-
公开(公告)号：CN101858841B
公开(公告)日：2012-03-21
申请号：CN200910011065.5
申请日：2009-04-08
Applicant: 中国科学院金属研究所
IPC: G01N7/04
Abstract: 本发明公开了一种储氢合金热致吸放氢循环综合测试设备，该设备由气体循环系统，样品室加热冷却系统，计算机数据采集及控制系统组成。其中气体循环系统为测试系统提供真空环境和高纯氢气源；样品室加热冷却系统对测试样品进行快速加热冷却循环；计算机数据采集及控制系统控制加热冷却程序运行及相应的电磁阀、电动阀的开闭动作，并实时采集系统压力温度信号。该系统在完成储氢合金热致吸放氢循环寿命测试的同时可原位进行合金吸放氢性能如PCT曲线、动力学曲线及恒温吸放氢寿命的测试。
-
公开(公告)号：CN1699611A
公开(公告)日：2005-11-23
申请号：CN200410020566.7
申请日：2004-05-19
Applicant: 中国科学院金属研究所
Abstract: 本发明涉及一种轻质纳米复合储氢材料，由镁(Mg)与多壁纳米碳管(MWNTs)组成，其化学组成式为：Mg/(x－wt％) MWNTs，其中0＜x≤50；镁纳米晶被氢化并生成大量的纳米结构氢化相MgH2、多壁纳米碳管破碎体催化相，三者紧密接触且呈弥散均匀分布；其制备方法是将镁粉与多壁纳米碳管混合，在高纯氢气氛中催化反应球磨；该方法将复合材料的制备、活化及氢化合并一次性完成。本发明不仅具有储放氢能力大、吸放氢速度快、工作温度温和等优异综合性能，而且有着重量轻、成本低、资源丰富、储运安全等优点，可以广泛应用于氢的规模制备和储运、燃料电池的氢源载体、氢的净化提纯以及有机加氢催化等工程领域。
-
公开(公告)号：CN1696334A
公开(公告)日：2005-11-16
申请号：CN200410020531.3
申请日：2004-05-12
Applicant: 中国科学院金属研究所
Abstract: 本发明公开了一种透射电镜用薄膜样品的制备方法，具体步骤为：1)利用磁控溅射方法镀制金属或合金膜，磁控溅射以合金靶为负极，衬底为正极，背底真空度2.0～8.0×10－5Pa；气氛为Ar气氛，真空度6.5～7.5×10－1Pa；电流0.5～2A；电压100～300V；2)在金属或合金膜上冲出圆片；3)将圆片进行双喷减薄或者离子减薄制得电镜观察用的样品。本发明采用磁控溅射的方法，可以获得均匀、致密、易剥离的金属或合金膜，衬底上镀膜的厚度在5～9μm之间，可以直接将磁控溅射镀膜与双喷减薄或者离子减薄相结合制得电镜观察用的样品，解决了电镜用薄膜样品在传统机械减薄过程中容易受到污染、破碎和引入假象的问题。
-
公开(公告)号：CN116748736A
公开(公告)日：2023-09-15
申请号：CN202310526512.0
申请日：2023-05-11
Applicant: 核工业西南物理研究院 , 中国科学院金属研究所
Abstract: 本申请属于核聚变技术领域，具体涉及一种低活化铁素体/马氏体钢气体保护焊丝及其制备方法。该气体保护焊丝，按照质量百分含量计，包括：0.07％～0.15％的C；8.5％～9.5％的Cr；1.0％～1.5％的W；0.08％～0.18％的Ta；0.4％～0.8％的Mn；0.25％～0.4％的V；0.01％～0.04％的N；其余为Fe。该焊丝焊接熔敷金属中无高温δ铁素体脆性相产生，保证焊接接头及熔敷金属具有足够的低温韧性、强度和高温蠕变持久性能，其综合性能与母材具有很好的匹配性，不易产生气孔和裂纹，焊接工艺性良好，其抗拉强度＞700Mpa，屈服强度＞600MPa，延伸率大于15％，冲击值高，性能优于设计和标准RCC‑MRX 2018的要求值。
-
公开(公告)号：CN115491612A
公开(公告)日：2022-12-20
申请号：CN202211171551.5
申请日：2022-09-26
Applicant: 中国科学院金属研究所 , 核工业西南物理研究院
IPC: C22C38/04 , C22C38/22 , C22C38/24 , C22C38/26 , C22C38/28 , C22C38/38 , C21D1/18 , C21D8/02 , C22C33/06
Abstract: 本发明的目的在于提供一种高强度低活化钢及其制备方法，涉及低活化钢领域，所述低活化钢的成分为：Cr 8.0～9.0wt％，W 0.5～2.5wt％，Mn0.3～2.0wt％，Ta 0.02～0.2wt％，V 0.05～0.5wt％，Ti 0.05～0.4wt％，C0.03～0.2wt％，N 0～0.02wt％，其余为Fe。本发明通过对合金成分的优化并结合特殊的制备方法，可实现高密度的纳米级碳化物析出，从而大幅提高低活化钢的硬度以及高温(650℃)强度，并获得良好的综合性能，所述制备方法具有工艺简单、可批量生产、生产效率高等优点，适合推广应用。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN110004367B
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：CN201910347290.X
申请日：2019-04-28
Applicant: 中国科学院金属研究所 , 中广核研究院有限公司 , 中国广核集团有限公司 , 中国广核电力股份有限公司
