公开(公告)号：CN102516459A

公开(公告)日：2012-06-27

申请号：CN201110392766.5

申请日：2005-08-25

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 佐藤数行 ,  板垣刚之 ,  伊丹康雄

IPC: C08F230/08 ,  C08F214/18 ,  C09D143/04 ,  C09D127/12 ,  C07F7/18

CPC classification number: C08F214/18 ,  C07F7/1804 ,  C09D143/04

Abstract: 本发明提供一种含氟化合物、含氟聚合物和含氟树脂组合物。所述含氟化合物以下述通式(1)表示，通式(1)中，X1和X2相同或不同，表示H或F；X3表示H、F、CH3或CF3；X4和X5相同或不同，表示H、F或CF3；Rf1表示有机基，所述有机基是碳原子数为1～40的含氟烷基或碳原子数为2～100的具有醚键的含氟烷基，其中的1～3个氢原子被Y1取代，所述Y1是在末端含有至少一个碳原子数为1～10的水解性金属醇盐部位的官能团；a表示0～3的整数；b和c相同或不同，表示0或1。

公开(公告)号：CN114945604A

公开(公告)日：2022-08-26

申请号：CN202180009061.2

申请日：2021-01-15

Applicant: 大金工业株式会社 ,  国立大学法人大阪大学

Inventor： 田中孝之 ,  佐藤数行 ,  大岛明博

IPC: C08F8/50 ,  C08F114/26

Abstract: 本发明提供不容易生成全氟辛酸及其盐的低分子量聚四氟乙烯的制造方法等。本发明涉及一种低分子量聚四氟乙烯的制造方法，其是在380℃的熔融粘度为1.0×102～7.0×105Pa·s的低分子量聚四氟乙烯的制造方法，其包括下述工序：工序(1)，在能够生成游离氢原子的物质的存在下对高分子量聚四氟乙烯照射放射线，由此将上述高分子量聚四氟乙烯低分子量化；以及工序(2)，使通过上述照射生成的主链自由基和末端自由基中的至少一部分失活，由此得到上述低分子量聚四氟乙烯。

公开(公告)号：CN108779258B

公开(公告)日：2022-08-05

申请号：CN201780015105.6

申请日：2017-03-06

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 佐藤数行 ,  薄谷光宏 ,  足达健二

IPC: C08J3/12 ,  C08F255/00 ,  C08J3/28

Abstract: 本发明提供一种由成型用材料制造成型体的方法，其特征在于，成型用材料具有含氟接枝链。

公开(公告)号：CN112384656A

公开(公告)日：2021-02-19

申请号：CN201980042607.7

申请日：2019-06-28

Applicant: 国立大学法人大阪大学 ,  大金工业株式会社

Inventor： 大岛明博 ,  大向吉景 ,  盐谷优子 ,  佐藤数行 ,  松田礼生 ,  吉田知弘 ,  山本育男

IPC: D21H19/48 ,  D21H19/58

Abstract: 一种纸的制造方法，其包括：对纸基材和化合物(A)的至少一方照射电离辐射线和等离子体中的至少一种，由此将由化合物(A)形成的层导入上述纸基材的表面的步骤，上述化合物(A)选自具有碳－碳不饱和键并且在分子结构内不含氟原子的化合物、并且通过照射电子束产生自由基并且在分子结构内不含氟原子的化合物。

公开(公告)号：CN107428071A

公开(公告)日：2017-12-01

申请号：CN201680020697.6

申请日：2016-04-04

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 佐藤数行 ,  矶贝智弘

IPC: B29C59/02 ,  B29C33/40

CPC classification number: B29C33/40 ,  B29C59/02

Abstract: 本发明涉及其表面具有凹凸结构，且其具有热塑性氟树脂的成型体，该成型体具有2.0GPa～20GPa的弯曲弹性模量。本发明的成型体手感硬度大，在纳米压印工艺中可以用作具有优异的脱模性的树脂制复制模具。

