h1、h2、h3。该光栅的周期d为750～770纳米，脊宽b为469～490纳米，倾斜角θ为15.5～16.7度，h1为435～470纳米，h2为585～630纳米，h3为395～430纳米，在正入射的情况下该光栅结构具有456～623纳米的波长带宽。该三层倾斜光栅的中心波长为蓝光460纳米、绿光526纳米、红光620纳米，由电子束直写装置结合微电子深刻蚀工艺加工而成，其取材方便，结构简单，容差大，造价小，能大批量生产，可应用于AR、VR等三维成像显示技术。
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