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公开(公告)号：CN114019764A
公开(公告)日：2022-02-08
申请号：CN202111240495.1
申请日：2021-10-25
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种超分辨激光直写与成像方法与装置，该装置包括三个光源，分别为引发光刻胶产生聚合反应的激发光光源，激发光刻胶中发光的荧光染料分子从基态到激发态的激发光，抑制光刻胶聚合并同时使荧光染料分子产生受激辐射的抑制光光源或损耗光光源，抑制光与损耗光为同一个光源。其中，引发光刻胶聚合的激发光经过准直最后通过物镜在样品面上汇聚成圆形实心光斑；抑制光经过准直后，再通过相位掩膜调制相位，最后由物镜汇聚到样品面上形成环形空心光斑；光刻胶中荧光染料的激发光经过准直最后通过物镜在样品面上汇聚形成圆形实心光斑。本发明可以实现纳米结构刻写完成后直接的光学成像，无需进行电镜成像，使操作更为简单。
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公开(公告)号：CN113670438B
公开(公告)日：2022-01-18
申请号：CN202111233519.0
申请日：2021-10-22
Applicant: 之江实验室
IPC: G01J1/42
Abstract: 本发明公开了一种小型化的光束漂移检测装置及方法，该装置包括二分之一波片、分束镜、第一位置探测器、四分之一波片、球面反射镜、第二位置探测器，入射光束首先依次通过所述二分之一波片和分束镜，被分解为第一光束与第二光束，所述第一光束入射到所述第一位置探测器的探测面上，所述第二光束依次经过所述四分之一波片和球面反射镜反射后，再经过所述分束镜透射入射到所述第二位置探测器的探测面上。这样降低防漂系统复杂度，实现防漂系统小型化。再采用位置探测器获取光斑位置，进而计算获得入射光束在原坐标系中的位置偏移量和角度偏差量，从而实现高精度光束漂移的检测。
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公开(公告)号：CN113670438A
公开(公告)日：2021-11-19
申请号：CN202111233519.0
申请日：2021-10-22
Applicant: 之江实验室
IPC: G01J1/42
Abstract: 本发明公开了一种小型化的光束漂移检测装置及方法，该装置包括二分之一波片、分束镜、第一位置探测器、四分之一波片、球面反射镜、第二位置探测器，入射光束首先依次通过所述二分之一波片和分束镜，被分解为第一光束与第二光束，所述第一光束入射到所述第一位置探测器的探测面上，所述第二光束依次经过所述四分之一波片和球面反射镜反射后，再经过所述分束镜透射入射到所述第二位置探测器的探测面上。这样降低防漂系统复杂度，实现防漂系统小型化。再采用位置探测器获取光斑位置，进而计算获得入射光束在原坐标系中的位置偏移量和角度偏差量，从而实现高精度光束漂移的检测。
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公开(公告)号：CN113515017A
公开(公告)日：2021-10-19
申请号：CN202110388078.5
申请日：2021-04-12
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于声光偏转（AOD）扫描的双光束高速激光直写方法和装置，该装置包括两路光，其中一路光在汇聚到样品面上产生实心光斑，用于激发光刻胶的聚合反应；另一路光汇聚到样品面上产生空心光斑，用于抑制或终止光刻胶聚合反应中的某个关键步骤，从而抑制光聚合反应。两束光进行对准合束后经过两个紧靠并互相垂直放置着的AOD，其中一个进行x方向扫描，另一个进行y方向扫描，两者同时实现光束在样品面上高速高精度的二维扫描。利用本发明，有望实现速度和分辨率分别达10^6点/s和亚50 nm的高速、超分辨激光直写，为超分辨激光微纳加工技术提高加工效率提供有力支撑。
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公开(公告)号：CN113059807A
公开(公告)日：2021-07-02
申请号：CN202110293324.9
申请日：2021-03-18
IPC: B29C64/264 , B29C64/20 , B29C64/10 , B33Y30/00 , B33Y10/00
Abstract: 本发明公开一种基于均匀活性光片的高轴向分辨率三维打印方法和装置。该方法将连续光整形及分束后，得到两束相同的准直激光光片，并对称入射在样品池中完全重叠为一个均匀光薄片，该光薄片区域引发剂被激发到活性态，通过另一束宽带光照射活性态引发剂可引发聚合反应，该宽带光从正交方向入射到光薄片，避免了聚合反应的累积效应，可获得高洁净度的刻写结构，光薄片未被宽带光照射的区域不发生聚合反应，宽带光光场结构高速切换，可进行任意结构的刻写，宽带光在活性薄片中实现时空同步聚焦，轴向功率梯度大，具有高轴向分辨率。该方法与装置可实现高洁净度高轴向分辨率的三维复杂结构高通量刻写，可应用于超分辨光刻等领域。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113703170B
