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公开(公告)号:CN107922189A
公开(公告)日:2018-04-17
申请号:CN201680048410.0
申请日:2016-08-08
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 本发明的目的在于,提供能够以高效率生成臭氧的臭氧发生器。本发明的臭氧发生器的特征在于,其具备:原料气体供给单元,其供给含有氧的原料气体;气体流路形成部件,其形成供来自该原料气体供给单元的原料气体流通的气体流路;和紫外线光源,其配置在该气体流路内并放射紫外线,并且该臭氧发生器通过对在该气体流路中流通的原料气体照射来自该紫外线光源的紫外线,从而使原料气体中的氧吸收紫外线而生成臭氧,其中,所述紫外线光源由放射波长为200nm以下的紫外线的准分子灯构成,在所述气体流路中,在配置有紫外线光源的区域中的原料气体的流速为0.1m/s以上。
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公开(公告)号:CN115868465A
公开(公告)日:2023-03-31
申请号:CN202210857443.7
申请日:2022-07-20
Applicant: 优志旺电机株式会社
Inventor: 内藤敬祐
Abstract: 提供害虫驱除装置、害虫驱除方法以及害虫驱除系统,能够在降低对人体的有害性的同时有效地获得杀虫效果。害虫驱除装置具备:诱虫部,其发出对作为驱除对象的虫进行引诱的引诱要素;光源部,其对诱虫部及其周边区域的至少一部分放射波长为190nm以上且小于240nm的紫外线;以及控制部,其控制光源部的点亮。另外,害虫驱除装置也可以具备:光源部,其放射波长为190nm以上且小于240nm的紫外线;支承部,其将光源部支承为对作为驱除对象的虫可能往来和/或停留的固定区域照射紫外线;以及控制部,其控制光源部的点亮。
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公开(公告)号:CN114569771A
公开(公告)日:2022-06-03
申请号:CN202111078356.3
申请日:2021-09-15
Applicant: 优志旺电机株式会社
Abstract: 能够有效并且更适当地进行使用了抑制对人体的不良影响的波长范围的紫外线的微生物和/或病毒的灭活。灭活装置具备:光源部,放射在190nm~235nm的波长频带具有中心波长的紫外线;感测部,对于对象空间内是否存在人进行感测;以及控制部,对光源部的点亮状态进行控制。控制部以如下方式进行控制:具备在感测部感测到人的存在的期间执行的第一点亮动作和在感测部未感测到人的存在的期间执行的第二点亮动作,对从光源部放射的紫外线量进行变更,第一点亮动作中的紫外线的平均照度被控制为比第二点亮动作中的紫外线的平均照度低。
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公开(公告)号:CN114225618A
公开(公告)日:2022-03-25
申请号:CN202111549375.X
申请日:2018-12-12
Applicant: 优志旺电机株式会社
Inventor: 内藤敬祐
Abstract: 目的在于提供一种能够将难以由臭氧(O3)分解的成分也高效地分解的气体处理装置。气体处理装置具备:筒状的壳体;进气口,将含有氧以及水分的被处理气体向壳体的内侧导入;准分子灯,收容于壳体的内侧,并填充有放电用气体,包括沿着第一方向延伸的管体;排气口,将被照射了从准分子灯射出的紫外线的被处理气体向壳体的外侧导出;以及遮风部件,在从第一方向观察时,以包围管体的方式、或者以夹着管体的方式配置。遮风部件至少配置于管体的所述第一方向的端部中的靠近进气口一侧的端部与管体的第一方向的中央部之间的位置。
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公开(公告)号:CN111919279A
公开(公告)日:2020-11-10
申请号:CN201980020356.2
申请日:2019-05-07
Applicant: 优志旺电机株式会社
Inventor: 内藤敬祐
Abstract: 本发明提供能够抑制污染物质附着于表面并且在附着有污染物质的情况下也能够容易地除去的透光性材料及具备由该透光性材料构成的发光管的灯以及利用了该透光性材料的气体处理装置及气体处理方法。本发明的透光性材料是在玻璃基体的表面形成纳米二氧化硅粒子的表层而成的。本发明的灯具备由上述透光性材料构成的发光管,上述表层形成于发光管的外表面。本发明的气体处理装置具备在内部具有供被处理气体流通的处理室的腔室及以至少发光管的一部分露出于上述处理室的方式配置的紫外线灯,在紫外线灯中的发光管的外表面形成有纳米二氧化硅粒子的表层。
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公开(公告)号:CN111050846A
公开(公告)日:2020-04-21
申请号:CN201880055329.4
申请日:2018-09-05
Applicant: 优志旺电机株式会社
Inventor: 内藤敬祐
Abstract: 本发明涉及一种通过照射紫外线进行杀菌处理的方法,其能够抑制对人体的影响,进而还能够抑制紫外线照射后产生的异味。该杀菌方法具有下述工序:对手指或手臂的皮肤照射波长200nm以上且230nm以下的紫外线的工序(a),和在所述皮肤的照射了所述紫外线的区域涂布含有选自以下的氨基酸组A中的至少一种氨基酸或氨基酸衍生物而成的皮肤外用剂、化妆品、或水溶液的工序(b)(氨基酸组A:缬氨酸、亮氨酸、异亮氨酸、谷氨酸、精氨酸、丝氨酸、天冬氨酸、脯氨酸、甘氨酸)。
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