公开(公告)号：CN113168021B

公开(公告)日：2023-07-11

申请号：CN201980080151.3

申请日：2019-12-17

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 摩根·埃文斯 ,  约瑟夫·C·奥尔森 ,  罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森

IPC: G02B27/44 ,  G02B6/122 ,  G02B6/12

Abstract: 本申请的实施方式大致关于用于形成多个光栅的方法。该方法大致包括在设置于基板上的波导组合器的一个或多个保护的区域上沉积材料，该材料具有当离子束引导朝向基板时抑制设置于波导组合器上的光栅材料移除的厚度；及将离子束引导朝向基板。本文所公开的方法允许在一个或多个未受保护的区域中形成多个光栅，同时在保护的区域中不会形成光栅。

公开(公告)号：CN115280192A

公开(公告)日：2022-11-01

申请号：CN202180020367.8

申请日：2021-02-05

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 彼得·库伦齐 ,  约瑟夫·奥尔森 ,  摩根·埃文斯 ,  罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森

IPC: G02B5/18 ,  G02B27/01

Abstract: 公开了一种用于形成器件结构的方法。该形成器件结构的方法包括使用激光烧蚀在器件材料层中形成深度可变结构。在深度可变结构中形成多个器件结构以在其中限定倾斜的器件结构。使用蚀刻处理形成深度可变结构和倾斜的器件结构。

公开(公告)号：CN113195151A

公开(公告)日：2021-07-30

申请号：CN201980082330.0

申请日：2019-12-05

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 约瑟夫·C·奥尔森 ,  摩根·埃文斯 ,  罗格·梅耶·蒂默曼·蒂杰森

IPC: B23K26/364 ,  B23P15/12

Abstract: 本文中所述的实施方式涉及方法及装置，这些方法及装置用于使用成角度蚀刻系统和/或光学设备来在基板上形成具有带有不同斜角的多个鳍片的光栅以及在相继的基板上形成带有不同斜角的鳍片。这些方法包括以下步骤：将保持在工作台上的基板的那些部分定位在离子束的路径中。这些基板具有设置在这些基板上的光栅材料。该离子束被配置为相对于这些基板的表面法线以离子束角Q接触该光栅材料并且在该光栅材料中形成光栅。

公开(公告)号：CN113169099A

公开(公告)日：2021-07-23

申请号：CN201980081072.4

申请日：2019-11-25

Applicant: 应用材料公司

Inventor： 摩根·埃文斯 ,  约瑟夫·C·奥尔森

IPC: H01L21/67 ,  H01L21/306 ,  H01L21/425 ,  H01L21/027 ,  H01L27/15 ,  H01L25/075

Abstract: 本公开内容的多个实施方式涉及通过提供在整个基板上的局部加热来控制蚀刻深度的方法。用于控制整个基板上的温度的方法可包括个别地控制设置在基板支承组件的介电主体中的多个加热小单元。多个加热小单元在基板的第一表面上提供温度分布，基板设置在介电主体的支承表面上。温度分布对应于待暴露于离子束的基板的第二表面上至少一个光栅的多个部分。此外，可通过个别地控制发光二极管(LED)阵列的LED来控制温度。将基板暴露于离子束，以在至少一个光栅上形成多个鳍片。至少一个光栅具有对应于温度分布的深度分布。