公开(公告)号：CN109963711A

公开(公告)日：2019-07-02

申请号：CN201780071065.7

申请日：2017-11-17

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 伊藤丰 ,  山下恭弘

IPC: B32B9/00 ,  C23C16/42 ,  H01L51/50 ,  H05B33/02 ,  H05B33/04

Abstract: 本发明的目的在于提供尤其是高温高湿下的气体阻隔性的经时性下降被抑制的气体阻隔性膜。本发明涉及气体阻隔性膜，其是至少具有基材层和无机薄膜层的气体阻隔性膜，所述基材层至少包含挠性基材，该基材层与该无机薄膜层之间的密合性按照ASTM D3359测定为2B以上，该无机薄膜层具有至少1个切断端面，并且具有选自由剥离及裂缝组成的组中的至少1种缺陷、或者不具有该缺陷，此处，该无机薄膜层具有该缺陷的情况下，其存在区域为从该切断端面起沿着法线方向的120μm以下的范围内。

公开(公告)号：CN105873763B

公开(公告)日：2018-03-30

申请号：CN201480070669.6

申请日：2014-12-11

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 山下恭弘 ,  伊藤丰 ,  中岛秀明

IPC: B32B27/06 ,  B32B27/16 ,  C23C16/42 ,  C23C16/507 ,  H01L51/50 ,  H05B33/02 ,  H05B33/04

CPC classification number: C23C16/50 ,  C23C16/30 ,  C23C16/401 ,  C23C16/507 ,  C23C16/545 ,  H01L51/5253 ,  H05B33/04

Abstract: 一种层叠膜，其具有挠性基材和形成在上述基材的至少一个表面上的至少1层薄膜层，其中，上述薄膜层中，至少1层满足全部下述条件(i)和(ii)：(i)含有硅原子(Si)、氧原子(O)和氮原子(N)；(ii)对薄膜层的表面进行X射线光电子能谱测定时，由宽扫描能谱计算出的碳原子相对于硅原子的原子数比满足由下述式(1)：0

公开(公告)号：CN105873763A

公开(公告)日：2016-08-17

申请号：CN201480070669.6

申请日：2014-12-11

Applicant: 住友化学株式会社

Inventor： 山下恭弘 ,  伊藤丰 ,  中岛秀明

IPC: B32B27/06 ,  B32B27/16 ,  C23C16/42 ,  C23C16/507 ,  H01L51/50 ,  H05B33/02 ,  H05B33/04

CPC classification number: C23C16/50 ,  C23C16/30 ,  C23C16/401 ,  C23C16/507 ,  C23C16/545 ,  H01L51/5253 ,  H05B33/04

Abstract: 一种层叠膜，其具有挠性基材和形成在上述基材的至少一个表面上的至少1层薄膜层，其中，上述薄膜层中，至少1层满足全部下述条件(i)和(ii)：(i)含有硅原子(Si)、氧原子(O)和氮原子(N)；(ii)对薄膜层的表面进行X射线光电子能谱测定时，由宽扫描能谱计算出的碳原子相对于硅原子的原子数比满足由下述式(1)：0

公开(公告)号：CN102985599A

公开(公告)日：2013-03-20

申请号：CN201180033275.X

申请日：2011-07-06

Applicant: 住友化学株式会社 ,  日本电气株式会社

Inventor： 服部武司 ,  伊藤丰 ,  真木一 ,  今井英人 ,  太田健一郎

IPC: C25B11/06 ,  B01J21/18 ,  H01M4/90 ,  H01M8/10

CPC classification number: C25B11/0405 ,  C25B11/0415 ,  C25B11/0447 ,  H01M4/8605 ,  H01M4/8652 ,  H01M4/8657 ,  H01M4/8673 ,  H01M4/88 ,  H01M4/9016

Abstract: 本发明提供一种电极催化剂，其包含金属化合物和覆盖该金属化合物的至少一部分的碳材料，所述金属化合物含有选自长周期型周期表的第4族元素和第5族元素中的1种以上的金属元素、以及氧原子，在对金属元素的EXAFS测定中的EXAFS振动进行傅里叶变换而求得的径向分布函数中，以第一位接近元素的峰值的倒数表示的氧缺陷指数为0.125以上且0.170以下，径向分布函数中的以第二位接近元素的峰值表示的结晶性指数为4.5以上且8.0以下。

公开(公告)号：CN101784637A

公开(公告)日：2010-07-21

申请号：CN200880104304.5

申请日：2008-08-25

Applicant: 住友化学株式会社 ,  国立大学法人鸟取大学

Inventor： 伊藤丰 ,  大观光德 ,  山根明 ,  小林笃史 ,  国本崇

IPC: C09K11/86 ,  C09K11/08 ,  H01J1/63 ,  H01J11/02 ,  H01J29/20 ,  H01J31/12 ,  H01J61/44

CPC classification number: C09K11/7773 ,  H01J2211/42 ,  H01J2329/20

Abstract: 本发明提供一种具有高的发光效率的荧光体，由M1、M2、M3、M4、卤素及O构成(在此，M1表示碱土类金属元素，M2表示三价金属元素，M3表示付活元素，M4表示四价的金属元素)，其中，M1∶(M2+M3)∶M4∶卤素的摩尔比为1∶4∶3∶a(在此，a为0.01以上3以下范围的值)。这样的荧光体可通过烧结金属化合物混合物而得到，该金属化合物混合物是含有M1、M2、M3、M4及卤素的金属化合物混合物(在此，M1、M2、M3、M4具有与上述相同的意思)，含有选自由M1的卤化物、M2的卤化物及M3的卤化物构成的组中的一种以上的卤化物。