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公开(公告)号:CN102978582A
公开(公告)日:2013-03-20
申请号:CN201210488908.2
申请日:2012-11-26
Applicant: 厦门钨业股份有限公司 , 厦门嘉鹭金属工业有限公司
IPC: C23C16/14 , C23C16/455 , B81B1/00 , B81C1/00
Abstract: 一种纯钨毛细管的生产装置,涉及一种纯钨毛细管。提供一种利用化学气相沉积方法,具有高致密度、高纯度等优点的纯钨毛细管的生产装置。设有恒温配气系统、高温沉积系统和回收与尾气处理系统,三者依次连接。恒温配气系统设有箱体、温控与排气机构、进料机构,温控与排气机构设有风机和加热器,进料机构设有原料气WF6气瓶、H2气瓶、质量流量计和混合罐。高温沉积系统设有管路系统和沉积系统,所述管路系统设有两条并联管路。沉积系统设有炉体。回收及尾气处理系统设有回收装置和尾气处理器,回收装置为两个冷凝器串联而成,冷凝器上部为冷凝器主体,冷凝器下部为冷凝器收集器。
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公开(公告)号:CN117701966A
公开(公告)日:2024-03-15
申请号:CN202311721192.0
申请日:2023-12-14
Applicant: 厦门钨业股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种钨合金材料及其制备方法与应用,以质量百分数计,所述钨合金材料的制备原料包括90‑93wt%的钨,0.1‑1wt%的添加剂以及余量的粘结相材料;所述添加剂包括氢化铪、氢化钛或氢化锆中的任意一种或至少两种的组合;本发明提供的钨合金材料具有1550MPa以上的室温拉伸强度,10%以上的室温断裂伸长率以及80J/cm2以上的室温冲击韧性,适用于穿甲材料。
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公开(公告)号:CN117660916A
公开(公告)日:2024-03-08
申请号:CN202311632948.4
申请日:2023-11-29
Applicant: 厦门钨业股份有限公司
Abstract: 本发明属于厚钨涂层生产制备的技术领域,公开了一种细晶强化的厚钨涂层及其制备方法和面对等离子体部件。本发明提供的厚钨涂层具有细小柱状晶微观组织,细小柱状晶微观组织中柱状晶平均宽度≤50μm,且该厚钨涂层是通过在化学沉积的过程中引入活化正丙胺以及采用多次化学气相沉积和退火处理交替进行的特殊处理方式制备获得的,具有优秀的导热性能和力学性能,应用前景良好。
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公开(公告)号:CN114293173B
公开(公告)日:2024-02-09
申请号:CN202111555171.7
申请日:2021-12-17
Applicant: 厦门钨业股份有限公司
IPC: C23C16/452 , C23C16/44 , C23C16/14 , C22B34/36 , C22B7/00
Abstract: 本发明涉及化学气相沉积技术领域,特别涉及一种碳掺杂化学气相沉积钨涂层的装置,包括相连通的活化回收炉和沉积炉,活化回收炉内设有活化区及活化区周侧的尾气回收区;活化区的一端连接有第一进气管,活化区的另一端通过活化管路与沉积炉的进气端相连接;尾气回收区的一端分别与回收管路和第四进气管相连接,尾气回收区的另一端与尾气处理机构相连接,回收管路与沉积炉的排气端相连接;沉积炉内设有气体混合装置及沉积平台,气体混合装置分别与活化管路、第二进气管和第三进气管相连接;活化回收炉和沉积炉内均设有加热装置,在加热装置的作用下,所述活化回收炉内进行气体活化或尾气回收,所述沉积炉内进行沉积涂层,降低了反应成本和损耗。
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公开(公告)号:CN114293173A
公开(公告)日:2022-04-08
申请号:CN202111555171.7
申请日:2021-12-17
Applicant: 厦门钨业股份有限公司
IPC: C23C16/452 , C23C16/44 , C23C16/14 , C22B34/36 , C22B7/00
Abstract: 本发明涉及化学气相沉积技术领域,特别涉及一种碳掺杂化学气相沉积钨涂层的装置,包括相连通的活化回收炉和沉积炉,活化回收炉内设有活化区及活化区周侧的尾气回收区;活化区的一端连接有第一进气管,活化区的另一端通过活化管路与沉积炉的进气端相连接;尾气回收区的一端分别与回收管路和第四进气管相连接,尾气回收区的另一端与尾气处理机构相连接,回收管路与沉积炉的排气端相连接;沉积炉内设有气体混合装置及沉积平台,气体混合装置分别与活化管路、第二进气管和第三进气管相连接;活化回收炉和沉积炉内均设有加热装置,在加热装置的作用下,所述活化回收炉内进行气体活化或尾气回收,所述沉积炉内进行沉积涂层,降低了反应成本和损耗。
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公开(公告)号:CN211742660U
公开(公告)日:2020-10-23
申请号:CN201922163894.7
申请日:2019-12-05
Applicant: 核工业西南物理研究院 , 厦门钨业股份有限公司
IPC: G21B1/13
Abstract: 本实用新型属于聚变反应堆技术,具体涉及一种用于聚变反应堆的具有阻氚功能的第一壁。包括沉积层、中间层和基底,沉积层为钨涂层,直接接触等离子体,中间层为阻氚涂层,位于沉积层和基底之间。用钨涂层取代钨块,满足第一壁工况要求和使用寿命要求且提高了第一壁结构的重量和经济性。显著降低等离子体运行过程中的感应电流及相应的电磁载荷,既能够满足聚变反应堆中第一壁的苛刻工况要求,又减小了第一壁部件中氚滞留量,从而提高了聚变反应堆氚循环效率,降低了氚增殖和氚供给的需求。
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