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公开(公告)号：CN101281760B
公开(公告)日：2012-11-28
申请号：CN200710095844.9
申请日：2007-04-05
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G11B7/24 , G11B7/0065
CPC classification number: G03H1/02 , G03H1/26 , G03H2001/0264 , G03H2001/267 , G03H2240/26 , G03H2250/38 , G03H2250/43 , G03H2260/31 , G11B7/0065 , G11B7/24044 , G11B7/245 , G11B7/246 , G11B7/2467 , G11B7/25 , G11B7/251 , G11B7/2531 , G11B7/2532 , G11B7/2533 , G11B7/2542 , G11B7/259 , G11B7/2595 , G11B2007/25417
Abstract: 本发明提供了一种全息记录材料、全息记录介质和全息记录方法。所述全息记录材料用于至少通过光照射来记录信息。所述全息记录材料包含光响应性分子、液晶分子和平均粒径为所述信息的记录中使用的光的波长的十分之一以下的颗粒。
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公开(公告)号：CN102750959A
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：CN201210217048.9
申请日：2006-11-08
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G11B7/0065
CPC classification number: G03H1/16 , G03H1/02 , G03H2001/0204 , G11B7/0065 , G11C13/042
Abstract: 本发明提供了全息图记录方法和全息图记录装置。本发明提出了一种全息图记录方法，该全息图记录方法包括以下步骤：通过将周期性强度分布或相位分布叠加在将二进制数字数据表示为亮/暗图像的光的强度分布上，来产生信号光；对所述信号光进行傅立叶变换；将经傅立叶变换的信号光和参考光同时照射在光记录介质上；以及将所述信号光记录为全息图。
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公开(公告)号：CN101856914A
公开(公告)日：2010-10-13
申请号：CN200910265268.7
申请日：2009-12-28
Applicant: 富士施乐株式会社
CPC classification number: B41J2/451 , G03G15/04054 , G03G15/326 , G03G2215/0409
Abstract: 本发明提供一种曝光装置和图像形成装置，该曝光装置包括：发光元件阵列，在该发光元件阵列发出通过扩散光的光路的光的多个发光元件一维地或二维地排列在基板上；以及全息元件阵列，在该发光元件阵列多个全息元件形成在位于所述基板上的全息记录层中分别对应于所述多个发光元件的位置，以在全部所述多个发光元件的照射区域的外侧衍射且会集从所述多个发光元件分别发出的各光。
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公开(公告)号：CN101025942A
公开(公告)日：2007-08-29
申请号：CN200610144449.0
申请日：2006-11-08
Applicant: 富士施乐株式会社
IPC: G11B7/0065 , G11C13/04 , G03H1/04
CPC classification number: G11B7/0065 , G11B7/128 , G11B7/2403 , G11B7/24044 , Y10S359/90
Abstract: 本发明提供了全息图记录方法和装置、全息图重现方法及光学记录介质。将信号光记录到光学记录介质上作为全息图的全息图记录方法包括以下步骤：通过在对入射相干光进行空间调制的空间光调制器上显示将调制区域分为多个区域的图案，而关于所述相干光的光轴对称地设置产生信号光的信号光区域和产生参考光的参考光区域；通过利用所述空间光调制器对所述入射相干光进行调制，来产生信号光和参考光；将从彼此对称布置的所述信号光区域和所述参考光区域产生的所述信号光和所述参考光同时且同轴地照射到反射型光学记录介质上；以及将所述信号光记录在所述光学记录介质上作为全息图。
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