公开(公告)号：CN102917988A

公开(公告)日：2013-02-06

申请号：CN201180023907.4

申请日：2011-05-13

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 浜岛和雄 ,  三好涉 ,  佐佐木道人 ,  增田健一

IPC: C03B5/225

CPC classification number: C03B5/2252

Abstract: 本发明提供一种防止减压脱泡槽内的熔融玻璃的温度降低、能够高效地对熔融玻璃内的气泡进行脱泡的熔融玻璃的减压脱泡装置、利用该装置的熔融玻璃的制造方法和玻璃制品的制造方法。一种熔融玻璃的减压脱泡装置，其具备：内部通过抽真空而被减压的减压壳体，设置在上述减压壳体内的、进行熔融玻璃的减压脱泡的减压脱泡槽，以与上述减压脱泡槽连通的方式设置的、吸引减压脱泡前的熔融玻璃而使其上升并导入至上述减压脱泡槽的上升管，和以与上述减压脱泡槽连通的方式设置的、使减压脱泡后的熔融玻璃从上述减压脱泡槽降下而导出的下降管，其特征是，在比上述减压脱泡槽内的熔融玻璃的液面更靠上方、且位于上述减压脱泡槽的上壁的下表面侧的位置设置有通电加热装置。

公开(公告)号：CN102869621A

公开(公告)日：2013-01-09

申请号：CN201180021089.4

申请日：2011-04-20

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 柳泽荣治 ,  浜岛和雄

IPC: C03B5/42

CPC classification number: C03B5/43 ,  C03B5/16 ,  C03B5/1675

Abstract: 本发明提供一种熔融玻璃处理装置，其具有内表面接触熔融玻璃的铂制或铂合金制构件、覆盖该构件的至少一部分外表面的玻璃层、被该玻璃层的至少外侧渗透的耐热性纤维体，其中，所述耐热性纤维体含有玻璃纤维或陶瓷纤维，并且以基于氧化物的质量%表示，SiO2含量为50%以上，形成所述玻璃层的玻璃在使用温度下具有102.5dPa·s以上的粘度，所述玻璃层中含有与外部空气不连通的空隙。

公开(公告)号：CN102471123A

公开(公告)日：2012-05-23

申请号：CN201080033757.0

申请日：2010-07-16

Applicant: 旭硝子株式会社

Inventor： 伴信之 ,  伊贺元一 ,  浜岛和雄 ,  平原康晴

IPC: C03B18/02

CPC classification number: C03B18/16

Abstract: 一种吊架组装体，用于在浮法平板玻璃制造装置的浮法锡槽顶部中悬吊形成顶板面的耐火砖，其特征是，该吊架组装体是通过利用销将被支承构件卡定于支承构件而构成的，所述支承构件具有：延伸部，该延伸部沿延伸方向(P)延伸；端部，该端部由具有通孔的两个凸部构成，各通孔设置成当将一个销插入一个凸部的通孔中时，该销能穿过另一个凸部的通孔；以及连结部，该连结部将所述延伸部与端部结合，所述连结部以随着从与所述延伸部朝向所述端部其至少一部分的尺寸变大的方式形成锥状。

公开(公告)号：CN118043492A

公开(公告)日：2024-05-14

申请号：CN202280066605.3

申请日：2022-12-08

Applicant: 东华隆株式会社

Inventor： 浜岛和雄 ,  矢野步 ,  森笹真司

IPC: C23C4/11 ,  C04B35/505 ,  C23C14/08 ,  H01L21/3065 ,  H01L21/31

Abstract: 提供作为等离子体蚀刻装置用构件合适的、耐等离子体性高的含Y2O3的成膜材料及其制造方法。一种成膜材料，其特征在于，其为含有固溶体的成膜材料，所述固溶体包含Y2O3、和仅含有ZrO2、HfO2或Nb2O5的金属氧化物，在前述金属氧化物为ZrO2的情况下，ZrO2的含量为2～12摩尔％，前述金属氧化物为HfO2的情况下，HfO2的含量为4～24摩尔％，在前述金属氧化物为Nb2O5的情况下，Nb2O5的含量为1～8摩尔％，并且，该固溶体的晶体结构具有Y2O3的正六面体晶体结构。

公开(公告)号：CN115244209B

公开(公告)日：2024-05-24

申请号：CN202180019377.X

申请日：2021-03-04

Applicant: 东华隆株式会社

Inventor： 浜岛和雄 ,  森笹真司 ,  穴井真亮

IPC: C23C4/06 ,  C23C4/10 ,  C23C4/11 ,  H01L21/3065

Abstract: 提供一种新型的钨系喷镀覆膜和用于获得该喷镀覆膜的喷镀材料，所述钨系喷镀覆膜适合作为使用卤素气体的等离子体蚀刻装置用构件等。一种喷镀覆膜和具有该喷镀覆膜的等离子体蚀刻装置用构件，所述喷镀覆膜的特征在于，其含有钨作为基质相，且含有包含硅和硼的氧化物作为分散相。一种喷镀用材料，其特征在于，其包含1～7重量％的硅、0.5～3重量％的硼，且包含钨和不可避免的杂质作为余量。一种喷镀该喷镀用材料来制造喷镀覆膜的方法。

公开(公告)号：CN115244209A

公开(公告)日：2022-10-25

申请号：CN202180019377.X

申请日：2021-03-04

Applicant: 东华隆株式会社

Inventor： 浜岛和雄 ,  森笹真司 ,  穴井真亮

IPC: C23C4/06 ,  C23C4/10 ,  C23C4/11 ,  H01L21/3065

Abstract: 提供一种新型的钨系喷镀覆膜和用于获得该喷镀覆膜的喷镀材料，所述钨系喷镀覆膜适合作为使用卤素气体的等离子体蚀刻装置用构件等。一种喷镀覆膜和具有该喷镀覆膜的等离子体蚀刻装置用构件，所述喷镀覆膜的特征在于，其含有钨作为基质相，且含有包含硅和硼的氧化物作为分散相。一种喷镀用材料，其特征在于，其包含1～7重量％的硅、0.5～3重量％的硼，且包含钨和不可避免的杂质作为余量。一种喷镀该喷镀用材料来制造喷镀覆膜的方法。