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公开(公告)号：CN113568279B
公开(公告)日：2024-01-02
申请号：CN202110802368.X
申请日：2021-07-15
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于多模光纤阵列输入光场调制的超分辨直写式光刻系统，采用两个空间光调制器分别对两束不同波长的入射光进行预调制，使两束光通过同一根多模光纤出射后，在距离光纤出射端面一定远处的平面上聚焦。从多模光纤出射的圆形激发光斑和环形抑制光斑同心且环形光斑覆盖住圆形光斑的大部分外围区域。本发明配合特制的负性光刻胶使用，通过激发光和抑制光同时作用于光刻胶，即可使实际被固化的光刻胶体素尺寸小于衍射极限的限制。通过改变空间光调制器所加载的相位图，无需机械位移装置即实现在某一平面小区域内的逐点扫描式光刻。通过多路复用上述结构，实现平面大区域的逐点扫描；再结合z方向位移台，实现三维立体结构的光刻。
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公开(公告)号：CN116309073B
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202310320880.X
申请日：2023-03-24
IPC: G06T3/40 , G06N3/0455 , G06N3/0464 , G06N3/048 , G06N3/08
Abstract: 一种基于深度学习的低对比度条纹SIM重建方法，包括：首先制作低对比度条纹SIM图像训练数据集；然后构建并训练低对比度SIM超分辨神经网络；最后实现低对比度条纹SIM实验数据的超分辨重建。本发明还包括一种基于深度学习的低对比度条纹SIM重建系统。本发明可以在低对比度照明条纹的情况下，实现高质量和高分辨SIM图像重建。克服了传统SIM技术对照明条纹对比度的依赖，大大扩展其应用范围；本发明所需的低对比度条纹SIM图像训练集可以通过仿真得到，无需实验获取，大大降低了训练集的制作难度；本发明不增加任何系统复杂度，可基于任何已有SIM系统实现，具有广泛的应用范围。
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公开(公告)号：CN116572533A
公开(公告)日：2023-08-11
申请号：CN202310259330.1
申请日：2023-03-13
IPC: B29C64/386 , B29C64/268 , B33Y50/00
Abstract: 本发明公开了一种基于转镜的三维阵列打印系统的激光直写打印方法，包括：基于最大刻写长度刻写的直线中选取粗细均匀且连续的线段，作为转镜的有效刻写长度；根据预设打印参数和有效刻写长度，计算获得打印平台的单次移动距离；根据预设打印参数，有效刻写长度以及单次移动距离，生成一个或多个连续垂直分布于转镜扫描平面的二维刻写数据文件；根据预设的刻写功率，二维刻写数据文件输入至三维阵列打印系统中，通过刻写激光对打印平台上的刻写材料进行循环输出，获得所述三维结构对应的阵列打印件。本发明还提供了一种激光直写打印方法。本发明提供的方法可以有效解决实际三维刻写过程中耗时过长的问题。
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公开(公告)号：CN116564361A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310266267.4
申请日：2023-03-13
IPC: G11B7/0045 , G03F7/20 , G11B7/126 , G11B7/1353
Abstract: 本发明公开了一种基于转镜的高速刻录系统的光存储方法，所述光存储方法基于高速刻录系统实现，包括：一、编码包括数据信息和刻录坐标的待存储数据，获得对应的二进制编码；二、调整二进制编码，获得存储编码；三、校准高速数字输出卡和确定刻录基底面；四、根据存储编码生成对应的光强波形数据并存入校准好的高速数字输出卡中；五、校准物镜与刻录基底面之间的光学球差，控制刻录激光进行y轴方向的刻录操作；六、调节物镜焦距的偏移量，并重复步骤五，直至完成z轴方向上所有存储编码的刻录，获得三维体存储数据。本发明还提供了一种光存储装置。本发明提供的方法解决了现有技术中数据存储时间过长的问题，提高了刻录的成功率和精确性。
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公开(公告)号：CN115248538B
公开(公告)日：2022-12-27
申请号：CN202211157008.X
申请日：2022-09-22
Abstract: 本发明公开了一种DMD无掩膜光刻机的投影物镜镜头，从入射方向开始依次设置：具有正光焦度第一透镜组；光阑；具有负光焦度第二透镜组；具有正光焦度第三透镜组；其中：第一透镜组接收从DMD出射的光线，包含3个光焦度依次为负、正、负的透镜；第二透镜组收集从第一透镜组出射的光线，并将其出射至第三透镜组，第二透镜组包含四个光焦度依次为正、负、正、负的透镜；第三透镜组收集从第二透镜组出射的光线，并将其聚焦于基底，第三透镜组包含4个光焦度依次为正、正、正、负的透镜；所述透镜均处于同一光轴。本发明能校正多种像差，特别是畸变、场曲、像散、轴向色差、倍率色差。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN112684572B