公开(公告)号：CN103415790A

公开(公告)日：2013-11-27

申请号：CN201280012941.6

申请日：2012-03-14

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 中原住雄 ,  佐藤数行 ,  匂坂重仁

IPC: G02B3/08 ,  G02B3/00 ,  H01L31/052

CPC classification number: H01L31/02327 ,  G02B5/0231 ,  G02B5/0294 ,  G02B19/0009 ,  H01L31/02168 ,  H01L31/0543 ,  Y02E10/52

Abstract: 提供能够高效地对宽角度范围的入射光进行聚光的聚光膜、以及具备上述聚光膜的太阳能电池组件。本发明的聚光膜为含有有机材料的聚光膜，其特征在于：该聚光膜在至少一侧表面具有微细的凹凸重复结构，凹凸高度(H)为0.1μm～100μm、凹凸周期(P)为0.1μm～500μm，各凹凸部具有阶梯状的斜面，按照1级阶梯的高度(D)和宽度(L)朝向凹凸部的底面部扩大、或者减小的方式来形成；1级阶梯的高度(D)为0.01μm～100μm，1级阶梯的宽度(L)为0.01μm～100μm。

公开(公告)号：CN100393797C

公开(公告)日：2008-06-11

申请号：CN03819263.2

申请日：2003-08-07

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 大桥美保子 ,  岸川洋介 ,  佐藤数行 ,  荒木孝之

IPC: C08L29/10 ,  C08L27/12 ,  C08L33/04 ,  C08F14/18 ,  C08F16/14 ,  C08F20/32 ,  C09D129/10 ,  G02B6/12

CPC classification number: G02B1/045 ,  C08F20/22 ,  C08K5/0025 ,  C09D127/12 ,  G02B6/1221 ,  G02B6/138 ,  G02B2006/12069 ,  G02B2006/1219 ,  G03F7/0046 ,  G03F7/038 ,  C08L27/12

Abstract: 本发明涉及含有可固化的含氟聚合物(I)并且含有光致产酸剂(II)的光学材料，提供适宜作为光波导和密封部件等光学装置用材料以及防反射膜等显示装置用材料且在近红外区域的透明性、耐吸湿性、耐热性等优越的各种光学材料及固化后的部件。所述可固化的含氟聚合物(I)用下述式(1)表示，含有0.1摩尔%～100摩尔%的结构单元M和0～99.9摩尔%的结构单元A，并且数均分子量为500～1000000，式(1)中，结构单元M为用式(M)表示的来自于含氟烯型单体的结构单元，结构单元A为来自于可与该式(M)表示的含氟烯型单体共聚的单体的结构单元。

公开(公告)号：CN1882882A

公开(公告)日：2006-12-20

申请号：CN200480034295.9

申请日：2004-11-15

Applicant: 大金工业株式会社

Inventor： 荒木孝之 ,  高明天 ,  佐藤数行 ,  大桥美保子 ,  岸川洋介

IPC: G03F7/11 ,  C08F216/12 ,  C09D133/14

Abstract: 抗蚀剂层积体的形成方法，该抗蚀剂层积体在利用真空紫外区域的光线的照相平版法工艺中具有充分的防反射效果，并且即使在显影工艺中也具有充分的显影特性。光致抗蚀剂层积体的形成方法包括工序(I)，在基板上形成光致抗蚀剂层(L1)；和工序(II)，在光致抗蚀剂层(L1)上通过涂布含有含氟聚合物(A)的涂层组合物形成防反射层(L2)，所述含氟聚合物(A)具有亲水性基团Y，其特征为，含氟聚合物(A)具有由含亲水性基团Y的含氟乙烯型单体衍生的结构单元，并且，对于该含氟聚合物(A)，(i)亲水性基团Y含有pKa小于等于11的酸性OH基团；(ii)含氟率大于等于50质量％；以及(iii)100克含氟聚合物(A)中亲水性基团Y的摩尔数大于等于0.14。