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公开(公告)号:CN101930805A
公开(公告)日:2010-12-29
申请号:CN201010209336.0
申请日:2010-06-21
Applicant: 富士胶片株式会社
IPC: H01B1/08 , H01B13/00 , H01L29/786
CPC classification number: H01L29/7869 , C01G15/006 , C01P2002/34 , C01P2002/52 , C01P2002/72 , C01P2006/32 , C01P2006/40 , C30B29/22 , H01L21/02554 , H01L21/02565 , H01L21/02664
Abstract: 本发明提供IGZO基氧化物材料和制备IGZO基氧化物材料的方法,所述IGZO基氧化物材料由组成式In2-xGaxZnO4-δ表示,其中0.75<x<1.10并且0<δ≤1.29161×exp(-x/0.11802)+0.00153,并且所述IGZO基氧化物材料由具有YbFe2O4的晶体结构的IGZO的单相形成。