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202110886687.3
申请日：2021-08-03
Abstract: 本发明公开了一种新型三维中空形光场调控方法和装置，属于光学工程领域。该方法使用两种旋向相反的0‑2π涡旋相位板对偏振光的两个分量分别调至，在转化成圆偏光，两个分量的光干涉形成一种复杂的柱状矢量偏振光，聚焦形成新型三维中空光场。该装置，包括起偏器、半波片、滤波透镜、滤波小孔、准直透镜、第一锥透镜、第二锥透镜、DMD、SLM，第一1/4波片、反射镜和第二1/4波片。相对于传统的方法产生更高质量的3D HLF，并且利用SLM的偏振选择特性，可以采用单路光形成3D HLF且不产生相干缺陷。本发明采用SLM调控光束可以同时实现像差优化，采用环形光束可以挡掉中心低频部分进一步提高光束质量。
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公开(公告)号：CN113093480B
公开(公告)日：2024-02-13
申请号：CN202110403505.2
申请日：2021-04-15
Abstract: 本发明公开了一种并行曝光抑制超衍射极限激光直写物镜。该物镜由12片正光焦度镜片，8片负光焦度镜片共20片镜片构成，其中5片镜片采用火石玻璃、15片镜片采用冕牌玻璃构，且8片为超低色散镜片。该物镜数值孔径约为1.4、波长522nm‑790nm范围内光的垂轴色差小于5.1nm、物方视场角±4.2°，像方线视场约1mm，可将用于边缘曝光抑制超衍射极限激光直写的两波长激光聚焦在直径1μm以内，且两波长焦点在全视场范围内重合，达到边缘曝光抑制的效果，最终实现特征线宽小于衍射极限的超衍射极限激光直写。利用本发明聚焦得到的激光光斑，可广泛应用于边缘曝光抑制超衍射极限激光直写。
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公开(公告)号：CN113515017B
公开(公告)日：2024-01-09
申请号：CN202110388078.5
申请日：2021-04-12
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于声光偏转（AOD）扫描的双光束高速激光直写方法和装置，该装置包括两路光，其中一路光在汇聚到样品面上产生实心光斑，用于激发光刻胶的聚合反应；另一路光汇聚到样品面上产生空心光斑，用于抑制或终止光刻胶聚合反应中的某个关键步骤，从而抑制光聚合反应。两束光进行对准合束后经过两个紧靠并互相垂直放置着的AOD，其中一个进行x方向扫描，另一个进行y方向扫描，两者同时实现光束在样品面上高速高精度的二维扫描。利用本发明，有望实现速度和分辨率分别达10^6点/s和亚50 nm的高速、超分辨激光直写，为超分辨激光微纳加工技术提高加工效率提供有力支撑。
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公开(公告)号：CN112326672B
公开(公告)日：2023-12-19
申请号：CN202011232223.2
申请日：2020-11-06
IPC: G01N21/88 , G01N21/958 , G01N21/01
Abstract: 本发明公开了一种基于多色并行移频照明的快速成像系统，包括光源、显微物镜、管镜、多色图像探测器阵列、控制模块和数据处理模块，光源包括垂直照明光源和两组以上倾斜照明光源；同一组倾斜照明光源的照明波长相同，不同组倾斜照明光源的照明波长不同；垂直照明光源的照明波长与任一组倾斜照明光源的照明波长不同，或与其中一组倾斜照明光源的照明波长相同。本发明利用照明光场的波长差异性，通过控制模块并行施加多色倾斜照明光场，利用多色图像探测器阵列快速并行采集各照明波长下被观测样品的远场像；借助数据处理模块，结合移频重构算法获取被观测样品宽频段空间频谱信息，重构恢复被观测样品的像，快速提升整个显微系统的成像速度。
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公开(公告)号：CN114019765B
公开(公告)日：2023-09-19
申请号：CN202111240501.3
申请日：2021-10-25
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于边缘光抑制的双光束共路相位调制激光直写方法与装置，包括引发光刻胶产生聚合反应的激发光源和抑制（或中断）光刻胶聚合的抑制光源。两束准直光以互相垂直的线偏振态进行合束，合束后的两束光经过同一个空间光调制器（SLM）进行相位调制。将所述SLM分成两部分，对应偏振的激发光被SLM第一部分调制相位进行像差校正，最后经过物镜聚焦形成圆形实心光斑；与激发光偏振相垂直的抑制光被SLM第二部分调制相位，最后经过物镜聚焦形成环形空心光斑。激发光的圆形实心光斑与抑制光环形空心光斑中心重合。本发明通过将SLM进行区分复用，对基于边缘光抑制的激光直写技术的双光束同时进行光场调控，实现共路相位调制。
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