公开(公告)日：2022-03-29
申请号：CN202110081498.9
申请日：2021-01-21
Abstract: 本发明提出一种兼具自动调平功能的自动对焦方法及装置，该装置包括：激光光源，用于产生对焦光束；分束装置，用于通过两块沃拉斯顿棱镜将单束对焦光束分束为四束对焦光束；合束聚焦系统，用于将对焦光束与光学系统工作光束合束，并将对焦光束聚焦为在物镜后焦面的四个呈菱形分布的对焦光斑；镜面角锥棱镜，用于将四束对焦光束分开；共焦强度探测装置，用于将对焦光斑共焦成像，并探测像点位置的光强变化；反馈运动机构，用于将探测到的光强变化转化为相应的反馈控制信号，并根据信号驱动运动机构，带动对焦对象旋转或平移，完成自动调平和自动对焦。本发明与现有对焦装置相比，增加了自动调平功能，极大的扩展了该装置的应用范围。
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公开(公告)号：CN113703170A
公开(公告)日：2021-11-26
申请号：CN202110886687.3
申请日：2021-08-03
Abstract: 本发明公开了一种新型三维中空形光场调控方法和装置，属于光学工程领域。该方法使用两种旋向相反的0‑2π涡旋相位板对偏振光的两个分量分别调至，在转化成圆偏光，两个分量的光干涉形成一种复杂的柱状矢量偏振光，聚焦形成新型三维中空光场。该装置，包括起偏器、半波片、滤波透镜、滤波小孔、准直透镜、第一锥透镜、第二锥透镜、DMD、SLM，第一1/4波片、反射镜和第二1/4波片。相对于传统的方法产生更高质量的3D HLF，并且利用SLM的偏振选择特性，可以采用单路光形成3D HLF且不产生相干缺陷。本发明采用SLM调控光束可以同时实现像差优化，采用环形光束可以挡掉中心低频部分进一步提高光束质量。
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公开(公告)号：CN113515016A
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN202110388077.0
申请日：2021-04-12
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于DMD数字掩膜的双光束激光直写方法和装置，该装置包括两路光，每路光各含一个DMD加载相应的数字图形，其中一路光中的DMD加载待刻写的实心图形，用于引发光刻胶的聚合反应；另一路光中的DMD加载所述实心图形对应边缘的空心图形，用于抑制光刻胶的聚合反应；将两路光进行合束后使两个图形投影到样品面上并实现严格对准。本发明通过DMD产生数字掩膜在实现快速面直写的基础上，通过双路激光分别进行引发和抑制光刻胶聚合可提高直写分辨率。利用本发明，有望实现高速高分辨激光直写，为纳米加工技术实现大批量生产提供新思路。
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公开(公告)号：CN112904526A
公开(公告)日：2021-06-04
申请号：CN202110082908.1
申请日：2021-01-21
Abstract: 本发明提出一种基于差动共焦探测具有抗噪能力的高精度自动对焦方法及装置，该方法包括：产生对焦光束，经由凹透镜和电控变焦透镜组成的透镜组，与光学系统工作光束合束；对焦光束经对焦对象中的对焦平面反射，由原光路返回，再由分束镜反射入差分共焦探测机构进行光强测量；在测量过程中，对电控变焦透镜偏置高频周期性变化信号，将差分共焦探测机构测量到的静态差分信号转换为具有抗噪性能的动态差动信号；根据差动信号变化，产生反馈调整信号，自动补偿离焦量，实现自动对焦。本发明将静态光强信号差分共焦探测转化为动态光强信号差动共焦探测。通过此方法减少了系统的随机误差，提高了系统的抗噪性能，进一步增加了对焦精度。
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公开(公告)号：CN110568731B
公开(公告)日：2020-10-30
申请号：CN201910853722.4
申请日：2019-09-10
Abstract: 本发明公开了一种超衍射极限焦斑阵列生成装置。该装置使激发光束或交联光束经过相位调制，从而在样品面产生实心焦斑阵列；使淬灭光束或去交联光束经过相位调制，从而在样品面产生空心焦斑阵列，并使这两个焦斑阵列对准，最终在样品面上产生超衍射极限的焦斑阵列。上述过程由于是通过相位调制的方式产生焦斑阵列，所以生成的焦斑数量可以为任意多个，从而实现高通量的超分辨成像与激光直写，与已有的方法相比，本发明所公开的系统可以进行高速并行超分辨成像与激光直写。
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