-
公开(公告)号:CN1543293A
公开(公告)日:2004-11-03
申请号:CN200410038785.8
申请日:2004-03-26
Applicant: JSR株式会社 , 夏普株式会社 , 株式会社国际基盘材料研究所
CPC classification number: H01L21/288 , C23C18/02 , C23C18/06 , C23C18/08 , C23C18/14 , Y10T428/24917
Abstract: 提供了一种通过用包含(A)胺类化合物与氢化铝化合物的配合物,以及(B)钛化合物的组合物或包含(A)胺类化合物与氢化铝化合物的配合物,以及(C)金属颗粒的组合物涂覆基材并且随后使得到的涂覆薄膜受热和/或光处理,形成接线或电极的方法。通过这种方法,可以形成使用导电薄膜成形组合物的薄膜,采用该薄膜可以容易和便宜地形成接线和电极,该接线和电极可合适地用于电子器件。