公开(公告)号：CN112797828B

公开(公告)日：2022-07-15

申请号：CN202011619911.4

申请日：2018-09-28

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 高桥伸一郎 ,  太田贵之 ,  竹松清隆 ,  平田贤郎 ,  桥本大藏 ,  中村阳子 ,  小田和范 ,  武田利彦 ,  百濑辉寿

IPC: F28D15/04 ,  F28F3/12 ,  H05K7/20 ,  B32B3/30 ,  B32B15/01 ,  C23F1/02

Abstract: 本发明提供蒸发室、电子设备以及蒸发室的制造方法。蒸发室的液体流路部具有多个主流槽，所述多个主流槽分别在第1方向上延伸，供液态的工作液通。在彼此相邻的一对主流槽之间设置有凸部列，所述凸部列包含在第1方向上隔着连接槽排列的多个液体流路凸部。连接槽将对应的一对主流槽连通。连接槽的宽度大于主流槽的宽度。

公开(公告)号：CN216528953U

公开(公告)日：2022-05-13

申请号：CN202123323049.5

申请日：2021-12-27

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 中村阳子 ,  大八木康之 ,  谷口幸夫 ,  堀口龙二 ,  井上功

IPC: H01L51/50 ,  H01L51/52 ,  H01L51/56

Abstract: 本实用新型提供有机器件、掩模组以及掩模。有机器件可以具备：基板；位于基板上的第1电极；位于第1电极上的有机层；以及位于有机层上的第2电极。在沿着基板的法线方向观察的情况下，有机器件可以具备：第1显示区域，其包含具有第1占有率的第2电极；和第2显示区域，其包含具有比第1占有率小的第2占有率的第2电极。可以是，在第2显示区域中，有机层在第1方向上排列，且在与第1方向交叉的第2方向上排列。在第2显示区域中，第2电极可以包含在第1方向上排列的电极线。电极线可以包含在第2方向上排列且与有机层重叠的电极段。在第2方向上相邻的2个电极段可以互相连接。电极段可以包含：具有第1形状的第1电极段；和具有与第1形状不同的第2形状的第2电极段。

公开(公告)号：CN218160382U

公开(公告)日：2022-12-27

申请号：CN202221697546.3

申请日：2022-07-01

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 西村直起 ,  矢野宏志 ,  中村友祐 ,  宫谷勋 ,  中村阳子

IPC: H01L27/32 ,  H01L51/56 ,  H01L51/52

Abstract: 本实用新型涉及有机器件。有机器件具备外缘、布线区域和显示区域。显示区域包含第1电极、位于第1电极上的有机层、和位于有机层上的第2电极。布线区域包含与第2电极电连接并规定基准电位的参比电极。显示区域包含第1显示区域、和与第1显示区域相接的第2显示区域。第2显示区域包含：含有第2电极的标准区域、和不含第2电极且在第1方向上排列的透射区域。标准区域的第2电极包含与第1显示区域的第2电极连接的多个连接部。多个连接部包含在第2方向上位于第1边侧的第1连接部。第1连接部包含在第1方向上位于透射区域之间的相向连接部。

公开(公告)号：CN217691218U

公开(公告)日：2022-10-28

申请号：CN202221560149.1

申请日：2022-06-21

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 宫谷勋 ,  池永知加雄 ,  中村阳子 ,  井上功

IPC: H01L51/52 ,  H01L51/56 ,  C23C14/04 ,  C23C14/24

Abstract: 本实用新型涉及有机器件、掩模组以及掩模。有机器件可以具备：基板；位于基板上的第1电极；位于第1电极上的有机层；和位于有机层上的第2电极。在沿着基板的法线方向观察的情况下，有机器件可以具备包含第1显示区域和第2显示区域的显示区域。第1显示区域可以包含以第1密度分布的有机层。第2显示区域可以包含以小于第1密度的第2密度分布的有机层。第2电极可以具备：在第1显示区域无间隙地扩展的广域电极；和包含与广域电极连接的端并在第2显示区域与有机层重叠的2个以上的电极线。

公开(公告)号：CN217230904U

公开(公告)日：2022-08-19

申请号：CN202220813208.5

申请日：2022-04-08

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 宫谷勋 ,  池永知加雄 ,  中村阳子 ,  井上功

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  H01L51/56

Abstract: 本公开提供蒸镀掩模、蒸镀掩模装置以及蒸镀装置。本公开的实施方式的蒸镀掩模具备第1面、位于第1面的相反侧的第2面、以及2个以上的贯通孔。贯通孔包括位于第1面的第1凹部和位于第2面的第2凹部。蒸镀掩模具备：掩模第1区域，其具有表示第2面所残存的面积的比率的第1面残存率；以及掩模第2区域，其具有表示第2面所残存的面积的比率的第2面残存率，第2面残存率大于第1面残存率。

公开(公告)号：CN216563200U

公开(公告)日：2022-05-17

申请号：CN202123323954.0

申请日：2021-12-27

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 中村阳子 ,  大八木康之 ,  谷口幸夫 ,  堀口龙二 ,  井上功

IPC: H01L51/50 ,  H01L51/52 ,  H01L51/56

Abstract: 本实用新型提供有机器件、掩模组以及掩模。有机器件可以具备：基板；位于基板上的第1电极；位于第1电极上的有机层；以及位于有机层上的第2电极。在沿着基板的法线方向观察的情况下，有机器件可以具备：第1显示区域，其包含具有第1占有率的第2电极；和第2显示区域，其包含具有比第1占有率小的第2占有率的第2电极。第2显示区域可以包含：第2电极；和在俯视时被第2电极包围的透射区域。透射区域可以包含：第1透射区域；和隔着第2电极与第1透射区域相邻的第2透射区域。可以是，第1透射区域具有第1形状，第2透射区域具有与第1形状不同的第2形状。

公开(公告)号：CN215342660U

公开(公告)日：2021-12-28

申请号：CN202121236615.6

申请日：2021-06-03

Applicant: 大日本印刷株式会社

Inventor： 池永知加雄 ,  井上功 ,  中村阳子

IPC: H01L51/56 ,  H01L51/52 ,  C23C14/04 ,  C23C14/24

Abstract: 本实用新型涉及电子器件和蒸镀掩模组。电子器件具备：具有第1面和位于第1面的相反侧的第2面的基板；位于基板的第1面上的2个以上的第1电极；第1电极上的有机层；和位于有机层上且按照俯视时重叠在2个以上的第1电极上的方式展开的第2电极。第2电极包含俯视时不与第1电极重叠的第2电极开口、和面向第2电极开口的侧面。第2电极的侧面的高度大于第2电极中俯视时与第1电极重叠的区域的厚度的平均值。