公开(公告)号：CN110850643A

公开(公告)日：2020-02-28

申请号：CN201910735843.9

申请日：2019-08-09

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 谷池康司郎

IPC: G02F1/1339 ,  G02F1/1341

Abstract: 本发明涉及一种液晶面板的制造方法，所述制造方法能够以高生产率制造高品质的多个液晶面板。一种液晶面板的制造方法，执行：密封材料涂布工序，在第一基板(20)上，以区划多个区域的方式涂布密封材料(13)；真空贴合工序，在真空中贴合第一基板(20)和第二基板(30)；大气压冲压工序，在大气压中对第一基板(20)以及第二基板(30)进行冲压；紫外线固化工序，进行密封材料(13)的紫外线固化；热固化工序，进行密封材料(13)的热固化；分割工序，将第一基板(20)以及第二基板(30)分割成各个区域，作为多个一对基板；以及液晶注入工序，在一对基板之间注入液晶(12)；其中在密封材料涂布工序中，密封材料(13)被涂布成封闭的环状。

公开(公告)号：CN110716353A

公开(公告)日：2020-01-21

申请号：CN201910620961.5

申请日：2019-07-10

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 谷池康司郎

IPC: G02F1/1337 ,  G02F1/1333

Abstract: 提供能得到优异的取向限制力的带取向膜的阵列基板的制造方法。带取向膜的阵列基板(21B)的制造方法包含：TFT形成工序，在基板(11B)上形成TFT(14)；像素电极形成工序，在基板(11B)上形成像素电极(15)；取向膜(20)形成工序，以覆盖TFT(14)和像素电极(15)的方式形成取向膜(20)；及摩擦工序，通过第1摩擦辊(32)和第2摩擦辊(33)摩擦取向膜(20)，设置在第1摩擦辊(32)的外周的第1摩擦材料(32B)由与设置在第2摩擦辊(33)的外周的第2摩擦材料(33B)相比弹力、韧性比较强的材质形成，第1摩擦辊(32)和第2摩擦辊(33)均设定为向将基板(11B)推出的方向旋转。

公开(公告)号：CN110596958A

公开(公告)日：2019-12-20

申请号：CN201910501970.2

申请日：2019-06-11

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 谷池康司郎

IPC: G02F1/1337

Abstract: 一种液晶用基板的制造方法和液晶用基板的处理装置，不降低取向处理效果，并实现高的清洗力。液晶用基板的制造方法包含在对基板(20)进行了用于使液晶分子取向的摩擦处理之后对上述基板(20)进行清洗处理的清洗工序，在上述清洗工序中，当上述基板(20)由沿着上述基板(20)的搬运方向流动的水系清洗材料进行清洗时，在上述基板(20)的摩擦处理方向与上述搬运方向交叉的情况下，上述水系清洗材料的供应压力被调整为小于在上述基板(20)的摩擦处理方向与上述搬运方向一致的情况下的上述水系清洗材料的供应压力。

公开(公告)号：CN110231737A

公开(公告)日：2019-09-13

申请号：CN201910168183.0

申请日：2019-03-06

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 谷池康司郎 ,  弓波亮介

IPC: G02F1/1337

Abstract: 本发明提供一种带取向膜基板的制造方法，该带取向膜基板在长期间使用中折射率各向异性的变化小，能够维持高折射率各向异性。带取向膜基板的制造方法具有：涂膜形成工序，在基板的表面涂布含有在主链具有偶氮苯基的第一高分子的取向膜组合物，形成涂膜；以及加热曝光工序，在60～80℃下加热上述基板并对上述涂膜照射光，优选在上述加热曝光工序中照射320～500nm的波长区域的光。

公开(公告)号：CN110161727A

公开(公告)日：2019-08-23

申请号：CN201910111066.0

申请日：2019-02-12

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 谷池康司郎 ,  马场敏宏

IPC: G02F1/13 ,  G02F1/1337

Abstract: 提供一种抑制液晶的取向性能降低的情况，并且去除取向膜上的异物的液晶面板用基板的制造方法。该液晶面板用基板的制造方法具有如下特征，包括：对在玻璃母基板(41)上形成的取向膜(11)通过摩擦滚轮(53)来进行的摩擦处理的摩擦工序、以及在摩擦工序之后实施的相对于取向膜(11)沿着摩擦处理的方向吹送空气清洁工序，在清洁工序中，通过空气吹嘴(55)将气体向取向膜(11)吹送，同时将从取向膜(11)飞散的异物由真空吸嘴(56)吸引。

公开(公告)号：CN109884823A

公开(公告)日：2019-06-14

申请号：CN201811438393.9

申请日：2018-11-27

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 谷池康司郎

IPC: G02F1/1337 ,  G02F1/13

Abstract: 提供高效地进行偏振光照射，且能够形成显示出较高的各向异性的感光膜的偏振光照射装置、以及带感光膜的基板的制造方法。一种设置在基板上的感光膜的曝光所使用的偏振光照射装置，该偏振光照射装置具备：搬运工作台，其具有在载置了上述基板的状态下往复移动的工作台面、和对载置在上述工作台面上的上述基板进行加热的加热机构；和偏振光照射机构，其相对于在曝光区域内移动的上述工作台面照射偏振光，上述搬运工作台一边由上述加热机构对上述基板进行加热，一边在往路中，在上述曝光区域内以第一平均速度移动，在复路中，在上述曝光区域内以比上述第一平均速度慢的第二平均速度移动。

公开(公告)号：CN109328320A

公开(公告)日：2019-02-12

申请号：CN201780037845.X

申请日：2017-06-16

Applicant: 夏普株式会社

Inventor： 水崎真伸 ,  谷池康司郎 ,  土屋博司 ,  高桥纯平

IPC: G02F1/1337 ,  C08G73/10 ,  G02F1/13

Abstract: 本发明的液晶单元包括彼此相向且在至少一侧的对向面上具有光取向膜的一对基板、与介于所述基板之间的液晶层，该液晶单元的特征在于：所述光取向膜含有以聚酰胺酸为主链的聚合物，该聚酰胺酸由具有弯曲构造的四羧酸二酐与具有偶氮苯基的二胺化合物聚合而成，所述液晶层含有具有不饱和键的第一液晶化合物、与包含选自包含由下述化学式(1-1)及化学式(1-2)表示的构造的群的至少一个构造的第二液晶化合物，且向列-各向同性相转移温度为90℃以上。(式1-1)及(式1-2)(式中，n为1～3的整数。)。