公开(公告)号：CN111546134A

公开(公告)日：2020-08-18

申请号：CN202010302054.9

申请日：2020-04-16

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 宗文俊 ,  崔志鹏 ,  吴立强 ,  吴兵 ,  赵学森 ,  胡振江 ,  孙涛

IPC: B23Q17/24

Abstract: 一种基于超精密铣削工艺的光栅尺误差补偿方法，属于光栅尺测量技术领域。建立铣削平面误差条纹模型，加工多个不同角度的平面，并进行表面形貌检测，将检测结果与模型对比，判断正弦性，确定机床光栅尺误差的同步位置，确定补偿相位值，确定补偿量；确定补偿计算式，建立误差补偿表，进行变换补偿。本发明可以有效地识别因光栅尺误差而产生的表面条纹，识别光栅尺误差，大幅度提高了切削表面质量，有效地降低了工件表面粗糙度；补偿后机床加工零件的表面粗糙度值是未补偿表面的50％～60％，表面质量提高1～2倍。

公开(公告)号：CN110442987A

公开(公告)日：2019-11-12

申请号：CN201910736917.0

申请日：2019-08-10

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 宗文俊 ,  吴立强 ,  崔志鹏 ,  吴兵

IPC: G06F17/50

Abstract: 一种单晶金刚石圆锥压头轴线方向及研磨角度选择方法，属于高精度纳米压痕压头制造技术领域。根据典型晶面微观抗剪切强度确定其易磨度因子，通过加权叠加计算得到一般晶面晶向的易磨度因子；基于坐标变换方法计算某一般晶面晶向的易磨度因子；对锥面一圈沿不同研磨方向的易磨度因子进行计算；对特定半锥角、以不同晶向为轴线的单晶金刚石圆锥压头，计算沿不同研磨方向的锥面的易磨度因子标准差以选择轴线方向；对特定轴线为方向、特定半锥角单晶金刚石圆锥压头，计算锥面沿不同研磨方向的易磨度因子标准差以选择压头的研磨角度。通过优选能够明显减弱单晶金刚石晶体各向异性特征对压头研磨精度的不利影响。

公开(公告)号：CN107457616B

公开(公告)日：2019-07-26

申请号：CN201710801641.0

申请日：2017-09-07

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 宗文俊 ,  崔志鹏 ,  吴立强 ,  孙涛

IPC: B24B1/00 ,  B24B37/00

Abstract: 一种基于纳米镍粉的金刚石晶体表面机械化学抛光方法，属于金刚石刀具制造技术领域。本发明从金刚石晶体与过渡族金属元素在摩擦高温催化作用下发生化学反应入手，结合前期积累的金刚石晶体机械刃磨抛光加工经验，采用涂覆纳米镍粉的抛光垫加工金刚石晶体平面。通过金刚石晶体平面的抛光工艺实验，详细分析了抛光垫往复运动频率和往复运动行程、机床主轴转速、抛光压力、金刚石晶体对抛光垫挤压深度、抛光时间、重复涂粉时间间隔等工艺参数对金刚石晶体平面抛光效果的影响规律，包括表面粗糙度Ra和表面粗糙度Rz，并建立优化的金刚石晶体表面抛光工艺，实现表面粗糙度Ra 0.6nm或Rz 3.6nm，为高精度金刚石刀具的机械化学抛光加工工艺技术迈出了探究性的一步。

公开(公告)号：CN107796338A

公开(公告)日：2018-03-13

申请号：CN201710945584.3

申请日：2017-09-30

Applicant: 哈尔滨工业大学

Inventor： 宗文俊 ,  崔志鹏 ,  牛春岩 ,  孙涛

IPC: G01B11/30

Abstract: 一种金刚石刀具圆弧波纹度的在位检测装置。本发明涉及一种金刚石刀具圆弧波纹度的在位检测装置。进给台(1)上设置二维精密运动平台(5)，二维精密运动平台(5)上设置磁性表座(6)，磁性表座(6)的横向支杆上设置C_LVDT夹具(7)，C_LVDT夹具(7)的上表面设置水平珠(8)，C_LVDT夹具(7)的前端设置C_LVDT(9)，进给台(1)所连接L形支架(10)的竖向底端，L形支架(10)的横向支杆底设置磁性表座(6)的竖向支杆，L形支架(10)的横向支杆上设置CCD体视显微镜(11)，C_LVDT(9)配合金刚石刀具(4)使用。本发明用于金刚石刀具圆弧波纹度的在位检测。