Abstract: 本发明属于核电管材制备技术领域，具体公开了一种核燃料包壳材料用的氧化物弥散强化(ODS)FeCrAl合金管材的制备方法，旨在实现高强度ODS‑FeCrAl合金薄壁管材的国产化。该ODS‑FeCrAl合金管材的制备采用冷轧+道次热处理工艺，其特征在于：轧制速度控制在100～600转/分钟，管材变形量控制在10％～50％。每道次的热处理采用真空退火方式，退火温度为700℃～1050℃，保温时间为30～90分钟。本发明所述管材制备方法不会影响ODS‑FeCrAl合金中Y‑Al‑O氧化物强化相的颗粒大小和弥散状态，制得的管材具有晶粒细小、组织均匀的晶体结构，且ODS管材具有优异的强度和抗蠕变能力，以及优秀的抗氧化、辐照肿胀性能。
-
公开(公告)号：CN107226699B
公开(公告)日：2021-04-30
申请号：CN201610167537.6
申请日：2016-03-23
Applicant: 中国科学院金属研究所
IPC: H01L31/032 , C04B35/547 , C04B35/653
Abstract: 本发明的目的在于提供一种铜锌镓硒四元半导体合金及其制备方法，所述铜锌镓硒四元半导体合金其元素组成的原子比为：铜：0.8‑1，镓：0.7‑1，锌：0‑0.3，硒：2‑2.5，其中锌的摩尔份数不能等于0。通过对该铜锌镓硒四元半导体合金的物相、半导体物理参数分析，测试结果显示铜锌镓硒四元半导体合金是物相均一的黄铜矿半导体合金，为P型半导体。
-
公开(公告)号：CN112593161A
公开(公告)日：2021-04-02
申请号：CN202011304463.9
申请日：2020-11-19
Applicant: 中国科学院金属研究所
Abstract: 本发明提供了一种高强度Sc复合纳米氧化物弥散强化Fe基合金及其制备方法，所述合金中起强化作用的氧化物是Sc‑Al‑O或Sc‑Ti‑O复合纳米氧化物。该合金按质量百分含量配比为：Sc 0.1～1.5％，Al 0.0～10.0％，Cr 9.0～25.0％，Ti 0.0～0.6％，O 0.05～0.35％，W 0.0～4.0％，其余为Fe。其制备步骤包括：(1)根据合金组分，雾化制取Fe基合金粉末；(2)将Fe基合金粉末与适量氧化物或氧化物和氢化物混合粉末混合在一起，在高纯氩气或氢气保护下球磨制得机械合金化粉末；(3)将球磨的合金粉末真空封装，通过热等静压或热挤压实现粉体到合金的固化。使用该方法可以有效控制合金氧含量，获得颗粒尺寸细小、均匀分布、结构稳定的Sc‑Al‑O或Sc‑Ti‑O纳米氧化物，使得合金具有优异的室温和高温力学性能。
-
公开(公告)号：CN109594017A
公开(公告)日：2019-04-09
申请号：CN201811422686.8
申请日：2018-11-27
Applicant: 中国科学院金属研究所 , 中广核研究院有限公司 , 中国广核集团有限公司 , 中国广核电力股份有限公司
CPC classification number: C22C38/06 , C21D8/105 , C22C32/0026 , C22C33/0285 , C22C38/005 , C22C38/02 , C22C38/22 , C22C38/24 , C22C38/28
Abstract: 一种氧化物弥散强化FeCrAl合金管材的制备方法。本发明属于核电管材制备技术领域，具体公开了一种核燃料包壳材料用的氧化物弥散强化(ODS)FeCrAl合金管材的制备方法，旨在实现高强度ODS-FeCrAl合金薄壁管材的国产化。该ODS-FeCrAl合金管材的制备采用冷轧+道次热处理工艺，其特征在于：轧制速度控制在100～600转/分钟，管材变形量控制在10％～50％。每道次的热处理采用真空退火方式，退火温度为700℃～1150℃，保温时间为30～90分钟。本发明所述管材制备方法不会影响ODS-FeCrAl合金中Y-Al-O氧化物强化相的颗粒大小和弥散状态，制得的管材具有晶粒细小、组织均匀的晶体结构，且ODS管材具有优异的强度和抗蠕变能力，以及优秀的抗氧化、辐照肿胀性能。
-
公开(公告)号：CN109576668A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201811329249.1
申请日：2018-11-09
Applicant: 中国科学院金属研究所 , 沈阳华迅真空科技有限公司
Abstract: 本发明目的是提供在长管材外表面进行高效、高质量金属膜材的磁控溅射制备专用装置，其中，真空室与真空生成系统和充气系统相连通，真空室内部设有环形靶溅射系统、反溅射清洗系统；伺服传动系统与磁力耦合传动系统相连；磁力耦合传动系统设有外部磁环、前挡管、后挡管、支撑管、支撑杆，支撑管套在支撑杆外，前、后挡管套在支撑管外，后挡管与支撑管及外部磁环的N极固定在一起，外部磁环的N极外设有S极磁铁，前、后挡管中间位置用于固定镀膜管；支撑杆贯穿真空室，其位于真空室镀膜管材入口处设有管材芯部加热系统；电源系统分别连接真空生成系统、充气系统、环形靶溅射系统、伺服传动系统、管材芯部加热系统、反溅射系统、循环水冷却系统。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
56
records
(took 0.033 seconds)
