公开(公告)号：CN102956287A

公开(公告)日：2013-03-06

申请号：CN201210307081.0

申请日：2012-08-24

Applicant: 日东电工株式会社

Inventor： 山崎由佳 ,  梨木智刚 ,  菅原英男

IPC: H01B5/14 ,  H01B13/00

CPC classification number: C23C14/086 ,  C23C14/024 ,  C23C14/35 ,  C23C14/5873 ,  G06F3/041 ,  G06F2203/04103 ,  Y10T428/266

Abstract: 本发明提供透明导电性薄膜及其制造方法。挠性透明基材上具有结晶性的透明导体层的透明导电性薄膜中，即使透明导体层被图案化，在组装到了触摸屏等中时，也能抑制由看到图案开口部与图案形成部的边界导致的美观性降低。一种在挠性透明基材的一个面上形成有由结晶性导电性金属氧化物形成的透明导体层的透明导电性薄膜，挠性透明基材的厚度为80μm以下。本发明的透明导电性薄膜在140℃下加热30分钟时的尺寸变化率H1与将通过蚀刻去除了透明导体层的透明导电性薄膜在140℃下加热30分钟时的尺寸变化率H2之差H1-H2为-0.02%~0.043%。因此，可减小组装到了触摸屏等中时图案边界处的台阶差，抑制美观性降低。