-
公开(公告)号:CN117701966A
公开(公告)日:2024-03-15
申请号:CN202311721192.0
申请日:2023-12-14
Applicant: 厦门钨业股份有限公司
Abstract: 本发明提供了一种钨合金材料及其制备方法与应用,以质量百分数计,所述钨合金材料的制备原料包括90‑93wt%的钨,0.1‑1wt%的添加剂以及余量的粘结相材料;所述添加剂包括氢化铪、氢化钛或氢化锆中的任意一种或至少两种的组合;本发明提供的钨合金材料具有1550MPa以上的室温拉伸强度,10%以上的室温断裂伸长率以及80J/cm2以上的室温冲击韧性,适用于穿甲材料。
-
公开(公告)号:CN117660916A
公开(公告)日:2024-03-08
申请号:CN202311632948.4
申请日:2023-11-29
Applicant: 厦门钨业股份有限公司
Abstract: 本发明属于厚钨涂层生产制备的技术领域,公开了一种细晶强化的厚钨涂层及其制备方法和面对等离子体部件。本发明提供的厚钨涂层具有细小柱状晶微观组织,细小柱状晶微观组织中柱状晶平均宽度≤50μm,且该厚钨涂层是通过在化学沉积的过程中引入活化正丙胺以及采用多次化学气相沉积和退火处理交替进行的特殊处理方式制备获得的,具有优秀的导热性能和力学性能,应用前景良好。
-
公开(公告)号:CN114293173B
公开(公告)日:2024-02-09
申请号:CN202111555171.7
申请日:2021-12-17
Applicant: 厦门钨业股份有限公司
IPC: C23C16/452 , C23C16/44 , C23C16/14 , C22B34/36 , C22B7/00
Abstract: 本发明涉及化学气相沉积技术领域,特别涉及一种碳掺杂化学气相沉积钨涂层的装置,包括相连通的活化回收炉和沉积炉,活化回收炉内设有活化区及活化区周侧的尾气回收区;活化区的一端连接有第一进气管,活化区的另一端通过活化管路与沉积炉的进气端相连接;尾气回收区的一端分别与回收管路和第四进气管相连接,尾气回收区的另一端与尾气处理机构相连接,回收管路与沉积炉的排气端相连接;沉积炉内设有气体混合装置及沉积平台,气体混合装置分别与活化管路、第二进气管和第三进气管相连接;活化回收炉和沉积炉内均设有加热装置,在加热装置的作用下,所述活化回收炉内进行气体活化或尾气回收,所述沉积炉内进行沉积涂层,降低了反应成本和损耗。
-
公开(公告)号:CN114293173A
公开(公告)日:2022-04-08
申请号:CN202111555171.7
申请日:2021-12-17
Applicant: 厦门钨业股份有限公司
IPC: C23C16/452 , C23C16/44 , C23C16/14 , C22B34/36 , C22B7/00
Abstract: 本发明涉及化学气相沉积技术领域,特别涉及一种碳掺杂化学气相沉积钨涂层的装置,包括相连通的活化回收炉和沉积炉,活化回收炉内设有活化区及活化区周侧的尾气回收区;活化区的一端连接有第一进气管,活化区的另一端通过活化管路与沉积炉的进气端相连接;尾气回收区的一端分别与回收管路和第四进气管相连接,尾气回收区的另一端与尾气处理机构相连接,回收管路与沉积炉的排气端相连接;沉积炉内设有气体混合装置及沉积平台,气体混合装置分别与活化管路、第二进气管和第三进气管相连接;活化回收炉和沉积炉内均设有加热装置,在加热装置的作用下,所述活化回收炉内进行气体活化或尾气回收,所述沉积炉内进行沉积涂层,降低了反应成本和损耗。
-
公开(公告)号:CN110453166A
公开(公告)日:2019-11-15
申请号:CN201910874706.3
申请日:2019-09-17
Applicant: 厦门钨业股份有限公司 , 南京理工大学
Abstract: 本发明公开了一种提高纯钼块材塑性的制备方法,所述纯钼块材中钼的含量为99.95wt%以上,所述纯钼块材的制备包括如下步骤:选取纯度99.9wt%以上的钼粉作为原料的工序;将所述钼粉经过压制制成生坯的工序;将所述生坯经过烧结制成烧结坯,使所述烧结坯的相对密度为94.5%-98%的工序;将所述烧结坯进行锻造和真空热处理的工序;所述钼粉的氧含量在500ppm以下,所述钼粉的费氏粒度为1.7μm-3.5μm,所述钼粉的松装密度为0.75g/cm3-3.0g/cm3。上述方法通过原料性能控制,结合过程工艺调整,制得的纯钼块材塑性显著提升,塑性延展率达到钼合金水平。
-
公开(公告)号:CN211742660U
公开(公告)日:2020-10-23
申请号:CN201922163894.7
申请日:2019-12-05
Applicant: 核工业西南物理研究院 , 厦门钨业股份有限公司
IPC: G21B1/13
Abstract: 本实用新型属于聚变反应堆技术,具体涉及一种用于聚变反应堆的具有阻氚功能的第一壁。包括沉积层、中间层和基底,沉积层为钨涂层,直接接触等离子体,中间层为阻氚涂层,位于沉积层和基底之间。用钨涂层取代钨块,满足第一壁工况要求和使用寿命要求且提高了第一壁结构的重量和经济性。显著降低等离子体运行过程中的感应电流及相应的电磁载荷,既能够满足聚变反应堆中第一壁的苛刻工况要求,又减小了第一壁部件中氚滞留量,从而提高了聚变反应堆氚循环效率,降低了氚增殖和氚供给的需求。
-
-
-
-
-